Лк7 (Лекции в ворде)
Описание файла
Файл "Лк7" внутри архива находится в следующих папках: Лекции в ворде, lekcii. Документ из архива "Лекции в ворде", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "микроэлектроника" из 4 семестр, которые можно найти в файловом архиве НИУ «МЭИ» . Не смотря на прямую связь этого архива с НИУ «МЭИ» , его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "лекции и семинары", в предмете "микроэлектроника" в общих файлах.
Онлайн просмотр документа "Лк7"
Текст из документа "Лк7"
7 Контакт электронного и дырочного полупроводников
Состояние носителей в разнородных материалах (полупроводники с разным типом носителей, металл - полупроводник или металл – диэлектрик - полупроводник) можно сравнить, используя понятие нулевого потенциала, т.е. принимая потенциал какой-либо точки за нуль. Чаще всего за ноль принимают потенциал вакуума (рис. 7.1). Тогда для перевода электрона со дна зоны проводимости полупроводника в вакуум без сообщения ему скорости потребуется энергия q·χ, равная:
(7.1) | |
Рис. 7.1 |
Энергия q·χ есть энергия электронного сродства, χ.- сродство к электрону полупроводника (электронное сродство, electron affinity - способность присоединить электрон). Если энергию электрона отсчитывать от энергии Ферми, а не от , используют понятие термоэлектронной работы выхода или просто работы выхода Φ:
(7.2) |
Таким образом, работа выхода равна разности между энергией покоящегося электрона в вакууме у поверхности образца полупроводника и уровнем Ферми в данном полупроводнике.
7.1 Возникновение потенциального барьера. Контактная разность потенциалов.
Если в кристалле создать области с электронной и дырочной проводимостью (рис. 7.2) с резкой границей между ними (pn-переход), то на границе между этими областями возникнет потенциальный барьер, обладающий выпрямительными свойствами.
Предположим, что акцепторная область полупроводника легирована сильнее, чем электронная, т.е. Na>Nd и обе части легированы равномерно (такой pn-переход называется несимметричным и ступенчатым) (рис. 7.2).
При возникновении pn-перехода между p- и n-областями устанавливается обмен свободными носителями заряда, из материала n-типа выходят (диффундируют) электроны, а из материала p-типа - дырки. Уход свободных носителей приводит к тому, что вблизи границы раздела появляется двойной заряженный слой из ионизованных атомов доноров и акцепторов. Слой объемного пространственного заряда (ОПЗ) будет положительным со стороны материала n-типа (ионизованные доноры) и отрицательным со стороны материала p-типа (ионизованные акцепторы). Эти объемные заряды в области контакта создадут сильное электрическое поле, направленное от n-области к p- области и препятствующее диффузии электронов и дырок (рис. 7.3).
В результате установится равновесное состояние, которое будет характеризоваться постоянством уровня Ферми, а в области перехода, где имеется электрическое поле, энергетические уровни будут искривлены.
Рис. 7.2 |
При некотором значении поля установится равновесие, при котором количество носителей зарядов переходящих навстречу друг другу одинаково. Этому электрическому полю соответствует равновесное значение контактной разности потенциалов φк (рис. 7.2, г).
|
Рис. 7.3 |
Перераспределение носителей, образовавшееся при контакте, и формирование потенциального барьера высотой qφк приводит к тому, что диффузионный поток основных носителей (nn и pp) прекращается. Энергетический барьер существует именно для основных носителей, потенциального барьера для неосновных носителей (np и pn) нет (см. рис. 7.2,б).
Для того чтобы рассчитать распределения концентраций свободных носителей в приповерхностной области необходимо решить уравнение Пуассона (6.9), устанавливающее связь между распределением потенциала и пространственного заряда ρ(x):
(7.3) |
Следствием условия электронейтральности является равенство объемных зарядов в обеих областях полупроводника, прилегающих к pn-переходу, т.е. .
В интервале объемный заряд отрицательный . Уравнение Пуассона (7.3) примет вид:
(7.4) |
В интервале объемный заряд положительный и уравнение Пуассона запишется в виде:
(7.5) |
При x=0 потенциал (рис. 7.2, е) и его производные непрерывны, поэтому ; .
Отсюда граничные условия:
(7.6) |
Решения уравнений:
(7.7) |
Как видно из диаграмм рис 7.2, г величина контактной разности потенциалов на pn-переходе при термодинамическом равновесии определяется уравнением
(7.8) | |
(7.9) |
Можно показать:
(7.10) |
Отсюда следует, что максимальная контактная разность потенциалов для невырожденных полупроводников . Предполагая, что вся примесь ионизована, , , а также учитывая, что
(7.11) |
Потенциальный барьер в pn-переходе тем выше, чем сильнее легированы p- и n-области. По мере роста температуры величина ni2 в (7.11) должно возрастать согласно (4.3). Выражение под знаком логарифма стремится к нулю, т.е. контактная разность потенциалов с ростом температуры уменьшается. Этот результат понятен с физической точки зрения. При высоких температурах начинает доминировать собственная проводимость как в p-, так и в n-области, при этом в каждой из областей уровень Ферми стремится к середине запрещенной зоны и qφк стремится к нулю.
Из (7.11) можно легко получить:
(7.12) |
Тогда соотношения между основными и неосновными носителями:
(7.13) | |
(7.14) |
Уравнения (7.13) и (7.14) можно рассматривать как граничные условия при нулевом внешнем смещении Vсм = 0.
Из (7.7) нетрудно получить следующие соотношения:
(7.15) | |
(7.16) |
Отсюда
(7.17) |
Из этой формулы следует, что чем выше степень легирования n- и p-областей полупроводника, тем меньше толщина ОПЗ. Если одна из областей легирована значительно сильнее другой, то большая часть падения потенциала приходится на высокоомную область (рис. 7.2е).
7.2 Вольтамперная характеристика p-n-перехода
Рассмотрим теперь pn-переход, к которому приложено прямое смещение Vсм (минус батареи к n-типу, плюс – к p-типу). Для того чтобы описать вольт-амперные характеристики (ВАХ) pn-перехода допустим, что все приложенное внешнее напряжение падает на pn-переходе.
При прямом смещении высота потенциального барьера понижается на qVсм по сравнению с равновесным состоянием, соответственно изменяется и толщина ОПЗ:
(7.18) |
Понижение потенциального барьера приводит к увеличению потока основных носителей заряда по сравнению с равновесным состоянием. Под действием диффузионных процессов основные носители (nn и pp) перемещаются в соседнюю область, становясь неосновными носителями (pn и np). Образовавшийся градиент концентрации неосновных носителей приводит к появлению диффузионных токов неосновных носителей заряда, он направлен от ОПЗ вглубь полупроводника (рис. 7.4). При этом направления диффузионных токов, создаваемых pn и np совпадают, в то время как их потоки направлены в разные стороны.
Ограничимся пока рассмотрением n-области pn-перехода. В n-области появившиеся неосновные носители (дырки) с концентрацией (рис. 7.4, а) создают в первый момент вблизи контакта положительный объемный заряд, однако через максвелловское время релаксации будет скомпенсирован объемным зарядом основные носителей заряда – электронов, которые под действием электрического поля, созданного избыточными дырками, будут подтянуты в количестве из глубины n-области, а в n-область электроны поступит из внешней цепи. Электроны будут двигаться за счет поля, создаваемого избыточными дырками и по свой природе является дрейфовым.
В состоянии термодинамического равновесия дрейфовый ток основных носителей должен компенсировать диффузионный ток неосновных носителей и суммарный ток через pn-переход равен нулю.
Рис. 7.4 |
Во всех частях электронного полупроводника будет соблюдаться электронейтральность, но в приконтактной области pn-перехода концентрация электронов и дырок будет повышена на = по сравнению с равновесным состоянием. Введение в полупроводник носителей заряда с помощью pn-перехода при подаче на него прямого смещения в область, где эти носители заряда являются неосновными, называют инжекцией. Теперь концентрация дырок в n-области вблизи контакта будет равна:
(7.19) |
Для ее нахождения в стационарном случае на границе с ОПЗ (при x=Wn) нужно в (5.5) место qφк использовать значение q(φк-Vсм).
(7.20) |
Таким образом, концентрация неосновных носителей в низколегированной области (базе) зависит от концентрации носителей в высоколегированной области (эмиттере) и от напряжения смещения, приложенного к pn-переходу (рис.7.5).
|
Рис. 7.5 |
Из (7.19) следует, что концентрация избыточных носителей в n-области при x=Wn равна:
(7.21) |
Аналогичные явления происходят в p-области: сюда из n- области инжектируются электроны и концентрация избыточных электронов при x=-Wp составит:
(7.22) |
Если к pn-переходу приложено обратное смещение (минус батареи к p-типу, плюс – к n-типу) (рис. 7.5,б), потенциальный барьер повышается на qVсм. Толщина слоя ОПЗ увеличивается:
(7.23) |
Чем сильнее переход смещен в обратном направлении, тем выше потенциальный барьер, и тем меньшее количество основных носителей заряда способно преодолеть возросший потенциальный барьер. В соответствии с этим количество неосновных носителей заряда в приконтактной области уменьшается по сравнению с равновесным состоянием, следовательно, уменьшается и количество основных носителей заряда вследствие соблюдения электронейтральности. Это явление носит название экстракции носителей заряда.