Диссертация (1173421), страница 17
Текст из файла (страница 17)
Phys. – 2009. – V. 83. – № 4. –P.493.87. Schubert, D.W. Spin coating from a molecular point of view: itsconcentration regimes, influence of molar mass and distribution / D.W. Schubert, T.Dunkel // Materials Research Innovations. – 2003. – V.7. – P.314.88. Scriven, L.E. Physics and applications of dip coating and spin coating / Eds.:C.J.
Brinker, D.E. Clark, D.R. Ulrich // Pittsburgh: Materials Research Society. – 1988.128– P.717.89. Norian, K.H. Morphology and thermal properties of solvent-cast arsenicsulfide films / K.H. Norian, G.C. Chern, I. Lauks // J. Appl. Phys. – 1984 – No55 (10).
–P.3795.90. Технологиянанесенияпокрытияметодомцентрифугирования[Электронный ресурс]. — Лабораторное оборудование "CZL". — 2015 — Режимдоступа: https://www.czl.ru/applications/spin-coating-technology/91. Karel Palka. Preparation of arsenic sulfide thin films for integrated opticalelements by spiral bar coating / Karel Palka, Tomas Syrovy, Siegmund Schröter, SvenBrückner, Manfred Rothhardt, and Miroslav Vlcek // Optical Materials Express. –February 2014 – Vol. 4(2) – P.384.92. Shutina, S.
Photoinduced phenomena in spin-coated As2S3 and AsSe films /S. Shutina, M. Klebanov, S. Lyubin, V Rosenwaks, V. Volterra // Thin Solid Films. –1995 – No. 261(1-2) – P.263.93. Яковлева, А. А. Коллоидная химия: учебное пособие для вузов / А. А.Яковлева. — 2-е изд., испр. и доп. — М.: Издательство Юрайт, 2018.
— 209 с.94. Yэйн, Р. Основы и применения фотохимии / Р. Yэйн — М.: Мир —1991. — 304 с.95. Ковба, Л.М.. Рентгенография в неорганической химии / Л.М. Ковба. —Изд.- Во МГУ — 1991 — 25 c.96. Рентгеновский монокристальный дифрактометр высокого разрешенияD8 DISCOVER (XRD) для исследования тонкопленочных структур [Электронныйресурс]. —Научно — образовательный центр «Физика твердотельныхнаноструктур».—2001—Режимдоступа:http://spm.unn.ru/labs/RD/DISCOVER.aspx.97. TOPAS-Academic V6 [Электронный ресурс] // Coelho Software Brisbane,Australia, 2016 — Режим доступа: http://www.topas-academic.net/.98. Спектрометр Spectrum 65 [Электронный ресурс] // ООО ТПК«Трастинвест», 2016.
— Режим доступа: http://trastinvest.ru/agriculture/opredelenieprimesey/65-ik/.12999. Гоулдстейн, Дж. Растровая электронная микроскопия и рентгеновскиймикроанализ: в двух книгах. Пер. с англ. / Дж. Гоулдстейн, Д. Ньюбери, П. Эчлин— М.: Мир, 1984. — 303 с.100. Миронов, В. Л.. Основы сканирующей зондовой микроскопии. / В. Л.Миронов. — Российская академия наук, Институт физики микроструктур г.Нижний Новгород, 2004 — 110 с.101. Атомно-силоваямикроскопия[Электронныйресурс]//Центрколлективного пользования «ИБГ РАН», Москва, 2018. — Режим доступа:http://www.ckpgene.ru/left/atomno-silovaya_mikroskopiya/102.
Микроскоп проходящего и падающего света Nikon ECLIPSE LV100ND.[Электронный ресурс] // Компании TOKYO BOEKI, 2015 — Режим доступа:https://microscope.ru/industrialnyie-mikroskopyi/inspect/reflected-transmitted/nikoneclipse-lv100.103. Стилусный профилометр Alpha-Step D-100. [Электронный ресурс] //Лабораторное аналитическое оборудование Бел-АЯВР, 2015 — Режим доступа:http://www.bvr.by/oborudovanie/mikroskopiya-i-profilometriya/opticheskie-i-stilusnyeprofilometry/stilusnyi-profilometr-alpha-step-iq/.104.
Твердость. Измерение твердости по Роквеллу, Бринеллю, Виккерсу.[Электронный ресурс] // ООО "ТЕХИНТЕСТ", 2016. – Режим доступа:http://www.techintest.ru/statyi/91-tverdost-izmerenie-po-rockvellu-branellyuvikkersu.html.105. Oliver, W.C. An improved technique for determining hardness and elasticmodulus using load and displacement sensing indentation experiments / W.C.
Oliver,G.M. Pharr // J. Mater. Res. – 1992. – Vol.7 – №6. – P. 1564.106. Химическая энциклопедия: т.1 М.: Советская энциклопедия, 1988. –623 c.107. Накамото,К.ИК-спектрыиспектрыКРНеорганическихкоординационных соединений / К. Накамото – М.: Мир, 1991. – 536 с.и.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
