Катодное распыление (1245599), страница 3
Текст из файла (страница 3)
7. Черняев В.Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА. – М.:
Высшая школа, 1987.
8. Технология тонких пленок: Справочник / Под ред. Л.Майселла и
Р.Гленга. В 2 т. – М.: Сов.радио, 1977.
9. Пичугин И.Г., Таиров Ю.М. Технология полупроводниковых
приборов. – М.: Высшая школа, 1984. – 288 с.
10. Ефимов И.Е., Козырь И.Я., Горбунов Ю.И. Микроэлектроника.
Физические и технологические основы, надежность. – М.: Высшая школа,
1986. – 464 с.
11. Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии. – М.:
Мир, 1985. – 496 с.
12. Чен Ф. Введение в физику плазмы. – М.: Мир, 1987. – 398 с.
13. Иванов–Есипович Н.К. Технология микросхем. – М.: Высшая школа,
1972. – 256 с.
16
37
14. Телеснин Р.В Молекулярная физика. – М.: Высшая школа, 1973. – 360
с.
15. Физические величины: Справочник / А.П.Бабичев, Н.А.Бабушкина,
А.М.Братковский и др.; Под ред. И.С.Григорьева, Е.З.Мейлихова. – М.:
Энергоатомиздат, 1991. –1232 с.
16. Кухлинг Х. Справочник по физике: Пер. с нем. – М.: Мир, 1982. –
520 с. 17. Основы вакуумной техники. – М.: Энергия, 1975. – 416 с.
18. Томилин В.И. Физико-химические основы технологии электронных
средств: учебник для студ. высш. учеб. заведений / В. И. Томилин. – М.:
Издательский центр «Академия», 2010.− 416 с.
19. Смирнов, В.И. Физико-химические основы технологии электронных
средств: учебное пособие / В. И. Смирнов. − Ульяновск: УлГТУ, 2005.− 112 с.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
