3 (1058666)

Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла

Способы получения SiO2МетодыCVDИонное распылениеPVDТермическийТермическое испарениеСхема процесса химического осаждения из газовой фазы (ТА при ПД).Схема магнетронного ВЧ распыления.Схема электронно-лучевого испарения.Установка оксидирования при помощи влажногокислородаКонденсация газообразных (парообразных) элементов или соединений с образованием твердых осадков.При термическом оксидировании кислород взаиВещество при нагревании испаряется и осаждается модействует с кремнием, образуя SiO2, и диффунИонизированный рабочий газ, ускоренный в напровлении мидирует через слой SiO2, поскольку коэффициентна подложке.

Виды нагрева: резистивный, ВЧ нашени, выбивает молекулы вещетва, осождаемые на подложке.диффузии O2 в SiO2 во много раз больше, чем анагрев, электронно-лучевой, лазерный.логичный коэффициент диффузии Si в SiO2.СхемаПринципдействияСравнение методовПараметры | методыТемпература подложкиАдгезия пленкиОднородность толщины пленкиСкорость (мкм/ч)CVDPVD (ионное распыление)PVD (термическое испарение)Термический~1000°C~300°C~700°C1000 ~ 1200 °CУдовлетворительнаяХорошаяУдовлетворительнаяХорошаяХорошаяХорошаяУдовлетворительнаяХорошая6 ~ 1501 мкм за 1 ~ 15 часов(толщина растет логорифмическиa·lg(t) + b = h, где a и b коэффициенты)1.2 ~ 550 ~ 100МинимальноСущественноМинимальноМинимальноТоксичность материаловДаНетНетНетОстаточные напряженияГПа (Па·109)SiH4 + 02: +0.13 ~ + 0.38 (40 nm/min ~ 400 nm/min)Si(OC2H5)4: + 0.38Si(OC2H5)4 + O2: + 0.15-0.15-0.15-0,20 до -0.30 (при 900~1200°C)ДаДаДаДаМеталлыСплавыДиэлектрикиМеталлыСплавыДиэлектрикиМеталлыСплавыДиэлектрикиОксидыНетДаНетДаНизкийНизкийВысокийНизкийИнтеграция с АИИНетДаНетНетСовмещение с операциями диффузииНетНетНетДаРесурс мишени—ВысокийНизкий—Расположение подложек по гор.

и верт.ДаДаНетДа1-81-81-450 - 100Химическое осаждениеРаспыление материалаИспарение материалаВыращивание оксидаЗагрязнениеВозможность контролировать синтез пленкиПолучаемые материалыПростота конструкцииКоэффициент использования материалаКолличество подложек за один циклПринцип действия.

Характеристики

Тип файла PDF

PDF-формат наиболее широко используется для просмотра любого типа файлов на любом устройстве. В него можно сохранить документ, таблицы, презентацию, текст, чертежи, вычисления, графики и всё остальное, что можно показать на экране любого устройства. Именно его лучше всего использовать для печати.

Например, если Вам нужно распечатать чертёж из автокада, Вы сохраните чертёж на флешку, но будет ли автокад в пункте печати? А если будет, то нужная версия с нужными библиотеками? Именно для этого и нужен формат PDF - в нём точно будет показано верно вне зависимости от того, в какой программе создали PDF-файл и есть ли нужная программа для его просмотра.

Список файлов курсовой работы