074f-concl (1143791), страница 4
Текст из файла (страница 4)
Значение полученных соискателем результатов исследования для практики подтверждается тем„что: - на основе полученных сведений о физико-химических закономерностях плазмохимического травления фоторезистивных слоев в установках с удаленной низкотемпературной кислородной плазмой разработана технология прецизионного плазмохимического травления фоторезистивных слоев на основе нафтохинондиазидов, обеспечивающая получение пленок заданной толщины с требуемой точностью и минимальной шероховатостью поверхности (0,2-0,3 нм) и полностью удовлетворяющая требованиям, предъявляемым к технологическому процессу формирования подвижного электрода мостиковых элементов изделий микросистемной техники; полученные данные о характере влияния основных технологических параметров на скорость плазмохимического травления и шероховатость обрабатываемой поверхности в установках с удаленной плазмой позволяют выбирать оптимальные режимы осуществления технологического процесса, обеспечивающие наибольшую скорость при требуемой шероховатости поверхности слоев; результаты по исследованию процессов плазмохимического травления фоторезистивных слоев в технологической аппаратуре различного типа (разные конструкции камер и способы создания высокочастотных газовых разрядов) позволяют дать обоснованные рекомендации по выбору промышленного технологического оборудования, наиболее подходящего для решения различных задач в области плазмохимическо го травления фоторезистивных пленок; разработанные методики контроля толщины и шероховатости поверхности фоторезистивных слоев с применением атомно-силовой микроскопии и методов статистической обработки результатов измерений могут быть рекомендованы для использования на предприятиях микроэлектронной промышленности; разработанная технология внедрена в технологический маршрут изготовления МЭМС переключателей резистивно-емкостного типа с электростатическим приводом на предприятии АО «СветланаЭлектронприбор», что подтверждено соответствующим актом внедрения от 20.12.2018 г.
Результаты работы рекомендуются для использования при разработке технологии производства элементной базы микросистемной техники мембранного и микромостикового типа, а также разнообразных микроэлектронных изделий в научно-исследовательских центрах и на предприятиях электронной промышленности РФ, в частности на таких предприятиях, как АО «Ангстрем» (г. Москва, Зеленоград), АО «НПФ «Микран» (г. Томск), АО «Светлана-Электронприбор» (г. Санкт-Петербург), ЗАО «НПП «Планета-Аргал» (г.
Великий Новгород), АО «ОКБ-Планета» (г. Великий Новгород), АО «НПП «Исток» им. Шокина» (г. Фрязино), АО «ГИРООПТИКА» (Санкт-Петербург), ОАО «Авангард» (Санкт-Петербург), АО «Светлана» (Санкт-Петербург), ООО «Маппер» (Москва), ОАО ВЗПП «Микрон» (Воронеж), АО «ЗНТЦ» (Зеленоград), АО "НПП "ЭЛАР" (СанктПетербург), АО НТО (Санкт-Петербург), ОАО «НПП Радар ММС» (СанктПетербург), ФГУП НПФ «Микран» (Томск), ГНЦ РФ АО "Концерн "ЦНИИ "Электроприбор" (Санкт-Петербург). Оценка достоверности результатов исследования выявила, что: результаты получены с использованием современного технологического и аналитического оборудования (сертифицированный атомно-силовой микроскоп Бо!~'ег Р47 — Рго, сертифицированный набор мер рельефных нанометрового диапазона из монокристаллического кремния (ГОСТ Р 8.628-2007), растровый электронный микроскоп Берга 55 Ъ'Р, монохроматор МСД-1М, лазерный эллипсометр ЛЭФ 752), а также с применением статистических методов обработки измерений; - достоверность полученных результатов подтверждается высокой воспроизводимостью результатов измерений, относящихся к определению скорости травления и шероховатости поверхности фоторезистивных слоев при многократном повторении экспериментов, а также хорошей согласованностью всех полученных результатов как между собой, так и с опубликованными другими авторскими коллективами результатами.
Личный вклад соискателя состоит в: поиске и анализе литературных данных по теме исследования, проведении процессов плазмохимического травления в установке, обеспечивающей создание ВЧ разряда в кислороде при атмосферном давлении, а также в установке с удаленной индуктивно связанной кислородной плазмой, обработке и интерпретации полученных экспериментальных данных, в обсуждении результатов работы и в подготовке публикаций по теме диссертации.
Все исследования с использованием атомно-силовой микроскопии, растровой электронной микроскопии и оптической эмиссионной спектроскопии также выполнены лично автором. Диссертационный совет считает, что диссертация Спешиловой Анастасии Борисовны представляет собой завершенную научно- квалификационную работу, которая соответствует критериям, установленным п.п. 9 — 14 «Положения о присуждении ученых степеней», утвержденным постановлением Правительства Российской Федерации от 24 сентября 2013 г. № 842 аурел. от О!.10.2018 №11б8), а именно содержит решение актуальной задачи по разработке технологии формирования "жертвенных" фоторезистивных слоев заданной толщины с требуемой точностью и низкой шероховатостью, пригодной для изготовления элементов мембранного типа в производстве компонентов микросистемной техники. Экспериментально установлены основные физико-химические закономерности процессов плазмохимического травления фоторезистивных слоев в установке с удаленной низкотемпературной кислородной плазмой, на базе которых создана технология плазмохимического формирования жертвенных слоев требуемой толщины с низкой шероховатостью обрабатываемой поверхности 1'0,2-0,3 нм), успешно примененная для .
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
