Диссертация (1145323), страница 36
Текст из файла (страница 36)
Благодаряэластичности взаимодействие графена с поверхностями, имеющими иную кри216сталлическую структуру поверхности, может приводить к значительной корругации 2D кристалла. В диссертации проведен сравнительный анализ структурных и электронных свойств монослоев h-BN и графена, сформированных наповерхности Ir(111). Качество кристаллической структуры обеих систем в существенно зависит от температуры синтеза. Повышение температуры приводит кулучшению качества, однако термическая стабильность h-BN ограничена температурой около 1000∘ C, выше которой нитрид бора разлагается. По сравнению сграфеном, кристаллиты h-BN, сформированные при той же температуре, оказываются значительно лучше ориентированными пространственно.
Исследованияс помощью ФЭСУР показали, что взаимодействие слоя h-BN с поверхностьюIr(111) является слабым, но в спектрах фотоэмиссии наблюдаются дополнительные (реплицированные) и зоны, аналогичные репликам -состояний, ранеенаблюдавшимся в дираковском конусе системы графен/Ir(111). Анализ и моделирование возможных сценариев возникновения реплицированных зон показали,что их спектральная интенсивность преимущественно обусловлена появлениемдополнительной разности фаз фотоэлектронных волн вследствие периодическойкорругации двумерных слоев.Корругация графена наблюдается и на других подложках, имеющих как гексагональную, так и негексагональную структуру поверхности. В качестве примера в диссертации исследован графен, выращенный на плоской несоразмернойповерхности Ni(110) с прямоугольной поверхностной решеткой, а также на ступенчатых поверхностях никеля.
В СТМ-изображениях системы графен/Ni(110)наблюдается сложная структура муара, которую можно расшифровать с помощью предложенной простейшей модели. На ступенчатых подложках никеля продемонстрировано, что благодаря эластичности графена и прочности С–С связейон способен неразрывным слоем покрывать поверхности со сложным фасетированным рельефом. Это свойство может играть как положительную роль, позволяя формировать сплошное графеновое покрытие на негладких поверхностях(например, на поликристаллических материалах), так и отрицательную роль, не217позволяя синтезировать графеновые наноленты методом CVD на ступенчатыхповерхностях.Одной из важнейших технологических задач на пути массового производства устройств на основе графена является трудность синтеза высококачественного монокристаллического графена на большой площади поверхности.
Слои,формируемые методом CVD, являются поликристаллическими и содержат множеcтво дефектов. На основе представленных в диссертации результатов можно сказать, что одной из наиболее перспективных подложек для синтеза монокристаллического графена является поверхность Co(0001). Автором впервыепродемонстрировано формирование высокоориентированного интерфейса графен/Co(0001), в котором решетка графена совпадает с решеткой поверхностиподложки. Можно надеяться, что в будущем использование этого уникального свойства системы графен-кобальт позволит достичь необходимого качестваструктуры CVD-графена.Полученные результаты позволили сформулировать следующие защищаемые положения:∙Разработанный способ формирования графена на поверхности квазисвободного монослоя гексагонального нитрида бора позволяет изготовитьультратонкую структуру металл-диэлектрик-полупроводник, в которой графенхарактеризуется дираковским электронным спектром без переноса заряда.∙Интеркаляция кремния под графен, синтезированный на ферромагнитных d-металлах, приводит к формированию квазисвободного графена наповерхности силицидов этих металлов.
Стехиометрия силицидов определяетсятипом металла и условиями интеркаляции. В случае подложки Co(0001) кремний образует твердый раствор в объеме, и стабильную поверхностную фазукристаллического силицида на поверхности, контактирующей с графеном.Введение примесей. Наиболее перспективными кандидатами для создания проводимости n- и p-типа в графене являются примеси азота и бора, соответственно. Автором разработан метод синтеза легированного азотом графена218из паров триазина на монокристаллической поверхности Ni(111).
ПолученныйN-графен, как правило, содержит 1–2 ат.% примесей азота, характеризуемых различной конфигурацией химических связей. Среди введенных примесей преобладает пиридиноподобный азот, не являющийся электронным донором, однако,найден способ изменения структуры примесей. Обнаружено, что интеркаляцияатомов золота в интерфейс N-графен/Ni с последующим отжигом системы приводит к превращению большинства пиридиноподобных примесей в графитоподобный (замещающий) азот, являющийся эффективным донором электронов. Такаяконверсия сопровождается заполнением электронных состояний зоны проводимости N-графена. При интеркаляции других металлов, в частности Ag, Cu, Pd,превращение азота происходит в значительно меньшей степени, что указываетна особую роль золота в процессе конверсии. Предложенный в диссертации механизм конверсии, в основе которого лежит диффузия углерода из подложки ивстраивание его в вакансию вблизи пиридиноподобного азота, позволил построить модель, описывающую кинетику процесса.
Такой механизм подтверждаетсярасчетами, указывающими на ослабление золотом ковалентной связи графена сникелем и понижение энергетического барьера для встраивания углерода. Детальный анализ кинетики превращения азота позволил выявить, по меньшеймере, два типа пиридиновых примесей со значительно различающимися энергиями активации по отношению к процессу конверсии.Изучение изменений электронной структуры N-графена вблизи уровня Ферми в процессе конверсии показало, что допирующий эффект замещающего азотав значительной мере подавляется при доминирующем количестве пиридиноподобных примесей. С увеличением степени конверсии пиридиноподобного азота вграфитоподобный, эффективность допирования возрастает до уровня 0.5 зарядаэлектрона на атом азота.
Полученные результаты демонстрируют возможностьпрецизионного контроля соотношения концентраций различных типов примесии управления концентрацией носителей заряда, что имеет большое значение дляразработки новых устройств на основе N-графена.219В главе 4 диссертации предложен способ синтеза легированного боромграфена (B-графена) на поверхностях Ni(111) и Co(0001) путем каталитического разложения паров карборана. Показана устойчивость полученного в вакууме B-графена по отношению к контакту с воздухом и определена структурапримесных центров. Обнаружено, что бор преимущественно замещает атомыуглерода в решетке графена и влияет на ориентированность графеновых доменов. В случае использования подложки Ni(111) B-графен хорошо ориентированпри низких концентрациях бора (<5 ат.%). В таких образцах обнаружена сильная асимметрия легирования, когда атомы бора преимущественно внедрены водну из двух подрешеток графена.
Показано, что атомы примеси с большейвероятностью занимают в решетке места, расположенные над междоузлиямиповерхности Ni(111). Предсказано, что подобная асимметрия должна приводитьк появлению запрещенной зоны, если снять графен с металлической подложки.Для того чтобы проанализировать подрешеточную асимметрию в случае сильного легирования, был разработан метод тестирования асимметрии по спектрамРФЭС. Обнаружено, что в B-графене на Ni и Co не наблюдается асимметриилегирования при высокой концентрации бора. Причиной является то, что привысоком уровне легирования (>12 ат.%) B-графен оказывается плохо ориентированным и недостаточно хорошо упорядоченным на атомарном уровне. Такимобразом, значительную асимметрию внедрения бора в подрешетки B-графенана Ni(111) и Co(0001) можно ожидать лишь при достаточно низких концентрациях примеси.
Эти результаты являются важным предварительным шагом напути к прямому обнаружению индуцированной примесями запрещенной зоны вграфене посредством измерений транспортных свойств. Это может способствовать дальнейшему прогрессу в области практического использования графена,но для этого необходимо разработать эффективный способ переноса B-графенас металла на изолятор.На основании этих выводов можно сформулировать следующие защищаемые положения:220∙Разработанный способ синтеза легированного азотом высокоориентированного графена на поверхности Ni(111), позволяет внедрить 1 − 2 ат.%примеси, характеризуемой преимущественно пиридиновой конфигурацией связей и p-типом допирования. Показано, что интеркаляция золота под N-графенс последующим отжигом системы приводит к превращению большинства пиридиновых примесей в азот замещения, являющийся эффективным электроннымдонором.∙В N-графене эффективность конверсии пиридиновой примеси азота взамещающую определяется взаимодействием с материалом подложки и в рядуметаллов Ni, Au, Cu, Ag, Pd достигает максимума (до 80%) на поверхности Au.В начале конверсии допирующий эффект замещающего азота в значительноймере подавляется пиридиновой примесью, но по мере превращения эффективность допирования возрастает до уровня 0.5 электрона на атом азота.
Этопозволяет контролировать тип и концентрацию носителей заряда в графене.∙Разработанный способ синтеза легированного бором графена на поверхностях Ni и Co, позволяет контролировать концентрацию примеси вплотьдо ∼ 19 aт.%. При этом атомы бора преимущественно замещают атомы углерода в решетке графена.
При низких концентрациях бора (< 5 ат.%) в системеB-графен/Ni(111) наблюдается предпочтительное внедрение примеси в одну издвух подрешеток графена. При высоких концентрациях бор внедрен хаотично иприводит к сильному разупорядочению решетки.Адсорбция. В главе 5 показано, что хемосорбция атомарного водорода наквазисвободный графен приводит к образованию запрещенной зоны, ширина которой возрастает с увеличением концентрации водорода и достигает ∼ 1 эВ.Это открывает возможности эффективного управления электронной структуройи проводимостью графена после его синтеза. Аналогичный феномен наблюдается и при адсорбции дейтерия.