Курсовая работа: Малогабаритная технологическая установка МВТУ-11-1
Описание

РАСЧЕТНО-ПОЯСНИТЕЛЬНАЯ ЗАПИСКА
к курсовому проекту
«Системы автоматического управления технологического оборудования »
на тему:
«Малогабаритная технологическая установка МВТУ-11-1»
Москва 2014 г.
Реферат
к расчетно-пояснительной записке по курсовому проекту:
Системы автоматического управления технологического оборудования
Записка содержит 32 страницы, 17 таблиц.
Ключевые слова:
МАЛОГАБАРИТНАЯ, ВАКУУМНАЯ, ЛАБОРАТОРНАЯ, ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЕ, ВЧ МАГНЕТРОН, ИСТОЧНИК ИОНОВ
Графические работы в объеме 5 листов А1 выполнены на ПК с помощью программы AutoCAD Mechanical 2012.
Записка выполнена с использованием среды Word.
Целью данного курсового проекта является разработка системы автоматического управления малогабаритной лабораторной установкой.
Задачей проекта является закрепление знаний и умений, полученных в лекционных курсах, а также приобретение навыков разработки структуры машины, как перечня подсистем и элементов машины, способа их объединения в систему и способа взаимодействия.
Курсовой проект содержит следующие подразделы:
1) Комплексная принципиальная схема (КПС) установки, включающая разработку КПС механической части, КПС системы питания и управления.
2) Процессная модель.
Проведен необходимый анализ подсистем установки, разработан алгоритм рабочего цикла установки.
3) Мнемосхема.
СОДЕРЖАНИЕ
1 ВВЕДЕНИЕ. НАЗНАЧЕНИЕ УСТАНОВКИ МВТУ-11-1. 5
2 Устройство установки МВТУ-11-1 и её функционирование. 6
2.1. Общее описание работы установки. 6
3 Система вакуумной откачки. 7
3.1. Назначение и работа системы.. 7
3.2. Описание элементов системы откачки. 7
3.2.1. Насос спиральный XDS 10. 7
3.2.2. Клапан VAT Series 26428-KA61. 7
3.2.3. Турбомолекулярный контроллер Edwards TIC.. 8
3.3.1. Процесс «Форвакуумная откачка» . 10
3.3.2. Процесс «Высоковакуумная откачка» . 10
4.1. Назначение и работа системы.. 12
4.2 Описание элементов системы напуска. 12
4.2.1 Регуляторы расхода газа серии EL-FLOW... 12
4.2.2 Отсечной электромагнитный клапан XSA 24 В. 13
5.2. Описание элементов системы.. 15
5.2.1. Шаговый двигатель FL42STH.. 15
5.2.2. Программируемый блок управления SMSD-1.5. 15
5.3. Процессы системы перемещения. 17
5.3.1. Процесс «Сканирование» . 17
6 Система ионно-лучевой обработки. 18
6.2 Технические характеристики. 18
Основные технические данные и характеристики источника ионов. 18
Управление блоком питания происходит с помощью PLC по протоколу RS-485. 18
6.3.1. Процесс «Ионно-лучевая обработки. 18
7 Система магнетронного нанесения. 20
7.2. Описание элементов системы снабжения холодной водой. 20
7.2.1. Магнетрон MeiVac 2”. 20
7.2.2. Блок питания Cesar-1310. 20
7.3.1. Процесс магнетронного нанесения. 20
8 Система электронно-лучевого испарения. 22
8.2. Описание элементов системы.. 22
8.3.1. Процесс электронно-лучевого нанесения. 22
9 Система электропитания и управления. 24
9.2. Система электропитания SE. 24
9.2.1. Общий силовой вход SR1. 25
9.3. Система управления SU.. 26
9.3.1. Компьютер рабочего места оператора. 27
10 Требования к программному обеспечению установки МВТУ-11-1. 30
10.1. Требования к программному обеспечению компьютера рабочего места оператора. 30
Вакуумная малогабаритная лабораторная установки сконструирована на кафедре «Электронные технологии в машиностроении» МГТУ им. Н.Э. Баумана. Применяется для получения тонкопленочных покрытий в вакууме. Отличительной чертой данной установки является стеклянная цилиндрическая вакуумная камера обеспечивающая наглядность всех проводимых лабораторных работ, а также особая конфигурация основания вакуумной камеры, за счет которой установка имеет большое количество разъемов для подключения технологических источников при малых габаритах системы. Радиальное расположение позволяет использовать все источники в едином вакуумном цикле. Установка имеет в своем составе автономный источник ионов (АИИ), нейтрализатор поверхностного заряда ионного пучка, магнетрон, электронно-лучевой испаритель. Такая конфигурация системы позволяет получать многослойные тонкопленочные покрытия высокого качества с применением ионного ассистирования. Для высоковакуумной откачки используется турбомолекулярный насос nEXT 240D компании Edwards (Великобритания). Дросселирование откачки не предусмотрено. Контроль напуска рабочего газа осуществляется регуляторами расхода газа на 100 и 20 стандартных мл в минуту производства Bronkhorst. Управление вращением заслонки и подложкодержателя выполняется сервоприводами.
Рис. 1. Вакуумная малогабаритная лабораторная установка
Для размещения всех технологических источников предусмотрены следующие разъемы:
Нижний фланец вакуумной камеры:
- DN63 ISO-KF (2шт.) – источник ионов, магнетрон;
- DN50 ISO-KF (1 шт.) – ввод вращения для привода заслонки;
- DN25 ISO-KF (2 шт.) – нейтрализатор источника ионов и порт подачи газа;
- Фасонное отверстие, которое служит «окном» электронно-лучевого испарителя и одновременно отверстием патрубка откачной системы;
Верхний фланец вакуумной камеры:
- DN50 ISO-KF (1шт.) – ввод вращения подложкодержателя;
- DN40 ISO-KF (2 шт.) – токовводы, запасной порт;
- DN25 ISO-KF (2шт.) – датчик измерения вакуума, запасной порт ;
Рис. 2. Взаимное расположение технологических источников
2.1. Общее описание работы установки.
Функциональная схема установки представлена в документе К6-2-6.00.00.000КПС.
Для работы с установкой необходимо снять верхний фланец камеры, разместить образцы на подложкодержателе, установить верхний фланец обратно, совместив с риской на нижнем фланце.
После загрузки производится форвакуумная и высоковакуумная откачка и напуск рабочего газа. Первоначально подложка обрабатывается источник ионов, в режиме сканирующего вращения подложкодержателя. Затем подложка переходит к позиции магнетрона, производится нанесение первого слоя материала. Далее подложка переходит к электронно-лучевому испарителю, откачивается рабочий газ и производится термическое нанесениеХарактеристики курсовой работы
Список файлов

Начать зарабатывать