Деулин Е.А. - Методические указания к лабораторным работам по физике вакуума (1074255), страница 4
Текст из файла (страница 4)
В элионном (напылительном, эпитаксиальном, электронно-, ионно-лучевом и т.п.) оборудовании этому этапу соответствует прогрев для обезгаживания испарителей (в установках вакуумного напыления), прогрев катодов в электронно-лучевом или ионно-лучевом технологическом оборудовании.
Время активирования и обезгаживания катода или испарителей рассчитывается на основе данных газосодержания катода или испарителей.
7. Время tО откачки ЭВП после обезгаживания до момента достижения окончательного давления в ЭВП рассчитывается.
В элионном оборудовании после обезгаживания обычно проводится процесс формирования изделия (напыления, сварки, ионного легирования и т.п.), время которого определяется режимом работы.
Элионное оборудование, как правило, включает еще один этап- остывание полученного изделия продолжительностью от 10 до 40 мин.
8. Отпай ЭВП, или разгерметизация камеры, tП. Обычно принимают:
1) отпай стеклянного штенгеля- 10-60 с;
2) пережим металлического штенгеля- 1-10 мин;
3) разгерметизация камеры и снятие изделий- 5-20 мин.
Технологическая диаграмма дает наглядное представление о последовательности, количестве и продолжительности переходов, зависящих от специфики техпроцесса, конструкции вакуумной системы.
Проектирование вакуумной системы технологического оборудования включает следующие этапы:
7.1 Построение технологической диаграммы.
Строится типовая технологическая диаграмма обработки изделия рис. 16., которую в процессе проектирования удобно использовать как справочный инструмент - отмечать на ней переходы, проставлять рассчитанные времена переходов, менять их порядок. Типовая технологическая диаграмма в процессе проектирования установки постоянно уточняется, конкретизируется, и свой окончательный вид приобретает лишь в конце процесса проектирования.
Технологический переход | обо-знач. | Примечание | |||||||
Установка электровакуум. Прибора (ЭВП) | tу | Нормируется на основ. опыта | |||||||
Форвакуумная откачка (ЭВП) | tф | Рассчиты- вается | |||||||
Высоковакуумная откачка(ЭВП) | tВ | Рассчиты-вается | |||||||
Сверхвысокова-куумная откачка (ЭВП) | tСВ | Рассчиты-вается | |||||||
Обезгаживание арматуры (ЭВП) | tоб | Регул. или задаётся | |||||||
Активирование катода | tК | Рассчиты-вается | |||||||
Отпай прибора | tо | Нормируется или задаётся |
Рис. 16а Пример технологической диаграммы откачки ЭВП.
Технологический переход | обо-знач. | Примечание | ||||||||||||
Установка подложек | tу | Нормируется на основ. опыта | ||||||||||||
Форвакуумная откачка (ЭВП) | tф | Рассчиты- вается | ||||||||||||
Высоковакуумная откачка(ЭВП) | tВ | Рассчиты-вается | ||||||||||||
Прогрев и обезгаживание подложек | tоб | Регул. или задаётся | ||||||||||||
Обезгаживание испарителя с материалом | tИ | Рассчиты-вается | ||||||||||||
Напыление | tН | Задаётся или регулир. | ||||||||||||
Остывание подложек | tх | Задаётся | ||||||||||||
Подъём колпака, съём подложек | tо | Нормируется на основ. опыта |
Рис. 16.б Пример технологической диаграммы работы установки напыления
7.2. Выбор типов насосов, обеспечивающих окончательную откачку рабочего объема.
Производится путем сопоставления требований к окончательному разряжению в откачиваемом электровакуумном приборе (или в рабочей камере технологической установки), см. табл.1., с предельными возможностями насосов, табл. 2. С учетом газовыделения из стенок откачиваемого объема, катодов, нагревателей, испарителей и т.п. предельное давление насоса РН’ должно быть примерно на порядок меньше окончательного давления РО в приборе или рабочего давления в технологической камере, т.е.
7.3. Синтез вакуумной системы.
При синтезе вакуумной системы следует помнить, что каждый из типов высоковакуумных (или сверхвысоковакуумных Р'<10-4 Па) насосов требует определенной схемы соединения с откачиваемыми объектами и насосами предварительного разряжения. Типовые схемы соединения насосов могут быть использованы из рис. 1-9, при этом на рис. 1,3,4,8 даны схемы соединений, используемые для индивидуальных откачных постов и установок, на рис. 6- схема с параллельным агрегатированием вакуумного откачного оборудования. Параллельное и последовательное агрегатирование, предполагающее одновременную обработку нескольких изделий на ряде параллельных позиций или с дроблением техпроцесса на ряд последовательных операций требует усложнения вакуумной системы. При параллельном агрегатировании, рис. 6 система дублируется на каждой позиции и часто ставится на подвижное основание (на рис. 6- на тележку). При последовательном агрегатировании вакуумная система дробится на ряд элементарных звеньев (простейших систем, соединенных с позициями обработки), последовательно улучшающих вакуум в приборе (рис. 2, 5) или в объёме (рис.7) по мере движения изделия от позиции к позиции. Соединение изделий с вакуумной камерой производиться с помощью золотниковых или шлюзовых систем.
Выбор схема агрегатирования и способа перемещения изделий определяется требованием производительности и габаритами изделий. Небольшие изделия (до 20-30 мм в поперечнике) целесообразно обрабатывать на карусельных установках рис. 3, 5, крупногабаритные (например цветные кинескопы) на конвейерных машинах (рис.6).
7.4. Выбор типоразмеров насосов окончательной откачки.
Выбор типоразмеров насосов заключается в определении требуемой быстроты откачки и подборе из каталога конкретных марок насосов, обеспечивающих требуемую быстроту откачки. Сначала, в соответствии с разработанной вакуумной системой, выбирается насос окончательной откачки, а затем насосы системы предварительной откачки, а затем насосы системы предварительного разряжения.
Определение требуемой быстроты откачки насосом окончательной откачки S0 производиться по формуле:
где Q- поток газовыделения в реципиенте (откачиваемом объеме), м3Пас-1;
PP- рабочее давление (при обезгаживании изделия, работе испарителя и т.п.), Пас-1.
Обычно давление при обезгаживании на два-три порядка выше окончательного давления РК в реципиенте. Поток Q определяется суммой элементарных потоков газов десорбирующих со стенок и диффундирующих из толщи (нагретых) деталей (при обезгаживании изделия, работе испарителя и т.п.), натекающих через неплотности, а также за счёт испарения легколетучих компонентов материалов, газопроницаемости тонкостенных участков реципиента и ориентировочно может быть найден как
Q=gmimi/tоб+gFiFi/tоб+QН+QИ+QП , (2)
где:
gmi, gFi- удельное содержание газа в растворённом (внутри материала конструкции) или сорбированном (на поверхностях, обращенных в вакуум) состоянии для прогреваемых элементов, соответственно, м3Па.кг-1 или м3Па.м-2;
tоб- время (высокотемпературного Т300 C) обезгаживающего прогрева, с;
mi- масса обезгаживаемых прогревом деталей;
Fi- поверхность, обращенная в вакуум и выделяющая газ, м2;
QgiFi- поток газовыделения из непрогреваемых элементов вакуумной
системы, м3Па.с-1;
gi- удельное газовыделение с непрогреваемых поверхностей, м3Па.м-2с-1.
QН- суммарный поток газа, натекающий через неплотности вакуумной системы,
м3Пас-1, (определяется чувствительностью используемого для контроля вакуумной установки течеискателя);
QИ=(РНАС-Рi)ViFi- поток газа за счет испарения материалов, обращенных внутрь реципиента, м3Пас-1, (при атом РНАС, Pi- давление насыщающих паров и парциальное давление вещества в реципиенте Па, Vi=117 м3м-2с-1- объем газа, ударяющего о единицу поверхности в единицу времени);
QП=Fi.П.(Рi)1/j.h-1 - поток газа за счет проницаемости тонких стенок, м3Па.с-1 (где П- коэффициент проницаемости; Па1/jм3с-1м-1);
Рi- перепад давлений диффундирующего через стенку газа; Па, j=l для эластомеров, j=2 для металлов, h- толщина стенки, м.
Газосодержание ряда аморфных материалов плохо растворяющих газы, но имеющих большую энергию сорбции (например, стекла) определяется содержанием сорбированного на поверхности газа gF1. Для металлов, эластомеров обычно указывается количество растворенных газов. Некоторые данные по газовыделению и газосодержанию приведены в табл.5.
Таблица 5 Газосодержание и газовыделение вакуумных конструкционных материалов.
№ п/п | Материал | Скорость удельного газавыделен qi, м3Пам-2с-1 | Примечания |
1 | Сталь малоуглеродистая | 410-4 | Не прогретая (не обезгаженная) |
2 | Сталь малоуглеродистая | 310-8 | После прогрева в вакууме при 450С |
3 | Сталь нержавеющая | 110-4 | Не прогретая (не обезгаженная) |
4 | Сталь нержавеющая | 310-9 | После прогрева в вакууме при 450С |
5 | Медь МВ (вакуумная) | 110-5 | Не прогретая (не обезгаженная) |
6 | Медь МВ (вакуумная) | 110-9 | После прогрева в вакууме при 450С |
7 | Никель | 710-8 | Не прогретая (не обезгаженная) |
8 | Вольфрам | 110-6 | Не прогретая (не обезгаженная) |