Главная » Просмотр файлов » Диссертация

Диссертация (1091328), страница 11

Файл №1091328 Диссертация (Технологические основы и методики послойного травления кристаллов интегральных схем с системой межсоединений на основе меди) 11 страницаДиссертация (1091328) страница 112018-01-18СтудИзба
Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла (страница 11)

РЭМ изображения фрагментов поверхности образца №3после травления меди в процессе №3.93а)б)в)г)Рис. 2.3.9. РИМ изображения сечения поверхности образца №3 послетравления меди в процессе №3 (наклон образца 52°).Для проверки данной гипотезы медные проводники образца №4удалялись в процессе №1 (процесс, который использовался для удалениямедных проводников образца №1).Образец №4Подготовленный, аналогично образцу №1, образец №4 был помещен вемкость для образцов установки Omnietch2 (рис.

2.3.3). Далее был запущенпроцесс (процесс №4) со следующими параметрами:94скорость протока100;температура термостата25°С;время процесса35 сек;образецобразец №4 (кристалл ПЛИС Virtex-4).На рисунках 2.3.10 и 2.3.11 приведены изображения поверхности исечений образца №4 после проведенного процесса №1. Анализ данныхизображений показывает, что слой медных проводников М10 по прежнемуудален не полностью. Данные наблюдения подтверждают, что применяятравитель, рекомендованный производителем, скорость травления медибыстро снижается со временем. Для проверки данного рецепта навозможностьперетравапроводников)при(удалениезначительномнижележащихпревышениислоеввременимедныхпроцесса,проводники образца №5 удалялись в течении 280 секунд.а)б)Рис.

2.3.10. Изображения фрагментов поверхности образца №4 послетравления меди в процессе №1 (а - РЭМ изображение, наклон образца 51°;б - РИМ изображение, наклон образца 52°).95а)б)в)г)Рис. 2.3.11. Изображения сечения поверхности образца №4 послетравления меди в процессе №1 (а, б, в - РИМ изображения, наклон образца52°; г - РЭМ изображение, наклон образца 51°).Образец №5Подготовленный, аналогично образцу №1, образец №5 (кристаллПЛИС Virtex-6) был помещен в емкость для образцов установки Omnietch2(рис.

2.3.3). Далее был запущен процесс (процесс №4) со следующимипараметрами:скорость протока100;96температура термостата25°С;время процесса280 сек;образецобразец №5 (кристалл ПЛИС Virtex-6).На рисунке 2.3.12 приведено изображение поверхности образца №5послепроведенногопроцесса№4.Анализданногоизображенияпоказывает, что слой медных проводников М10 удален полностью. Также,через межслойные контакты, был частично удален нижележащий слойпроводников М9.Рис. 2.3.12. Изображение фрагмента поверхности образца №5 послетравления меди в процессе №4.Для уменьшения проникновения травителя через межслойныеконтакты, было решено увеличить вязкость раствора. Таким образом, вследующейсерииэкспериментальныхисследованийбылорешеноизменить соотношение объемов геля и травителя, и снизить количествоводы в травящей смеси, т.к. избыток воды может способствоватьпроникновению травителя в нижние слои металлизации.Тестовый рецепт №1:- деионизованная водаотсутствует;- 25% водный раствор аммиака-15 мл;97- медицинская перекись водорода (37%)-15 мл.Раствор был заранее приготовлен в стеклянном стакане.

Послетщательного перемешивания в течение 10 минут, 30 мл растворапорционно добавляли к 200 граммам геля-носителя (carrier medium 36-6)непрерывно перемешивая и добиваясь максимальной гомогенизациисмеси. После добавления последней порции раствора смесь периодическиперемешивали в течении часа, для равномерного распределения травителяв геле-носителе. Далее смесь загрузили в специальный резервуарустановки.Для достижения воспроизводимых рабочих параметров травлениямеди был запущен процесс со следующими параметрами:скорость протока100;температура термостата25°С;время процесса10 мин;образецотсутствует.Образец №6Подготовленный, аналогично образцу №1, образец №6 (кристаллПЛИС Virtex-6) был помещен в емкость для образцов установки Omnietch2(рис.

2.3.3). Далее был запущен процесс (процесс №5) со следующимипараметрами:скорость протока100;температура термостата25°С;время процесса25 сек;образецобразец №6 (кристалл ПЛИС Virtex-6).На рисунках 2.3.13 и 2.3.14 приведены изображения поверхности исечений образца №6 после проведенного процесса №5.98а)б)Рис. 2.3.13. Изображения фрагментов поверхности образца №6 послетравления меди в процессе №5 (а - РЭМ изображение, наклон образца 0°;б - РИМ изображение, наклон образца 52°).а)б)Рис.

2.3.14. РИМ-изображения сечения поверхности образца №6 послетравления меди в процессе №5 (наклон образца 52°).Анализ данных изображений показывает, что несмотря на повышениевязкости раствора, процесс травления не стал более равномерным. Такжеслой медных проводников М10 удален не полностью. Для следующегообразца было решено увеличить время процесса на 10 секунд.99Образец №7Подготовленный, аналогично образцу №1, образец №7 (кристаллПЛИС Virtex-6) был помещен в емкость для образцов установки Omnietch2(рис. 2.3.3). Далее был запущен процесс (процесс №6) со следующимипараметрами:скорость протока100;температура термостата25°С;время процесса35 сек;образецобразец №7 (кристалл ПЛИС Virtex-6).На рисунке 2.3.15 приведены изображения поверхности и сеченийобразца №7 после проведенного процесса №6.а)б)Рис.

2.3.15. Изображения поверхности (а) и сечения (б, в, г)поверхности образца №7 после травления меди в процессе №6 (а - РЭМизображение топологии; б - РИМ изображение сечения).Анализданныхизображенийпоказывает,чтослоймедныхпроводников М10 по прежнему удален не полностью. Для следующегообразца было решено увеличить скорость протока состава со 100 до 400.100Образец №8Подготовленный, аналогично образцу №1, образец №8 (кристаллПЛИС Virtex-6) был помещен в емкость для образцов установки Omnietch2(рис.

2.3.3). Далее был запущен процесс (процесс №7) со следующимипараметрами:скорость протока400;температура термостата25°С;время процесса35 сек;образецобразец №8 (кристалл ПЛИС Virtex-6).На рисунках 2.3.16 и 2.3.17 приведены изображения поверхности исечений образца №8 после проведенного процесса №7. Анализ данныхизображений показывает, что слой медных проводников М10 по прежнемуудален не полностью. Равномерность травления визуально не изменилась.а)б)Рис. 2.3.16. Изображения фрагментов поверхности образца №8 послетравления меди в процессе №7 (а - РЭМ изображение, наклон образца 0°;б - РИМ изображение, наклон образца 52°).101а)б)Рис. 2.3.17.

Изображения сечения поверхности образца №8 послетравления меди в процессе №7 (наклон образца 52°).Резкое падение скорости травления меди в последних экспериментахможет быть связано с тем, что в смеси аммиака и перекиси водорода ионымеди в растворе катализируют разложение перекиси. Поэтому былопринято решение проверить смесь, рекомендованную производителемустановки ("Copper etch recipe") на стабильность. Пластинку меди сопределенным весом выдерживали в смеси перекиси и аммиака в течение 1минуты.

Далее определялся ее вес, и через 10 минут повторяли процедурувыдерживания и взвешивания. В результате проведенных исследованийбыло установлено, что при попадании ионов меди в раствор, перекисьначинает бурно разлагаться. Через 10 минут скорость травления меди вэтом растворе падает более чем в 10 раз. Изменение соотношения перекисии аммиака к желаемой стабилизации скорости травления не привело.Потому было принято решение использовать в качестве травителяаммиачный комплекс двухвалентной меди.

Особенностью данноготравителя является то, что в роли окислителя выступает сама медь, а неперекись водорода. При реакции не выделяется газ, а значит ожидается102более равномерное растворение меди. Ниже приведен состав травителямеди на основе аммиачного комплекса двухвалентной меди:тестовый рецепт №2:- деионизованная вода-30 мл;- 25% водный раствор аммиака-60 мл;- CuSO4*5H2O-0,8 г.Раствор был заранее приготовлен в стеклянном стакане.

Послетщательного перемешивания до полного растворения осадка (рис. 2.3.18а),раствор порционно добавляли к 270 граммам геля-носителя (рис. 2.3.18б)непрерывно перемешивая и добиваясь максимальной гомогенизациисмеси. После добавления последней порции раствора смесь периодическиперемешивали в течении часа, для равномерного распределения травителяв геле-носителе. Далее смесь загрузили в специальный резервуарустановки.а)Рис.2.3.18.б)ПодготовкаустановкиOmnietch2кработе(а - приготовленный раствор "тестовый рецепт №2"; б - добавлениетравящей смеси в гель-носитель).103Для достижения воспроизводимых рабочих параметров был запущен10 минутный процесс:скорость протока100;температура термостата25°С;время процесса10 мин;образецотсутствует.Образец №9Подготовленный, аналогично образцу №1, образец №9 (кристаллПЛИС Virtex-6) был помещен в емкость для образцов установки Omnietch2(рис.

Характеристики

Список файлов диссертации

Технологические основы и методики послойного травления кристаллов интегральных схем с системой межсоединений на основе меди
Документы
Свежие статьи
Популярно сейчас
Как Вы думаете, сколько людей до Вас делали точно такое же задание? 99% студентов выполняют точно такие же задания, как и их предшественники год назад. Найдите нужный учебный материал на СтудИзбе!
Ответы на популярные вопросы
Да! Наши авторы собирают и выкладывают те работы, которые сдаются в Вашем учебном заведении ежегодно и уже проверены преподавателями.
Да! У нас любой человек может выложить любую учебную работу и зарабатывать на её продажах! Но каждый учебный материал публикуется только после тщательной проверки администрацией.
Вернём деньги! А если быть более точными, то автору даётся немного времени на исправление, а если не исправит или выйдет время, то вернём деньги в полном объёме!
Да! На равне с готовыми студенческими работами у нас продаются услуги. Цены на услуги видны сразу, то есть Вам нужно только указать параметры и сразу можно оплачивать.
Отзывы студентов
Ставлю 10/10
Все нравится, очень удобный сайт, помогает в учебе. Кроме этого, можно заработать самому, выставляя готовые учебные материалы на продажу здесь. Рейтинги и отзывы на преподавателей очень помогают сориентироваться в начале нового семестра. Спасибо за такую функцию. Ставлю максимальную оценку.
Лучшая платформа для успешной сдачи сессии
Познакомился со СтудИзбой благодаря своему другу, очень нравится интерфейс, количество доступных файлов, цена, в общем, все прекрасно. Даже сам продаю какие-то свои работы.
Студизба ван лав ❤
Очень офигенный сайт для студентов. Много полезных учебных материалов. Пользуюсь студизбой с октября 2021 года. Серьёзных нареканий нет. Хотелось бы, что бы ввели подписочную модель и сделали материалы дешевле 300 рублей в рамках подписки бесплатными.
Отличный сайт
Лично меня всё устраивает - и покупка, и продажа; и цены, и возможность предпросмотра куска файла, и обилие бесплатных файлов (в подборках по авторам, читай, ВУЗам и факультетам). Есть определённые баги, но всё решаемо, да и администраторы реагируют в течение суток.
Маленький отзыв о большом помощнике!
Студизба спасает в те моменты, когда сроки горят, а работ накопилось достаточно. Довольно удобный сайт с простой навигацией и огромным количеством материалов.
Студ. Изба как крупнейший сборник работ для студентов
Тут дофига бывает всего полезного. Печально, что бывают предметы по которым даже одного бесплатного решения нет, но это скорее вопрос к студентам. В остальном всё здорово.
Спасательный островок
Если уже не успеваешь разобраться или застрял на каком-то задание поможет тебе быстро и недорого решить твою проблему.
Всё и так отлично
Всё очень удобно. Особенно круто, что есть система бонусов и можно выводить остатки денег. Очень много качественных бесплатных файлов.
Отзыв о системе "Студизба"
Отличная платформа для распространения работ, востребованных студентами. Хорошо налаженная и качественная работа сайта, огромная база заданий и аудитория.
Отличный помощник
Отличный сайт с кучей полезных файлов, позволяющий найти много методичек / учебников / отзывов о вузах и преподователях.
Отлично помогает студентам в любой момент для решения трудных и незамедлительных задач
Хотелось бы больше конкретной информации о преподавателях. А так в принципе хороший сайт, всегда им пользуюсь и ни разу не было желания прекратить. Хороший сайт для помощи студентам, удобный и приятный интерфейс. Из недостатков можно выделить только отсутствия небольшого количества файлов.
Спасибо за шикарный сайт
Великолепный сайт на котором студент за не большие деньги может найти помощь с дз, проектами курсовыми, лабораторными, а также узнать отзывы на преподавателей и бесплатно скачать пособия.
Популярные преподаватели
Добавляйте материалы
и зарабатывайте!
Продажи идут автоматически
6417
Авторов
на СтудИзбе
307
Средний доход
с одного платного файла
Обучение Подробнее