Азаренков Н.А. - Наноматериалы (1051240), страница 29
Текст из файла (страница 29)
Порошковая металлургия. Материалы, технология, свойства областиприменения / Отв. ред. И. М. Федорченко. – Киев: Наукова думка, 1985. –624 с.16. Лентьевф О. Н., Алымов М. И., Теплов О. А. Гетерофазный синтез железомедных порошков // ФиХОМ – 1996, № 5. – С.
105-109.17. Kriechbaum G. W., Kleinschmidt P. Superfine oxide powders – Flame hydrolysis and hydrothermal synthesis // Angew. Chem. Adv. Mater. – 1989. –Vol. 101, No. 10. – P. 1446-1453.18. Bykov Y., Gusev S., Eremeev A. et al. Sintering of nanophase oxide ceramics by using millimeter-wave radiation // Nanostr. Mat. – 1995. –Vol. 6, No. 58. – P. 855-858.19. Chen I. -W., Wang X. H. Sintering dense nanocrystalline ceramics withoutfinal-stage grain growth // Nature. – 1996.
– Vol. 404, No. 9. – P. 168-171.20. Alymov M. I., Leontieva O. N. Synthesis of nanoscale Ni and Fe powdersand properties of theiu compacts // Nanostr. Mat. – 1995. – Vol. 6, No. 1-4. –P. 393-395.21. Ковнеристый Ю. К. Объемно-аморфизирующиеся металлические сплавы. – М.: Наука, 1999. – 80 с.22. Судзуки К., Фудзимори Х., Хасимото К. Аморфные металлы. – М.:Металлургия, 1987. – 328 с.23. Золотухин И. В. Физические свойства аморфных металлических материалов.
− М.: Металлургия, − 1986. − 176 с.24. Валиев Р. З., Александров И. В. Наноструктурные материалы, полученные интенсивной пластической деформацией. – М.: Логос, 2000. –272 с.25. Bunshah R. F. еt al. Deposition technologies for films and coating.
– ParkRidge, New Jersey (USA): Noyes Publications. – 1982. – 489 p.26. Никитин М. М. Технология и оборудование вакуумного напыления. –М.: Металлургия, 1992. – 92 с.27. Технология тонких пленок. / Под ред. Л. Майссела и Р. Глэнга. – М.:Сов. Радио, 1970. Т.1. – 664 с., Т.2. – 768 с.28. Комник Ю. Ф.
Физика металлических пленок.– М.: Атомиздат, 1979. –374 с.29. Андреев А. А., Саблев В. П., Шулаев В. М., Григорьев С. Н. Вакуумнодуговые устройства и покрытия. – Харьков: ННЦ «ХФТИ», 2005. – 278 с.30. Береснев В. М., Перлов Д. Л., Федоренко А. Д. Экологически безопасное вакуумно-плазменное оборудование и технологии нанесения покрытий. – Харьков: ХИСП, 2003.
– 292 с.31. Данилин Б. С., Сырчин. В. К. Магнетронные распыленные системы. –М.: Радио и связь, 1982. – 287 с.32. Кострежецкий А. И. и др. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме. – М.: Машиностроение, – 1991. – 217 с.13533.
Макарова Т. П. Электрические и оптические свойства мономерных иполимеризированных фуллеренов // Физика и техника полупроводников. –2001. – Т. 35, вып. 3. – С. 257-293.34. Нащекин А. В., Колмаков А. Г., Сошников И. П. и др. Применениеконцепции мультифракталов для характеризации структурных свойствкомпозитных пленок фуллерена С60 легированных CdTe // Письма в ЖТФ.– 2003. – Т.29, вып. 14. – С.8-14.35. Caricato A. P., Barucca G., Di Cristoforo A. et al.
Excimer pulsed laserdeposition and annealing of YSZ nanometric films a Si substates // AppliedSurface Science. – 2005. – Vol. 248. – P. 270-275.36. Kobea S., Žužeka K., Sarantopoulou E. et al. Nanocrystalline Sm–Fecomposites fabricated by pulse laser deposition at 157 nm // Applied SurfaceScience. – 2005. – Vol. 248. – P. 349-354.37.
Amoruso S., Ausanio G., de Lisio C. et al. Synthesis of nickel nanoparticlesand nanoparticles magnetic films by femtosecoud laser ablation in vacuum //Applied Surface Science. – 2005. –Vol. 247. – P. 71-75.38. Белый А. В., Карпенко Г. Д., Мышкин Н. К. Структура и методы формирования износостойких поверхностных слоев. – М.: Машиностроение,1991. – 192 с.39. Белянин А. В., Кривченко В. А., Лопаев Д.
В. Наноструктурированныепленки ZnO для устройств микроэлектроники и оптики // Технология иконструирование в электронной аппаратуре. – 2006. – № 6. – C. 48-54.40. Шулаев В. М., Андреев А. А. Сверхтвердые наноструктурные покрытия в ННЦ ХФТИ // ФИП. – 2008. – Т.
6, № 1-2. – С. 4-19.41. Пат.1757249 РФ, МКИ С23 С14/00 / В. Т. Толок, О. М. Швец,В. Ф. Лымарь, В. М. Береснев, В. И. Гриценко, М. Г. Кривонос.№ 4824783/SU. Заявлено 11.05.90; опубл. 15.07.92.42. Азаренков Н. А., Береснев В. М., Погребняк А. Д. Структура и свойства защитных покрытий и модифицированных слоев. – Харьков. ХНУ им.В.
Н. Каразина, 2007. – 576 с.43. Ягодкин Ю. Д. Ионно-лучевая обработка металлов и сплавов // Итогинауки и техники сер. Металловедение и термическая обработка металлов.М.: ВИНИТИ. – 1980. – Т. 14. – С. 142-185.44. Аброян И. А., Андронов А. Н., Титов Ф. Т. Физические основы электронной и ионной технологии. – М.: Высшая школа, 1984. – 530 с.45. Золотухин И. В., Калинин Ю. Е., Стогней О. В.
Новые направленияфизического материаловедения. – Воронеж: Изд-во ВГУ, 2000. – 360 с.46. Кадыржанов К. К., Комаров Ф. Ф., Погребняк А. Д., Русаков В. С.,Туркебаев Т. Э. Ионно-лучевая и ионно-плазменная модификация материалов. – М.: МГУ, 2005. – 638 с.47. Poate J. M., Foti G., Jacobson D. C. Surface Modification and Alloying byLaser, Ion, and Electron Beams.
– New York: Plenum Press, 1983. – 243 p.13648. Реди Дж. Промышленные применения лазеров. – М.: Мир, 1981. –638 c.49. Ченг Ли, Плот К. Молекулярно-лучевая эпитаксия. – М.: Мир, 1989. –387 с.50. Сыркин В. Г. СVD метод – химическое парофазное осаждение. – М.:Наука, 2000. – 47 с.51. Андриевский Р.
А. Получение и свойства нанокристаллических тугоплавких соединений // Успехи химии. – 1994. – Т. 63, № 5. – С. 431-448.52. Cемикина Т. В, Венгер Э. Ф. Комащенко В. Н. // Зб. наук. праць«Фізико-хімічні основи формування і модифікації мікро- та наноструктур»FMMN–2008. Харків, Україна, Т. 1.
– С. 76-79.53. Лозовик Ю. Е., Попов А. В. Образование и рост углеродных наноструктур – фуллеренов, наночастиц, нанотрубок и конусов // УФН. – 1997. –Т. 167, № 7. – С. 751-774.54. Нерушев О. А., Сухинин Г. И. Кинетика образования фуллеренов приэлетродуговом испарении графита // ЖТФ. – 1997. – T 67, № 2. – C 41-49.55. Горелик О. П., Дюжев Г. А., Новиков Д. В. и др.
Кластерная структурачастиц фуллереносодержащей сажи и порошок фуллеренов С60 // ЖТФ. –2000. – Т. 70, вып. 11. – С. 118-125.56. Елецкий А. В. Углеродные нанотрубки и эмиссионные свойства //УФН. – 2002. – Т. 172, № 4. – С. 401-438.57. Дьячков П. Н. Углеродные нанотрубки: строение, свойства, применения. – М.: БИНОМ, 2006. – 293 с.58. Ткачев А. Г., Золотухин И. В. Аппаратура и методы синтеза твердотельных наноструктур.
– М.: Машиностроение, 2007. – 316 с.60. Komarov F. F., Mironov A. M. Carbon Nanotubes Presents and Future //Physics and Chemistry of Solids. – 2004. – Vol. 5, No. 3. – P. 411-429.61. Ressier L., Grisolia J., Martin C. et al. Fabrication on planar cobaltelectrodes separated by a sub – 10 nm gap using high resolution electron beamlithography with negative PMMA // Ultramicroscopy.
– 2007. – Vol. 107. – P.985-988.62. Robert A. Lee, Patrick W. Optical image formation using surface reliefmicrographic picture elements // Microelectronic Engineering. – 2007. – Vol.84. – P. 669-672.63. Gierak J., Septier A., Vien C. Design and realization of a very high –resolution FIB nanofabrication instrument // Nucl. Instr. and Meth. – 1999. –Vol. A 427. – P. 91-98.64. Chyr I., Steck A. J. GaN focused ion beam micromachining with gasassisted etching // J.
Vac. Sci. Technol. – 2001. – Vol. B 19. – P. 2547-2550.65. Watt F., Bettiol A. A., van Kan J. A. et al. Ion beam lithoqraphy and nanofabrication: A review // International Journal of Nanoscience (IJN). – 2005. –Vol. 4, No. 3. – P. 269-286.13766. Watt F., Breese Mark B. H., Bettiol A., van Kan J. A. Proton beam writing// Materialstoday. – 2007. – Vol. 10, No. 6. – Р. 20-29.67.
Hovington Р., Drouin D., Gauvin R. et al. A new Monte Carlo code inc language for electron beam interactions – part ІІІ stopping power at low energies //Scanning. – 1997. – Vol. 19. – P. 29-35,http://www.gel.usherb.ca/casino/index.html68. Yamashita T. // PhD Thesis, Georgia Institute of Technology, august, 2005.69. http://www.jeol.com70. Reyntjens S., Puers R. A review of focused ion beam applications in microsystems technology // J. Micromech. Microeng.
– 2001. – No. 11. – P. 287-300.71. Watt F., van Kan J. A., Rajta I. et al. The National Nniversity of Singaporehigh ion nano-probe facility: Performers test // Nucl. Instr. and Meth. – 2003. –Vol. B 210. – P. 14-20.72. Jeroen A., van Kan J. A., Bettiol A. A. et al. Proton beam writing: a progress review // Int. J. Nanotechnology.
– 2004. – Vol. 1, No. 4. – Р. 464-477.73. Mous D. J. W., Haitsma R. G., Butz T. et al. The novel ultrastable HVEE3,5 Mv singletron accelerator for nanoprobe application // Nucl. Instr. andMeth. – 1997. – Vol. B 130. – P. 31-36.74. Breese M. B. H., Grime, G. W., Linford W. et al. An extended magneticquadrupole lens for, a high-resolution nuclear // Nucl.
Instr. and Meth. – 1999.–Vol. B 158. – P. 48-57.75. Ignat’ev I. G., Magilin D. V., Miroshnichenko V. I., Ponomarev A. G. et al.Immersion probe – forming system as a way to the compact design of nuclearmicrobe // Nucl. Instr. and Meth. – Vol. B 231. – P. 94-100.76. Сторіжко В. Ю., Пономарьов О. Г., Мірошниченко В. І. // Деклараційний патент на винахід, UA 67341A, G01N23/00, 2003038121(15.06.2004 Бюл. № 6).77. Tondare V. N. Quest for brigthess, monochromatic noble gas ion sources //J. Vac. Sci. Technol. – 2005. –Vol. A 23.
– P. 1498-1508.78. Morgan J., Notte J., Hill R. et al. An Introduction to the Helium ion microscope // Microscopy Today. – 2006. –Vol. 14, No. 4. – P. 24-31.79. Watt F., Rajta I., van Kan J. A. et al. Proton beam micromachined resolution for nuclear microprobes // Nucl. Instr. and Meth. – 2002. –Vol.
B 190. – P.306-311.80. van Kan J. A., Sunchez J. L., Xu B. et al. Resist materials for proton micromachining // Nucl. Instr. and Meth. – 1999. – Vol. B 158. – P. 179-184.81. Mistry P., Gomez-Morilla I., Grime G. W. et al. New developments in theapplications of proton beam writing // Nucl. Instr. and Meth. – 2005.
– Vol. B237. – P. 188-192.82. van Kan J. A., Bettiol A. A., Chiam S. Y. et al. New resists for proton beamwriting // Nucl. Instr. and Meth. – 2007. –Vol. B 260. – P. 460-469.138РАЗДЕЛ 7МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ НАНОМАТЕРИАЛОВСовременное развитие физики и технологий твердотельных наноструктур, проявляющееся в непрерывном переходе топологии структурныхэлементов от субмикронных размеров к нанометровой геометрии, потребовало разработки новых и усовершенствования существующих диагностических методов, а также создания новых образцов оборудования дляанализа свойств и процессов в низкоразмерных системах, в наноматериалах и в искусственно создаваемых наноструктурах.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
