USP_6887801 (1063233)

Файл №1063233 USP_6887801 (Раздаточный материал к первому модулю)USP_6887801 (1063233)2017-12-28СтудИзба
Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла

US006887801B2(12) United States Patent(10) Patent N0.:(45) Date of Patent:Li(54)EDGE BEAD CONTROL METHOD ANDUS 6,887,801 B2May 3, 2005OTHER PUBLICATIONSAPPARATUSBanWell et al., “VCSE Laser Transmitters for Parallel Data(75) Inventor: Bernard Q. Li, Plymouth, MN (US)(73) Assignee: Finisar Corporation, Sunnyvale, CALinks”, IEEE Journal of Quantum Electronics, vol. 29, No.2, Feb. 1993, pp. 635—644.BoWers et al., “Fused Vertical Cavity Lasers With OxideAperture”, Final report for MICRO project 96—042, Indus(Us)trial Sponsor: HeWlett Packard, 4 pages, 1996—97.(*)Notice:Subject to any disclaimer, the term of thispatent is extended or adjusted under 35Vertical Cavity Top Surface—Emitting Lasers”, CLEO 1993,U.S.C.

154(b) by 0 days.p. 138.Chemla et al., “Nonlinear Optical Properties of Semiconductor Quantum Wells”, Optical Nonlinearities and Instabilities in Semiconductors, Academic Press, Inc., Copyright(21) Appl. No.: 10/623,351(22) Filed:Jul. 18,2003(65)PriOI‘ PubliCatiOIl DataUS 2005 0014390 A1 I(51)(52)(58)1988,1111 83—120Choe, et al., “Lateral oxidation of AIAs layers at elevated. 20 2005/an’Int. Cl.7 ...................... ..

H01L 21/31; H01L 21/469US. Cl. ...................................... .. 438/780; 438/782Field of Search ............................... .. 438/778, 780,438/782; 427/240_References Clted(56)U.S. PATENT DOCUMENTS4,317,085 A2/1982 Brunham et a1.4,466,694 A8/1984 MacDonald4,660,207 AWater vapour pressureusinga closed—chambersystem,”...Letter to the Edltor, Semlconductor Sclence Technology, 15,pp. L35—L38, Aug.

2000.Choa et al., “High—Speed Modulation of Vertical—CavitySurface—Emitting Lasers”, IEEE Photonics Technology Lettel; vol. 3, No. 8, Aug. 1991, pp. 697—699.Choquette et al., “High Single Mode Operation from HybridIon Implanted/Selectively Oxidized VCSELs”, 200 IEEE17thInternationalSemiconductorLaserMonterrey, CA pp. 59—60.Conference ’_(cOntlnlled)4/1987 Svilans4,675,058 A4,784,722 A6/1987 Plaster11/1988 Liau et a1-4,885,592 A12/1989 K0101 et 211.4,901,327 A2/1990 Bradley4,943,970 A7/19904,956,844 A9/1990 Goodhue et a1_Primary Examiner—Alexander Ghyka(74) Attorney, Agent, or Firm—Workman Nydegger(57)ABSTRACTBradley___Methods and devlces for handllng Wafers durlng Wafer_processing are provided.

One embodiment includes an appa(contlnued)ratus for holding a Wafer. The holding apparatus includes aFOREIGN PATENT DOCUMENTSpocket for receiving a Wafer, and may include a mechanismalloWlng for the Wafer to be secured Wlthln the pocket.DEEPEP4240706 A10288184 A20776076 A16/199410/19885/1997JP601230841/1985JP020549812/1990JP529977911/1993WO 98/5740212/1998W0Catchmark et al., “High Temperature CW Operation of70Methods are also included for preparing a Wafer for fabrication processes by the use of a Wafer holding apparatus.These methods may include applying a layer of photoresistto the surface of a Wafer'17 Claims, 3 Drawing Sheets58 5652 q58 56/\ 50l68664/ / a“we?\\//////////4l///J*1_.._lCL"_JD55US 6,887,801 B2Page 2US.

PATENT DOCUMENTS5,031,1875,052,0165,056,0985,062,1155,068,8695,079,7745,115,4425,117,4695,140,6055,157,5375,158,9085,212,7065,216,2635,216,6805,237,5815,245,6225,258,9905,262,3605,285,4665,293,3925,317,1705,317,5875,325,3865,331,6545,337,0745,337,1835,349,5995,351,2565,359,4475,359,6185,363,3975,373,5205,373,5225,376,5805,386,4265,390,2095,396,5085,404,3735,412,6785,412,6805,416,0445,428,6345,438,5845,446,7545,465,2635,475,7015,493,5775,497,3905,513,2025,530,7155,555,2555,557,6265,561,6835,567,9805,568,4985,568,4995,574,7385,581,5715,586,1315,590,1455,598,3005,606,5725,625,7295,642,3765,645,4625,646,9785,648,9785,679,9635,692,0835,696,0237/19919/199110/199110/199111/19911/19925/19925/19928/199210/199210/19925/19936/19936/19938/19939/199311/199311/19932/19943/19945/19945/19946/19947/19948/19948/19949/19949/199410/199410/199411/199412/199412/199412/19941/19952/19953/19954/19955/19955/19955/19956/19958/19958/199511/199512/19952/19963/19964/19966/19969/19969/199610/199610/199610/199610/199611/199612/199612/199612/19961/19972/19974/19976/19977/19977/19977/199710/199711/199712/1997Orenstein et al.MahbobZadehAnthony et al.ThorntonWang et al.Mendez et al.Lee et al.Cheung et al.Paoli et al.Rosenblatt et al.Blonder et al.JainPaoliMagnusson et al.Asada et al.Jewell et al.Olbright et al.Holonyak, Jr.

et al.TabatabaieShieh et al.PaoliAckley et al.Jewell et al.Jewell et al.ThorntonRosenblattLarkinsSchneider et al.Hahn et al.Lebby et al.Collins et al.Shoji et al.Holonyak, Jr. et al.Kish et al.StephensVakhshooriBour et al.ChengTreat et al.Swirhum et al.Chino et al.Bryan et al.Paoli et al.Jewell et al.Bour et al.Hibbs-BrennerChoquette et al.Tanaka et al.Kobayashi et al.Shieh et al.Kock et al.GrodZinski et al.KwonHolonyak, Jr. et al.NilssonLearMorganHolonyak, Jr. et al.Ono et al.NittaMagnusson et al.Swirhun et al.BrownOlbright et al.Banno et al.Kern et al.SakataKlern et al.BennettHolonyak, Jr.

et al.5,699,3735,712,1885,726,8055,727,0135,727,0145,774,4875,778,0185,781,5755,784,3995,790,7335,805,6245,818,0665,828,6845,838,7055,838,7155,892,7845,892,7875,896,4085,901,1665,903,5885,903,5895,903,5905,908,4085,908,6615,936,2665,940,4225,953,3625,978,4015,978,4085,995,5316,002,7056,008,6756,014,3956,043,1046,046,0656,052,3986,055,2626,060,7436,078,6016,086,2636,133,5906,144,6826,154,4806,185,2416,191,8906,208,6816,212,3126,238,9446,269,1096,297,0686,302,5966,339,4966,369,4036,372,5336,392,2576,410,9416,411,6386,427,0666,455,8796,459,7096,459,7136,462,3606,472,6946,477,2856,487,2306,487,2316,490,3116,493,3716,493,3726,493,3736,496,62112/ 19971/ 19983/ 19983/ 19983/ 19986/ 19987/ 19987/ 19987/ 19988/ 19989/ 199810/ 199810/ 19981 1/ 19981 1/ 19984/ 19994/ 19994/ 19995/ 19995/ 19995/ 19995/ 19996/ 19996/ 19998/ 19998/ 19999/ 19991 1/ 19991 1/ 19991 1/ 199912/ 199912/ 19991/20003/20004/20004/20004/20005/20006/20007/200010/2000Uchida et al.Chu et al.Kaushik et al.BoteZ et al.Wang et al.MorganYoshikawa et al.NilssonSunSmith et al.Yang et al.DuboZVan de WalleShieh et al.CorZine et al.Tan et al.Tan et al.CorZine et al.Nitta et al.Guenter et al.JewellHadley et al.McGary et al.Batcheldor et al.

....... .. 427/240Holonyak, Jr. et al.JohnsonPamulapati et al.MorganThorntonGaw et al.ThorntonHandaJewellUchida et al.Goldstein et al.Brillouet et al.Cox et al.Sugiyama et al.SmithSelli et al.Ashley et al.1 1/2000 Sun1 1/2000 Magnusson et al.2/20012/20013/20014/20015/20017/200110/200110/20011/20024/20024/20025/20026/20026/20027/20029/200210/200210/200210/200210/2002SunBaets et al.ThorntonGrann et al.FloydJewellThorntonCohen et al.Koley et al.Holonyak, Jr.Jayaraman et al.Ramdani et al.Taylor et al.Johnson et al.GrubeAshley et al.Lo et al.JewellHiggins, Jr. et al.Wilson et al.1 1/2002 Shanley1 1/2002 Boucart et al.1 1/2002 Boucart et al.12/200212/200212/200212/200212/2002Boucart et al.Boucart et al.Boucart et al.Boucart et al.Kathman et al.US 6,887,801 B2Page 36,498,358 B112/2002 Lach et al.6,501,973 B112/2002 Foley et al.6,515,3086,535,5416,542,5316,567,4352001/00044142003/ 00725 26B1B1B2B1A1A12/20033/20034/20035/20036/20014/2003Kneissl et al.Boucart et al.Sirbu et al.Scott et al.Kuhn et al.Kathman et al.Herrick, et al., “Highly reliable oxide VCSELs manufactured at HP/Agilent Technologies,” Invited Paper, Proceedings of SPIE vol.

3946, pp. 14—19, 2000.Hibbs—Brenner et al., “Performance, Uniformity and Yieldof 850nm VCSELs Deposited by MOVPE”, IEEE Phot.Tech. Lett., vol. 8, No. 1, pp. 7—9, Jan. 1996.Hideaki Saito, et al., “Controlling polariZation of quantum—dot surface—emitting lasers by using structurally anisotropicOTHER PUBLICATIONSself—assembled quantum dots,” American Institute of PhysChoquette et al., "Lithographically—De?ned Gain Aperturesics, Appl, Phys. Lett. 71 (5), pp.

590—592, Aug. 4, 1997.Hornak et al., “LoW—Termperature (10—K—300K) CharacWithin Selectively Oxidized VCSELs”, paper CtuL6, Conference on Lasers and Electro—Optics, San Francisco, California (2000).Choquette, et al., “VCSELs in information systems:10Gbps’1 oxide VCSELs for data communication”, OpticsIn Information Systems, vol. 12, No. 1, p. 5, SPIE International Technical Group Newsletter, Apr. 2001.Chua, et al., “LoW—Threshold 1.57— um VC—SEL’s UsingStrain—Compensated Quantum Wells and Oxide/MetalBackmirror,” IEEE Photonics Technology Letters, vol.

7,No. 5, pp. 444—446, May 1995.Chua, et al., “Planar Laterally OxidiZed Vertical—CavityLasers for LoW—Threshold High—Density Top—Surface—Emitting Arrays,” IEEE Photonics Technology Letters, vol. 9,No. 8, pp. 1060—1062, Aug. 1997.Cox, J. A., et al., “Guided Mode Grating Resonant Filters forVCSEL Applications”, Proceedings of the SPIE, The International Society for Optical Engineering, Diffractive andHolographic Device Technologies and Applications V, SanJose, California, Jan. 28—29, 1998, vol. 3291, pp. 70—71.Farrier, Robert G., “Parametric control for Wafer fabrication:NeW CIM techniques for data analysis,” Solid State Technology, pp.

Характеристики

Тип файла
PDF-файл
Размер
1,1 Mb
Тип материала
Высшее учебное заведение

Тип файла PDF

PDF-формат наиболее широко используется для просмотра любого типа файлов на любом устройстве. В него можно сохранить документ, таблицы, презентацию, текст, чертежи, вычисления, графики и всё остальное, что можно показать на экране любого устройства. Именно его лучше всего использовать для печати.

Например, если Вам нужно распечатать чертёж из автокада, Вы сохраните чертёж на флешку, но будет ли автокад в пункте печати? А если будет, то нужная версия с нужными библиотеками? Именно для этого и нужен формат PDF - в нём точно будет показано верно вне зависимости от того, в какой программе создали PDF-файл и есть ли нужная программа для его просмотра.

Список файлов учебной работы

Раздаточный материал к первому модулю
Bake plate
Bake Plate Overview _ Brewer Science.mht
Bake Plate Process Theory _ Brewer Science.mht
Bake plate enhancements for optimal thick-film curing results.mht
Development
Edge Bead Removal
SPIE _ Proceeding _ Necessity of chemical edge bead removal in modern-day lithographic processing.mht
Hot Plate
HP8 - Details - SUSS MicroTec.mht
HP8 - Overview - SUSS MicroTec.mht
Photoresist Removal
Nanostrip - LNF Wiki.mht
YES Plasma Stripper - LNF Wiki.mht
Stripping of photoresists
Organic Removal.mht
YES Plasma Stripper - LNF Wiki.mht
МИКРОСБОРКА
1_Разделение Пластин
ADT - Dicing Saws & Dicing Blades _ Dicing Solutions-Applications-Laser Scribing.mht
ADT - Dicing Saws & Dicing Blades _ Dicing Solutions-Applications-Semiconductor Dicing.mht
Свежие статьи
Популярно сейчас
А знаете ли Вы, что из года в год задания практически не меняются? Математика, преподаваемая в учебных заведениях, никак не менялась минимум 30 лет. Найдите нужный учебный материал на СтудИзбе!
Ответы на популярные вопросы
Да! Наши авторы собирают и выкладывают те работы, которые сдаются в Вашем учебном заведении ежегодно и уже проверены преподавателями.
Да! У нас любой человек может выложить любую учебную работу и зарабатывать на её продажах! Но каждый учебный материал публикуется только после тщательной проверки администрацией.
Вернём деньги! А если быть более точными, то автору даётся немного времени на исправление, а если не исправит или выйдет время, то вернём деньги в полном объёме!
Да! На равне с готовыми студенческими работами у нас продаются услуги. Цены на услуги видны сразу, то есть Вам нужно только указать параметры и сразу можно оплачивать.
Отзывы студентов
Ставлю 10/10
Все нравится, очень удобный сайт, помогает в учебе. Кроме этого, можно заработать самому, выставляя готовые учебные материалы на продажу здесь. Рейтинги и отзывы на преподавателей очень помогают сориентироваться в начале нового семестра. Спасибо за такую функцию. Ставлю максимальную оценку.
Лучшая платформа для успешной сдачи сессии
Познакомился со СтудИзбой благодаря своему другу, очень нравится интерфейс, количество доступных файлов, цена, в общем, все прекрасно. Даже сам продаю какие-то свои работы.
Студизба ван лав ❤
Очень офигенный сайт для студентов. Много полезных учебных материалов. Пользуюсь студизбой с октября 2021 года. Серьёзных нареканий нет. Хотелось бы, что бы ввели подписочную модель и сделали материалы дешевле 300 рублей в рамках подписки бесплатными.
Отличный сайт
Лично меня всё устраивает - и покупка, и продажа; и цены, и возможность предпросмотра куска файла, и обилие бесплатных файлов (в подборках по авторам, читай, ВУЗам и факультетам). Есть определённые баги, но всё решаемо, да и администраторы реагируют в течение суток.
Маленький отзыв о большом помощнике!
Студизба спасает в те моменты, когда сроки горят, а работ накопилось достаточно. Довольно удобный сайт с простой навигацией и огромным количеством материалов.
Студ. Изба как крупнейший сборник работ для студентов
Тут дофига бывает всего полезного. Печально, что бывают предметы по которым даже одного бесплатного решения нет, но это скорее вопрос к студентам. В остальном всё здорово.
Спасательный островок
Если уже не успеваешь разобраться или застрял на каком-то задание поможет тебе быстро и недорого решить твою проблему.
Всё и так отлично
Всё очень удобно. Особенно круто, что есть система бонусов и можно выводить остатки денег. Очень много качественных бесплатных файлов.
Отзыв о системе "Студизба"
Отличная платформа для распространения работ, востребованных студентами. Хорошо налаженная и качественная работа сайта, огромная база заданий и аудитория.
Отличный помощник
Отличный сайт с кучей полезных файлов, позволяющий найти много методичек / учебников / отзывов о вузах и преподователях.
Отлично помогает студентам в любой момент для решения трудных и незамедлительных задач
Хотелось бы больше конкретной информации о преподавателях. А так в принципе хороший сайт, всегда им пользуюсь и ни разу не было желания прекратить. Хороший сайт для помощи студентам, удобный и приятный интерфейс. Из недостатков можно выделить только отсутствия небольшого количества файлов.
Спасибо за шикарный сайт
Великолепный сайт на котором студент за не большие деньги может найти помощь с дз, проектами курсовыми, лабораторными, а также узнать отзывы на преподавателей и бесплатно скачать пособия.
Популярные преподаватели
Добавляйте материалы
и зарабатывайте!
Продажи идут автоматически
6363
Авторов
на СтудИзбе
310
Средний доход
с одного платного файла
Обучение Подробнее