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Файл №1063342 SUSS (Раздаточный материал к первому модулю) 7 страницаSUSS (1063342) страница 72017-12-28СтудИзба
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Vorrichtung nach Anspruch 25, wobei der Vakuumkanal (219) mit einer Vakuumpumpe verbunden ist.27. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 26,wobei der Deckel (201) mehrere Zapfenlöcher aufweist, die so konfiguriert sind, daß sie mit den mehreren Zapfen (222) zusammenpassen, die an eineroberen Lippe der Schale (202) ausgebildet sind.28. Verfahren zum Schleuderbeschichten eines Substrats, mit den folgenden Schritten:3518. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 17,wobei der Auffangbecher (302) ein Abflußsystemund ein Absaugsystem aufweist.4019. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 18,wobei der Auffangbecher (302) einen ersten Spritzring (303) aufweist, der so konfiguriert ist, daß erüber einem oberen Abschnitt des Auffangbecherssitzt.4520.

Vorrichtung nach Anspruch 19, wobei der Auffangbecher (302) einen zweiten Spritzring (304) aufweist, der so konfiguriert ist, daß er mit dem erstenSpritzring (303) zusammenpaßt, wobei der zweiteSpritzring ferner so konfiguriert ist, daß er aus denmehreren Abflußlöchern (225) innerhalb des Auffangbechers austretende Feststoffteilchen weitgehend zurückhält.22505521. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 20,12Aufbringen einer flüssigen chemischen Substanz durch Schleuderbeschichten über einemSubstrat (230), das innerhalb einer Schale(202) aufliegt, wobei die Schale an einem äußeren Rand der Schale einen Flüssigkeitsrückhaltehohlraum (250) aufweist;Einkapseln des Substrats (230) in der Schale(202);schnelles Drehen der gekapselten Schale(202), um ein Aufschleudern der aufgebrachtenChemikalie über der Oberfläche des Substrats(230) zu bewirken;Injektion eines Lösungsmittels in der Nähe eines Rands an der Unterseite des Substrats(230), um einen überschüssigen Chemikalienwulst vom Rand des Substrats zu entfernen;undAuffangen des Lösungsmittels und des vondem Substrat (230) abfließenden überschüssigen Chemikalienwulsts in dem Flüssigkeitsrückhaltehohlraum (250) während der schnellen Drehung der gekapselten Schale (202).23EP 1 015 136 B129.

Verfahren nach Anspruch 28, das ferner aufweist:Ableiten des in dem Flüssigkeitsrückhaltehohlraum (250) aufgefangenen überschüssigenChemikalienwulsts und Lösungsmittels, wennsich die gekapselte Schale (202) einem langsam drehenden oder drehungsfreien Zustandnähert.30. Verfahren nach Anspruch 29, wobei die in demFlüssigkeitsrückhaltehohlraum (250) aufgefangenen überschüssigen Chemikalien durch mehrere,im Bodenbereich der Schale (202) ausgebildeteAbflußlöcher (225) abgeleitet werden.ferner aufweist:37.

Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 36, dasferner aufweist:1015Auflösen des über der Oberseite des Substrats(230) ausgebildeten Chemikalienwulsts, wenndas an der Unterseite des Substrats (230) injizierte Lösungsmittel in Kontakt mit dem Chemikalienwulst kommt.2038. Verfahren nach Anspruch 37, wobei das Auflösendes Chemikalienwulsts zu einem im wesentlichengleichmäßigen Chemikalienüberzug über der Oberseite des Substrats (230) führt.32. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 31, wobei der Flüssigkeitsrückhaltehohlraum (250) sokonfiguriert ist, daß er ein Volumen von etwa 10 cm3bis etwa 20 cm3 aufnimmt.2533.

Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 32, dasferner aufweist:Revendications1.35Dispositif de revêtement par rotation rapide,comprenant :un moyen pour appliquer un fluide chimique devant être déposé par rotation rapide sur unsubstrat (230) qui est supporté dans une cuvette (202), la cuvette ayant une cavité de retenuede fluide (250) sur le bord extérieur de lacuvette ;40un moyen d'encapsulation pour contenir lesubstrat (230) dans la cuvette (202) ;35. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 34, dasferner aufweist:45Bereitstellen eines Auffangbechers (302) zurAufnahme der eingekapselten Schale (202)während der schnellen Drehung, wobei derAuffangbecher mindestens einen Spritzringaufweist;Ausbilden eines Labyrinths zwischen dem mindestens einen Spritzring und der Schalenerweiterung (260), wobei das Labyrinth so konfiguriert ist, daß es die Menge der aus dem Auffangbecher (302) austretenden Feststoffteilchen verringert.39.

Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 38, wobei die schnelle Drehung der geschlossenen Schale (202) durch die Injektion des Lösungsmittelsdurch die mehreren Injektorlöcher (221) unterstütztwird.3034. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 33, dasferner aufweist:Bereitstellen einer Schalenerweiterung (260)entlang einer Außenkante der Schale (202).Reinigen der Schale (202) von überschüssigenChemikalien mit dem in die Schale injiziertenLösungsmittel nach jedem Schleuderbeschichtungsvorgang.531.

Verfahren nach Anspruch 30, wobei die mehrerenAbflußlöcher (225) vom äußeren Umfang der Schale (202) beabstandet sind, um einen Flüssigkeitsrückhaltehohlraum (250) zu bilden.Verzögern der Chemikalienverdunstung deraufgebrachten Chemikalie, wenn die Schale(202) während der schnellen Drehung eingekapselt wird, wobei die verzögerte Verdunstungder Chemikalie so beschaffen ist, daß sie zu einer gleichmäßigeren Schleuderbeschichtungan einer Oberseite des Substrats (230) führt.24505536. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 35, das13un moyen pour mettre en rotation rapide la cuvette (202) encapsulée pour faire que le produitchimique appliqué soit déposé par rotation rapide sur la surface du substrat (230) ;un moyen injecteur pour appliquer un solvantsur un bord inférieur du substrat (230), l'application du solvant étant configurée pour éliminerun excès de produit chimique perlant du borddu substrat (230) ; etun moyen pour récupérer le solvant et l'excèsde produit chimique perlant qui s'écoule dusubstrat dans la cavité de retenue de fluide(250) lorsque la cuvette (202) encapsulée est25EP 1 015 136 B1tions 1 à 6, dans lequel le fluide qui est appliqué ausubstrat (230) est forcé à s'étaler sur le substrat parune force centrifuge lorsque la cuvette (202) est enrotation, la force centrifuge agissant en outre pourmaintenir le fluide qui s'étale hors du substrat dansla cavité (250) tandis que la cuvette est en rotation.en rotation rapide.2.Dispositif selon la revendication 1, comprenant enoutre :5un moyen de purge pour enlever le produit chimique perlant et le solvant qui sont collectésdans la cavité de retenue de fluide (250) en provenance de la cuvette (202) lorsque la cuvettevient sensiblement à l'arrêt.3.un moyen pour nettoyer l'intérieur de la cuvette(202) après que chaque substrat (230) a été revêtu par rotation rapide.4.5.6.7.Dispositif selon la revendication 1, 2 ou 3, comprenant en outre un labyrinthe défini entre la cuvette(202) et une bague anti-éclaboussures (304) decoupelle de récupération, le labyrinthe étant configuré pour éviter en grande partie que des particulesne sortent de la coupelle de récupération (302) pendant une opération de revêtement par rotation rapide.Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel le produit chimique est choisi dans le groupe consistant en un produit chimiquephotorésistant et un produit chimique de verre derotation rapide.Dispositif selon l'une quelconque des revendications 2 à 5, dans lequel la cuvette (202) a un supportsurélevé (204) pour maintenir le substrat (230), etdes parois incurvées qui définissent la cavité (250) ;le moyen d'encapsulation comprend un couvercle(201) configuré pour correspondre aux parois incurvées, le couvercle ayant une face inférieure (214)sensiblement plate qui est positionnée en étroiteproximité avec une surface supérieure du substrat(230) ;le moyen injecteur comprend des trous injecteursdé fluide (221) définis le long d'une bague d'injecteur (223) qui est sous le substrat (230), les trousinjecteurs de fluide étant dirigés vers une surfaceinférieure du substrat (230) qui est proche du diamètre extérieur du substrat ; etle moyen de purge comprend une pluralité de trousde purge (225) définis sur une région de fond de lacuvette (202), la pluralité de trous de purge étantespacés de la région extérieure de la cuvette pourpermettre à la cavité (250) de contenir un fluide tandis que la cuvette (202) est en rotation rapide, et depurger le fluide lorsque la cuvette ralentit.8.Dispositif selon la revendication 6 ou 7, dans lequella cuvette (202) comprend une extension (260) définie vers l'extérieur à partir d'un bord extérieur desparois incurvées.9.Dispositif selon la revendication 6, 7 ou 8, dans lequel les trous injecteurs de fluide (221) sont définisselon un angle dans une gamme entre environ 30degrés et environ 50 degrés.10Dispositif selon la revendication 1 ou 2, comprenanten outre :15202530352610.

Характеристики

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Тип материала
Высшее учебное заведение

Список файлов учебной работы

Раздаточный материал к первому модулю
Bake plate
Bake Plate Overview _ Brewer Science.mht
Bake Plate Process Theory _ Brewer Science.mht
Bake plate enhancements for optimal thick-film curing results.mht
Development
Edge Bead Removal
SPIE _ Proceeding _ Necessity of chemical edge bead removal in modern-day lithographic processing.mht
Hot Plate
HP8 - Details - SUSS MicroTec.mht
HP8 - Overview - SUSS MicroTec.mht
Photoresist Removal
Nanostrip - LNF Wiki.mht
YES Plasma Stripper - LNF Wiki.mht
Stripping of photoresists
Organic Removal.mht
YES Plasma Stripper - LNF Wiki.mht
МИКРОСБОРКА
1_Разделение Пластин
ADT - Dicing Saws & Dicing Blades _ Dicing Solutions-Applications-Laser Scribing.mht
ADT - Dicing Saws & Dicing Blades _ Dicing Solutions-Applications-Semiconductor Dicing.mht
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