074f-concl (1143791), страница 2
Текст из файла (страница 2)
ЕгешеусЬй // Физика и техника полупроводников. — 2007. — Т.41, №4 — С. 481-482 (Бегп1сопдпсгогз. — 2007.— Ъ'о1. 41, Хо. 4. — Р.469-472). Вклад А.Б. Спешиловой — Исследование толщины и иероховатости поверхности фоторезистивных пленок методами атомно-силовой микроскопии до и после плазмохимического травления. Обсуждение и интерпретация результатов.
Подготовка текста публикации. /4 стр/ 3. Соловьев, Ю.В. МЭМС-переключатель резистивно-емкостного типа / Ю.В. Соловьев, В,В. Волков, С.Е. Александров, А.Б. Спешилова // Нано- и микросистемная техника. — 2007. — №7.— С. 65-68. Вклад А.Б.
Спешиловой — Исследование толи/ины и шероховатости поверхности фоторезистивных пленок, поверхностей управляющих электродов методами атомно-силовой и растровой электронной микроскопии. Обсуждение и интерпретация результатов. (4 стр.) 4. Спешилова, А.Б. Плазмохимическое травление тонких фоторезистивных слоев / А.Б.
Спешилова, С.Е. Александров, Л.А. Филатов. // Научно-технические ведомости СПбГТУ. — 2008. — № 2.— С. 107-112. Вклад А.Б. Спешиловой — Проведение процессов плазмохимического травления фоторезистивных образцов в различных установках Исследование толщины и игероховатости поверхности фоторезистивных пленок методами атомно-силовой микроскопии до и после плазмохимического травления.
Обсуждение и интерпретация результатов. Подготовка текста публикации. 1б стр.) 5. БрезЬ11оча, А.В. Р1аяпа сЬеш1са! егсЬ1п8 о! рЬогогез1зг 1ауегз Ьазег! оп йауопарЬгЬос!ц1попез 1п ап 1пзга11аг1оп МгЬ гептоге оху8еп р1аяпа /А.В. ЯрезЬ11оча, 1/'Х. Бо1оч'еч, К.Е. А1ехапг(гоч// Кцзз1ап .1оцгпа! о! Арр!1ес! СЬегп1зггу. — 2016. — Ъ'о1. 89, Мо. 8. — Р. 1317-1321. Вклад А.Б.
Спешиловой — Исследование толщины и шероховатости поверхности фоторезистивных пленок методами апгомно-силовой микроскопии до и после плазмохимического травления в установке с индуктивно связанной низкотемпературной плазмой. Проведение исследований с помощью оптической эмиссионной спектроскопии и лазерной э;пипсометрии.
Обсуждение и интерпретация результатов. Подготовка текста публикации. /5 стр.) На диссертацию и автореферат поступили положительные отзывы от: Лукьянова Валерия Дмитриевича (д.ф.-м.н., профессора, ученого секретаря ОАО «Авангард») и Дзюбаненко Сергея Владимировича (к.т.н., 6 начальника отдела технологии изделий микросистемной техники ОАО «Авангард»), Кондратьевой Анастасии Сергеевны (к.х.н., зам. генерального директора ООО «СНДГрупп»), Поповой Ирины Валерьевны (д.т.н., генерального директора АО «ГИРООПТИКА»), Малеева Николая Анатольевича (к.т.н., с.н.с.
лаборатории физики полупроводниковых гетероструктур ФТИ им. А.Ф. Иоффе), Кондратьева Александра Сергеевича (к.т.н., доцента, зам. директора ЦНИИ РТК), Николайчук Галины Александровны (к.т.н., начальника отдела наноматериалов и СВЧ приборов на их основе АО «НИИ «Феррит-Домен»), Беленького Бориса Петровича (к.т.н., заместителя директора по науке АО «НИИ «Гириконд»). В отзывах указывается, что автором проведен анализ большого объема литературных и экспериментальных данных, а представляемая работа характеризуется высоким научным уровнем, практической значимостью результатов и по своей новизне и актуальности соответствует требованиям Высшей аттестационной комиссии Российской Федерации.
В отзыве д.ф.-м.н., профессора ВД. Лукьянова и к.т.н. С.В. Дзюбаненко содержатся следующие замечания: 1. Несмотря на то, что исследование выполнено на высоком научном и техническом уровне, незначительное количество изученных в работе марок фоторезистов (ФП 4-04В и ФП 91-20), не позволяет сделать уверенный вывод о применимости результатов исследования к другим фоточувствительным материалам, используемым в качестве «жертвенных» слоев при производстве изделий микросистемной техники. 2. В автореферате не указано, на какие образцы наносился фоторезист (материал подложки, его геометрические размеры). 3.
Из автореферата не ясно. оценивал ли автор неравномерность толщины слоя фоторезиста и ее изменение после плазмохимичес кого травления. В отзыве к.х.н. А.С. Кондратьевой содержатся следующие замечания: 1. В тексте автореферата (стр. 8) приведен список используемых аналитических методик. Однако в автореферате не введено понятие погрешности определения, что, в некоторой степени, затрудняет оценку перспективности предлагаемого подхода. 2. Из текста автореферата (стр. 10) не ясно, что являлось критерием «оптимальности» при выборе фоторезиста.
Изучались ли другие группы соединений? Насколько предложенный подход применим для других марок фоторезистов? 3. На стр. 20 автор говорит о том, что «получены новые знания о физико-химических закономерностях плазмохимического травления...», однако из текста автореферата не очевидно, проводились ли оценки химизма процесса". Есть ли у автора предположения о механизмах протекающих процессов? В отзыве к.т.н. Н.А.Малеева содержится следующее замечание: 1.
В разделе «Теоретическая и практическая значимость» (п.2) отмечается важность полученных «данных о влиянии режимов термообработки фоторезистивных пленок на скорость травления и шероховатость поверхности при плазмохимическом травлении». Однако в содержательной части автореферата эти данных не приводятся ни количественно, ни с качественной оценкой. В отзыве к.т.н. А.С. Кондратьева содержатся следующие замечания; 1. В описании содержания второй главы диссертации практически не указаны технологические параметры процессов плазмохимического травления в примененных установках.
Это следовало бы сделать кратко. 2. Отсутствует информация о том, осуществлялась ли оценка однородности скорости травления слоя фоторезиста по площади поверхности подложки. 3. В описании содержания третьей главы диссертации следовало бы привести схемы экспериментальных установок У1, У2 и УЗ или их описание. В отзыве к.т.н. Г.А. Николайчук содержится следующее замечание: 1. В автореферате на рис.
1 и в тексте на страницах 9 и 10 отсутствуют пояснения для микромостиковых структур а) и б). В отзыве к.т.н, Б.П. Беленького содержится следующее замечание: 1. В автореферате не приведены зависимости шероховатости от скорости травления при различных технологических параметрах процесса, что значительно нагляднее могло бы проиллюстрировать выбор оптимального метода плазмохимического травления и соответствующих значений технологических параметров, Отзыв официального оппонента, д х.н., профессора Ю.К. Ежовского, содержит следующие замечания: 1.
В работе приводятся некоторые результаты по плазмохимическому травлению фоторезистивных слоев при атмосферном давлении. С моей точки зрения, низкотемпературные плазмохимические технологии, реализуемые при атмосферном давлении представляют особый интерес, однако в работе им уделено явно недостаточно внимания. 2. Оценка шероховатости поверхности осуществлялась методом атомно-силовой микроскопии, используя палуконтактный режим сканирования. Возникает вопрос о точности всех измерений, имея в виду относительно невысокую твердость полимерных материалов. Более того, автор сам упоминает на стр.
75: «На рисунке 3.6 приведено АСМ- изображение поверхности образца ФП 4, на котором отчетливо видны углубленные области, появившиеся после предыдущих сканиронаний». 3. На стр. 62 диссертант отмечает: «Полученные данные соотносили с результатами измерений, которые проводили с помощью оптической лазерной эллипсометрии», однако сведений об использованном эллипсометре, длине волны лазерного излучения не приводится. На сколько все же совпадали результаты измерения толщины с помощью АСМ и эллипсометрии7 4. В автореферате и диссертации имеется некоторое количество опечаток и ошибок в оформлении.
Так в автореферате опечатка в нумерации задач, а в диссертации 2 страницы под номером 78. Официальный оппонент, профессор Ю.К. Ежовский, также отмечает, что несмотря на указанные недостатки, работа производит хорошее впечатление, как уровнем эксперимента, так и уровнем интерпретации полученных результатов, что указывает на достаточно высокую квалификацию автора, а сама работа, безусловно, заслуживает поддержки и положительной оценки. Автореферат и опубликованные работы достаточно полно характеризуют результаты проведенных исследований и отражают основное содержание диссертации.
Диссертационная работа Спешиловой Анастасии Борисовны «Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толшины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением», является завершенной научно- квалификационной работой, которая по критериям актуальности, научной новизны, обоснованности и достоверности выводов соответствует пп. 9-11 «Положения о порядке присуждения ученых степеней», утвержденного Постановлением правительства Российской Федерации от 24 сентября 2013 года № 842 ~ред. от 01.10.2018 № 1168). Уровень задач, решенных соискателем, соответствует требованиям, предъявляемым к диссертациям на соискание ученой степени кандидата технических наук.
Содержание диссертации соответствует специальности 05.27.06 — «Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники», и автор работы заслуживает присуждения ей ученой степени кандидата технических наук по специальности 05.27.06 «Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники». то Отзыв официального оппонента, к.т.н.
В.Е. Землякова, содержит следующие замечания: 1. Во введении (стр.4) автор утверждает, что эффект залипания мембраны («прилипание») при ее касании к другой поверхности тем сильнее, чем больше шероховатость поверхности мембраны. Однако практика показывает, что шероховатость минимизирует поверхность контакта и вероятность слипания.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
