Главная » Просмотр файлов » Диссертация

Диссертация (1143771), страница 20

Файл №1143771 Диссертация (Разработка технологии скоростного глубокого плазмохимического травления монокристаллического кварца, карбида кремния и ниобата лития при малой мощности) 20 страницаДиссертация (1143771) страница 202019-06-23СтудИзба
Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла (страница 20)

// Journal of Micromechanics and Microengineering. – 2017. – V. 27. – № 9. – P.095004 (12 pp.).Luna, L.E. SiC Wafer Bonding and Deep Reactive Ion Etching Towards High-Aspect RatioSiC MEMS Fabrication / L.E. Luna, K.D. Hobart, et al. // ECS Transactions. – 2018.

– V. 86. –№ 5. – P. 105-110.Gutzow, I. Crystalline and amorphous modifications of silica: structure, thermodynamicproperties, solubility, and synthesis / in Glass: Selected properties and crystallization / I.Gutzow, R. Pascova, et al., ed. by Jurn W.P. Schmelzer. – Walter de Gruyter GmbH,Berlin/Boston, 2017. – P. 137-196.Рабухин, А.И. Физическая химия тугоплавких неметаллических силикатных соединений /А.И.

Рабухин, В.Г. Савельев. – М.: ИНФРА-М, 2004. – 304 с.Займан, Дж. Модели беспорядка / Дж. Займан. – М.: Мир, 1982. – 592 с.Lee, S. Photolithography and selective etching of an array of quartz tuning fork resonators withimproved impact resistance characteristics / S. Lee // Japanese Journal of Applied Physics. –2001.

– V. 40. – № 8. – P. 5164-5167.Li, L. Fabrication of miniaturized bi-convex quartz crystal microbalance using reactive ionetching and melting photoresist / L. Li, T. Abe, M. Esashi // Sensors and Actuators A: Physical.– 2004. – V. 114. – № 2-3. – P. 496-500.Madni, A.M. A Micromachine Quartz Angular Rate Sensor for Automative and AdvancedInertial Applications-BEI Gyro Chip, consisting of a unique micromachined double-endedquartz tuning fork and advanced / A.M. Madni, R.D. Geddes // Sensors: the Journal of AppliedSensing Technology.

– 1999. – V. 16. – № 8. – P. 26-38.13956.57.58.59.60.61.62.63.64.65.66.67.68.69.70.71.72.73.74.Knieling, T. Microlens array production in a microtechnological dry etch and reflow process fordisplay applications / T. Knieling, M. Shafi, et al. // Journal of the European Optical Society Rapid publications. – 2012.

– V. 7. – P. 12007-1-12007-4.Liu, C.H. Large-area micro/nanostructures fabrication in quartz by laser interferencelithography and dry etching / C.H. Liu, M.H. Hong, et al. // Applied Physics A. – 2010. – V.101. – № 2. – P. 237-241.Zeze, D.A. Reactive ion etching of quartz and Pyrex for microelectronic applications / D.A.Zeze, R.D. Forrest, et al. // Journal of Applied Physics.

– 2002. – V. 92. – № 7. – P. 3624-3629.Wang, J. One-step microfabrication of fused silica by laser ablation of an organic solution / J.Wang, H. Niino, A. Yabe // Applied Physics A: Materials Science & Processing. – 1999. – V.68. – № 1. – P. 111-113.Verpoorte, E. Microfluidics meets MEMS / E. Verpoorte, N.F. De Rooij // Proceedings of theIEEE. – 2003. – V.

91. – № 6. – P. 930-953.Ichiki, T. Plasma applications for biochip technology / T. Ichiki, Y. Sugiyama, et al. // ThinSolid Films. – 2003. – V. 435. – № 1-2. – P. 62-68.Abe, T. One-chip multichannel quartz crystal microbalance (QCM) fabricated by Deep RIE / T.Abe, M. Esashi // Sensors and Actuators A: Physical. – 2000. – V. 82.

– № 1-3. – P. 139-143.Белов, А.А. Кварцевые резонаторы: Спецпрактикум кафедры физики колебаний / А.А.Белов, А.В. Степанов. – М.: Физический факультет МГУ им. М.В. Ломоносова, 2012 – 18с.Ре, И.С. Диэлектрики. Основные свойства и применения в электронике / И.С. Ре,Ю.М. Поплавк. - М.: Радио и связь, 1989. — 288 с.Nye, J.F. Physical properties of crystals: their representation by tensors and matrices / J.F.

Nye.– Clarendon Press, 1985. – 329 pp.Götze, J. Chemistry, textures and physical properties of quartz–geological interpretation andtechnical application / J. Götze // Mineralogical Magazine. – 2009. – V. 73. – № 4. – P. 645671.Huff, M.A. Method for etching deep, high-aspect ratio features into glass, fused silica, andquartz materials / M.A. Huff, M. Pedersen. - пат.

№ 9576773, США. – 2017.Queste, S. Deep reactive ion etching of quartz, lithium niobate and lead titanate / S. Queste, E.Courjon, et al. // JNTE Proceedings, Toulouse, France, 2008.Goyal, A. High-speed anisotropic etching of quartz using SF6/C4F8/Ar/O2 based chemistry ininductively coupled plasma reactive ion etching system / A. Goyal, V. Hood, S. Tadigadapa //Processing volume 6111, Reliability, Packaging, Testing, and Characterization ofMEMS/MOEMS, MOEMS-MEMS 2006 Micro and Nanofabrication, San Jose, California,USA, 2006. – P.

61110P1-61110P-10.Osipov, A.A. Optimization of technological parameters in plasma chemical etching of quartzsingle crystals / A.A. Osipov, S.E. Alexandrov, A.A. Osipov // Russian Journal of AppliedChemistry. – 2016. – V. 89. – № 6. – P. 865-870.Dussart, R.

Plasma cryogenic etching of silicon: from the early days to today's advancedtechnologies / R. Dussart, T. Tillocher, et al. // Journal of Physics D: Applied Physics. – 2014.– V. 47. – № 12. – P. 123001-1-123001-27.Queste, S. DRIE of non-conventional materials: first results / S. Queste, G. Ulliac, et al. //Proceedings of the 4th international conference on multi-material micro manufacturing, 9-11September, Cardiff, UK, 2008. – P.

171-174.Ahamed, M.J. Deep NLD plasma etching of fused silica and borosilicate glass / M.J. Ahamed,D. Senkal, et al. // SENSORS, 2013 IEEE, 3-6 November, Baltimore, MD, USA, 2013. – P. 14.Tang, Y.-H. Comparison of optimised conditions for inductively coupled plasma-reactive ionetching of quartz substrates and its optical applications / Y.-H. Tang, Y.-H. Lin, et al. // IETMicro & Nano Letters. – 2014. – V. 9. – № 6. – P. 395-398.14075.76.77.78.79.80.81.82.83.84.85.86.87.88.89.90.91.92.Leech, P.W. Reactive ion etching of piezoelectric materials in CF4/CHF3 plasmas / P.W. Leech// Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. – 1998. – V. 16.– № 4. – P. 2037-2041.Li, X.

Deep reactive ion etching of Pyrex glass using SF6 plasma / X. Li, T. Abe, M. Esashi //Sensors and actuators A: Physical. – 2001. – V. 87. – № 3. – P. 139-145.Kamijo, A. Wafer-level quartz dry etching technology / A. Kamijo, S. Monoe, et al. // 2014IEEE Frequency Control Symposium (FCS), 19-22 May, Taipei, Taiwan, 2014. – P.

1-4.Дикарев, А.Ю. Каталитическое плазмохимическое травление кварца / А.Ю. Дикарев,Ю.И. Дикарев и др. // Конденсированные среды и межфазные границы. – 2005. – Т. 7. –№ 2. – С. 217-221.Knizikevicius, R. Simulations of Si and SiO2 Etching in SF6+O2 Plasma / R. Knizikevicius //Acta Physica Polonica A. – 2010. – V. 117. – № 3.

– P. 478-483.Alam, A.B.M.K. Etching Process Development of SiO2 Etching Using Inductively CoupledPlasma: Master of Science thesis / A B M Khairul Alam. – University of Eastern Finland, 2015.– 50 pp.Hong, L.W. Optimization of inductively coupled plasma dry etching for planar waveguidefabrication: Master of Science thesis / Lim Weng Hong.

– University of Malaya, 2010. – 140pp.Ветошкин, В.М. Высокоскоростное ВЧ-магнетронное реактивно-ионное травлениекварца / В.М. Ветошкин, П.Н. Крылов // Proceedings of the Fourth International Conference“Interaction of radiation with solids”, Minsk, Belarus, 3-5 October, 2001. – C. 67-69.Nojiri, K. Dry etching technology for semiconductors / K. Nojiri. – Springer InternationalPublishing, 2015. – 116 pp.Fukasawa, T.

Conelike defect in deep quartz etching employing neutral loop discharge / T.Fukasawa, T. Hayashi, Y. Horiike // Japanese journal of applied physics. – 2003. – V. 42. – №10. – P. 6691-6697.Fukasawa, T. Deep dry etching of quartz plate over 100 µm in depth employing ultra-thickphotoresist (SU-8) / T. Fukasawa, Y. Horiike // Japanese journal of applied physics. – 2003.

–V. 42. – № 6A. – P. 3702-3706.Chen, H. An investigation into the characteristics of deep reactive ion etching of quartz usingSU-8 as a mask / H. Chen, C. Fu // Journal of Micromechanics and Microengineering. – 2008.– V. 18. – № 10. – P. 105001-1-105001-8.Morikawa, Y. A novel deep etching technology for Si and quartz materials / Y. Morikawa, T.Koidesawa, et al.

// Thin Solid Films. – 2007. – V. 515. – № 12. – P. 4918-4922.Chen, W. Application of magnetic neutral loop discharge plasma in deep silica etching / W.Chen, K. Sugita, et al. // Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, andFilms. – 2001. – V. 19. – № 6. – P. 2936-2940.Gaboriau, F.

Selective and deep plasma etching of SiO2: Comparison between differentfluorocarbon gases (CF4, C2F6, CHF3) mixed with CH4 or H2 and influence of the residencetime / F. Gaboriau, G. Cartry, et al. // Journal of Vacuum Science & Technology B:Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena. –2002. – V. 20. – № 4. – P. 1514-1521.Abe, T.

A fabrication method of high-Q quartz crystal resonator using double-layered etchingmask for DRIE / T. Abe, Y. Itasaka // Sensors and Actuators A: Physical. – 2012. – V. 188. –P. 503-506.Chapellier, P. Aspect ratio dependent etching in advanced deep reactive ion etching of quartz /P. Chapellier, P. Lavenus, et al. // 2017 Symposium on Design, Test, Integration and Packagingof MEMS/MOEMS (DTIP), Bordeaux, France, 29 May – 1 June, 2017.

– P. 1-6.Pedersen, M. Development of Process Recipes for Maximum Mask Etch Selectivity andMaximum Etch Rate Having Vertical Sidewalls for Deep, Highly-Anisotropic InductivelyCoupled Plasma (ICP) Etching of Fused Silica / M. Pedersen, M. Huff // ECS Journal of SolidState Science and Technology. – 2017. – V. 6. – № 9.

– P. P644-P65214193.94.95.96.97.98.99.100.101.102.103.104.105.106.107.108.109.110.111.Morikawa, Y. Application of magnetic neutral loop discharge plasma in deep quartz and siliconetching process for MEMS/NEMS devices fabrication / Y. Morikawa, T. Hayashi, et al. //Technical Proceedings of the 2005 NSTI Nanotechnology Conference and Trade Show,Volume 2, Anaheim, May 8-12, 2005. – P. 501-503.Svaasand, L.O. Solid-solution range of LiNbO3 / L.O.

Svaasand, M. Eriksrud, et al. // Journalof Crystal Growth. – 1974. – V. 22. – № 3. – P. 230-232.Палатников, М.Н. Фундаментальные аспекты технологии сильно легированныхкристаллов ниобата лития / М.Р. Палатников, И.В. Сидоров и др. – Апатиты: КНЦ РАН,2017. – 241 с.Mohamedelhassan, A. Fabrication of Ridge Waveguides in Lithium Niobate: Master of Sciencethesis / Ashraf Mohamedelhassan.

– Royal Institute of Technology KTH, Stockholm, Sweden,2012. – 67 pp.Jun, D. Fabrication methodologies for integrated photonic devices in lithium niobate: Doctor ofphilosophy thesis / Deng Jun. – National University of Singapore, 2013. – 148 pp.Barry, I.E. Microstructuring of lithium niobate: Doctoral thesis / Ian Eric Barry. – University ofSouthampton, 2000. – 186 pp.Merola, F. Lithium Niobate: optical properties and applications: Doctor of philosophy thesis /Francesco Merola. – University of Naples Federico II, 2009. – 147 pp.Scrymgeour, D. Local structure and shaping of ferroelectric domain walls for photonicapplications: Doctor of philosophy thesis / David Scrymgeour. – Pennsylvania State University,2004. – 318 pp.Randles, A.B.

Характеристики

Список файлов диссертации

Свежие статьи
Популярно сейчас
Как Вы думаете, сколько людей до Вас делали точно такое же задание? 99% студентов выполняют точно такие же задания, как и их предшественники год назад. Найдите нужный учебный материал на СтудИзбе!
Ответы на популярные вопросы
Да! Наши авторы собирают и выкладывают те работы, которые сдаются в Вашем учебном заведении ежегодно и уже проверены преподавателями.
Да! У нас любой человек может выложить любую учебную работу и зарабатывать на её продажах! Но каждый учебный материал публикуется только после тщательной проверки администрацией.
Вернём деньги! А если быть более точными, то автору даётся немного времени на исправление, а если не исправит или выйдет время, то вернём деньги в полном объёме!
Да! На равне с готовыми студенческими работами у нас продаются услуги. Цены на услуги видны сразу, то есть Вам нужно только указать параметры и сразу можно оплачивать.
Отзывы студентов
Ставлю 10/10
Все нравится, очень удобный сайт, помогает в учебе. Кроме этого, можно заработать самому, выставляя готовые учебные материалы на продажу здесь. Рейтинги и отзывы на преподавателей очень помогают сориентироваться в начале нового семестра. Спасибо за такую функцию. Ставлю максимальную оценку.
Лучшая платформа для успешной сдачи сессии
Познакомился со СтудИзбой благодаря своему другу, очень нравится интерфейс, количество доступных файлов, цена, в общем, все прекрасно. Даже сам продаю какие-то свои работы.
Студизба ван лав ❤
Очень офигенный сайт для студентов. Много полезных учебных материалов. Пользуюсь студизбой с октября 2021 года. Серьёзных нареканий нет. Хотелось бы, что бы ввели подписочную модель и сделали материалы дешевле 300 рублей в рамках подписки бесплатными.
Отличный сайт
Лично меня всё устраивает - и покупка, и продажа; и цены, и возможность предпросмотра куска файла, и обилие бесплатных файлов (в подборках по авторам, читай, ВУЗам и факультетам). Есть определённые баги, но всё решаемо, да и администраторы реагируют в течение суток.
Маленький отзыв о большом помощнике!
Студизба спасает в те моменты, когда сроки горят, а работ накопилось достаточно. Довольно удобный сайт с простой навигацией и огромным количеством материалов.
Студ. Изба как крупнейший сборник работ для студентов
Тут дофига бывает всего полезного. Печально, что бывают предметы по которым даже одного бесплатного решения нет, но это скорее вопрос к студентам. В остальном всё здорово.
Спасательный островок
Если уже не успеваешь разобраться или застрял на каком-то задание поможет тебе быстро и недорого решить твою проблему.
Всё и так отлично
Всё очень удобно. Особенно круто, что есть система бонусов и можно выводить остатки денег. Очень много качественных бесплатных файлов.
Отзыв о системе "Студизба"
Отличная платформа для распространения работ, востребованных студентами. Хорошо налаженная и качественная работа сайта, огромная база заданий и аудитория.
Отличный помощник
Отличный сайт с кучей полезных файлов, позволяющий найти много методичек / учебников / отзывов о вузах и преподователях.
Отлично помогает студентам в любой момент для решения трудных и незамедлительных задач
Хотелось бы больше конкретной информации о преподавателях. А так в принципе хороший сайт, всегда им пользуюсь и ни разу не было желания прекратить. Хороший сайт для помощи студентам, удобный и приятный интерфейс. Из недостатков можно выделить только отсутствия небольшого количества файлов.
Спасибо за шикарный сайт
Великолепный сайт на котором студент за не большие деньги может найти помощь с дз, проектами курсовыми, лабораторными, а также узнать отзывы на преподавателей и бесплатно скачать пособия.
Популярные преподаватели
Добавляйте материалы
и зарабатывайте!
Продажи идут автоматически
6417
Авторов
на СтудИзбе
307
Средний доход
с одного платного файла
Обучение Подробнее