Диссертация (Изучение электронного и атомного строения нанослоев Al2O3 при контакте с TiN и диэлектриков на основе SiO2), страница 24
Описание файла
Файл "Диссертация" внутри архива находится в папке "Изучение электронного и атомного строения нанослоев Al2O3 при контакте с TiN и диэлектриков на основе SiO2". PDF-файл из архива "Изучение электронного и атомного строения нанослоев Al2O3 при контакте с TiN и диэлектриков на основе SiO2", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "физико-математические науки" из Аспирантура и докторантура, которые можно найти в файловом архиве СПбГУ. Не смотря на прямую связь этого архива с СПбГУ, его также можно найти и в других разделах. , а ещё этот архив представляет собой кандидатскую диссертацию, поэтому ещё представлен в разделе всех диссертаций на соискание учёной степени кандидата физико-математических наук.
Просмотр PDF-файла онлайн
Текст 24 страницы из PDF
- 72. - С.3072-3079.198.Porte, L. [и др.] Vacancy effects in the X-ray photoelectron spectra ofTiNx // Physical Review B. - 1983. - 28. - C. 3214.199.Glaser, A. [и др.] Oxidation of vanadium nitride and titanium nitridecoatings // Surface Science. - 2007. - 601. - C. 1153-1159.200.Bertoti, I. [и др.] Surface characterisation of plasma-nitrided titanium:an XPS study // Applied Surface Science.
- 1995. - 84. - С. 357-371.201.Bruninx, E. [и др.] X-ray photoelectron spectroscopy of hafniumnitride // Journal of Materials Science. - 1986. - 21. - С. 541-546.202.Pulsipher, D.J.V. [и др.] Controlled nitrogen doping and filmcolorimetrics in porous TiO2 materials using plasma processing // ACS AppliedMaterials and Interfaces. - 2010. - 2. - C. 1743–1753.203.Tougaard, S. Universality classes of inelastic electron scattering crosssections // Surface and Interface Analysis. - 1997.
- 25. - C. 137-154.144204.Jaeger, D. [и др.] Complete and self-consistent evaluation of XPSspectra of TiN // Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. –2012. - 185. C. 523-534.205. Wallbank, B. [и др.] 2p and 2s shake-up satellites in solid compounds of 3dions // Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. - 1974.
- 5. - С.259-266.206.Filatova, E.O. [и др.] Soft X-ray reflectometry, hard X-rayphotoelectron spectroscopy and transmission electron microscopy investigations ofthe internal structure of TiO2(Ti)/SiO2/Si stacks // Science and Technology ofAdvanced Materials. - 2012. - 13. - C. 015001-015012.207.Filatova, E.O., Kozhevnikov, I. V.
& Sokolov, A. A. Characterizationof high-k dielectrics internal structure by X-ray spectroscopy and reflectometrynew approaches to inter layer identification and analysis, in: Gang, H., Zhaoqi, S.High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology (Wiley-VCH Verlag, 2012).208.Trzhaskovskaya, M.B. [и др.] Photoelectron angular distributionparameters for elements Z = 1 to Z = 54 in the photoelectron energy range 100–5000 eV // Atomic Data and Nuclear Data Tables.
- 2001. - 77. - С. 97-159..
