Ушаков_ТПЭВМ (562162), страница 28
Текст из файла (страница 28)
Для количественной оценки степени смачиваемости поверхности измеряют угол смачивания, который зависит от соотношения сил когезии внутри капли и адгезии между подложкой и каплей. Чем меньше этот угол, тем лучше качество очистки. Значение угла смачивания не должно превышать 3°.
Метод царапины основан на измерении усилия перемещения металлической иглы (обычно титановой) по поверхности подложки. При таких испытаниях увеличивают груз до тех пор, пока не получат видимой царапины. Этот, способ оценки чистоты подложки дает воспроизводимые результаты и является весьма чувствительным к поверхностным загрязнениям, которые играют роль смазки. Чистые поверхности обладают высоким коэффициентом трения. Для получения видимой царапины на неочищенных стеклах требуется груз 400 г, а для хорошо очищенных — всего 30 г. Степень очистки можно установить используя контроль электропроводности очищающей дистиллированной воды до и после промывки.
15.2. Элементы тонкопленочных интегральных микросхем
Основными элементами тонкопленочной интегральной микросхемы являются резисторы, конденсаторы и соединительные проводники.
Рис. 15.1. Тонкоплепочпые резисторы:
а - прямоугольный; б - составной из прямоугольных полосок;
в - меандр; г - змейка
Резисторы. Их выполняют в виде полосок различной формы (рис. 15.1, а - г). Отношение длины к ширине у таких резисторов много больше единицы. В отдельных случаях бывает необходимо изготовить резисторы, у которых отношение длины к ширине меньше единицы. Трудность изготовления таких резисторов заключается в том, что ширина резистора получается малой. При большой длине резистора ему придают Г- или П-образную форму.
Сопротивление определяют из соотношения
R = p0 l / (db) (15.1)
где p0 - удельное сопротивление материала; l - длина резистивной пленки; d - толщина; b - ширина.
Основные характеристики резистивной пленки. Основной характеристикой резистивпых пленок является удельное сопротивление pк - сопротивление постоянному току, измеренное между противоположными сторонами квадрата. Значение удельного сопротивления (Ом/П) не зависит от размеров квадрата и определяется только материалом и толщиной пленки:
pк = p0 / d
Понятие удельного сопротивления специфично для микроэлектроники и не применяется в других областях техники. Сопротивление резистора можно представить в следующем виде:
R = pк l / b = pк кф (15.2)
где кф = l / b - коэффициент формы резистора, представляющий отношение длины резистора к его ширине или число квадратов резистора.
Коэффициент формы прямоугольных резисторов кф = 0,1 ... 100. При 1 кф
10 выбирают резистор прямоугольной формы (рис. 15.1, а), при кф
10 - резистор сложной формы (рис. 15.1, б, в), при 0,1
кф
1 - резистор прямоугольной формы, у которого длина меньше ширины.
Допустимая мощность рассеяния тонкопленочных резисторов зависит от площади S, занимаемой ими на подложке. Она должна быть достаточно большой во избежание перегрева:
где Р - мощность рассеяния, выделяемая в сопротивлении при максимальной температуре, Вт; РД - допустимая мощность рассеяния (экспериментально определяемая величина), Вт/см2.
Площадь, занимаемая резисторами на подложке, S = lb или S = b2 R/ pк, откуда
Полная относительная погрешность изготовления пленочного резистора представляет собой сумму погрешностей:
γ R = γ к.ф + γpк + γ Rt + γ Rст + γ Rк , (15.5)
где γ к.ф - погрешность коэффициента формы; γpк - погрешность воспроизведения величины pк резистивной пленки; γ Rt - температурная погрешность; γ Rст - погрешность, обусловленная старением пленки; γ Rк - погрешность сопротивления, обусловленная контактами.
Погрешность коэффициента формы зависит от погрешностей геометрических размеров резистора:
γ к.ф = Δ l / l + Δ b/ b, (15.6)
где Δ l и Δ b — погрешности длины и ширины резистора.
Погрешность воспроизведения резистивной пленки урк зависит от условий напыления и материала резистивной пленки и обычно не превышает 5%.
Температурная погрешность зависит от материала пленки:
γ Rt = aR (Tmax - 20°C) (15.7)
где aR - температурный коэффициент сопротивления материала пленки (ТКС), 1/°С.
Погрешность улет зависит от материала пленки, эффективности ее защиты, а также от условий хранения и эксплуатации.
Погрешность сопротивления контактов γ Rк составляет обычно 1 ...2% и этой погрешностью можно пренебречь. Допустимое значение погрешности формы
γ к.ф = γ R - γpк - γ Rt - γ Rст - γ Rк , (15.8)
Если значение γ к.ф превышает допустимое, то необходимо выбрать другой материал с меньшим ТКС либо использовать подгонку резисторов.
Расчетное значение ширины резистора должно быть не менее наибольшего значения одной из трех величин:
bрпсч max (bр; bтех; bточ), (15.9)
где bр - минимальная ширина резистора, при которой обеспечивается заданная мощность рассеяния [определяется по формуле (15.4)]; bтех - минимальная ширина резистора, определяемая возможностями технологического процесса (при масочном методе bтех = 0,3 мм; при фотолитографическом методе bтех =0,1 мм); bточ - ширина резистора, определяемая точностью изготовления геометрических размеров.
На основании формулы (15.6) получим:
bточ (Δ b+ Δ b/ кф )/ γ к.ф (15.10)
За ширину резистора b принимают ближайшее к расчетному значению bрасч большее значение ширины, кратное шагу координатной сетки, принятому для чертежа топологии с учетом масштаба. Если шаг координатной сетки принят 1 мм при масштабе 20 : 1, то округление производят до величины, кратной 0,05 мм.
Расчетная длина резистора:
l = b кф (15.11)
За длину резистора принимают значение, кратное шагу координатной сетки. При этом необходимо оценивать погрешность, возникшую вследствие округления размеров b и l.
Для резисторов, имеющих кф <1, определяют длину, а затем ширину резистора.
Расчет геометрических параметров резисторов типа «меандр» при известной ширине пленки сводится к определению расстояния между резистивными полосками и числа звеньев меандра (рис. 15.1, в).
Для получения стабильных пленочных сопротивлений толщина пленки должна быть 0,01 ... 1 мкм. Очень тонкие пленки (до 0,005 мкм) значительно изменяют свои параметры в процессе кристаллизации. Кроме того, последующее воздействие воздуха вызывает поверхностное окисление пленки, которое приводит к изменению ее сопротивления. В более толстых пленках это окисление сказывается меньше. Пленки толщиной более 1 мкм не обеспечивают достаточно прочного сцепления с основанием.
При выборе линейных размеров резистивных пленок необходимо учитывать, что при очень узких пленках даже небольшие отклонения от заданной ширины вызывают значительные изменения сопротивления. Точность изготовления резистивных пленок по ширине зависит от техники получения рисунка пленки на подложке. Практически путем напыления получают сопротивления с отклонением от номинала до ±5%. Эту точность можно повысить с помощью подгонки.
Таблица 15.1
Материал | pк, Ом/а | PД. Вт/см2 | ТКС, град-1 (при темпера-туре - 60 ... +125°С) | |
Резистивной Пленки | Контактной площадки | |||
Хром (Сr) | Медь (луженая) | 500 | 1 | 0,6-10-4 |
Тантал (Та) | Алюминий с подслоем | 100 | 3 | - 2 · 10-4 |
Нихром NiСr (Ni= =80%; Сr=20%) | Медь | 300 | 2 | 1 ·10-4 |
Сплав МЛТ (Si= =43,6%; Сr=17,6%; Fе =14,1%; W=24,7%) | Медь с подслоем ванадия | 500 | 2 | 2 ·10-4 |
Кермет (Сr =50... 90%; Si =50 ...10%) | Золото с подслоем хрома | 3000 | 2 | 3 ·10-4 |
Сплав РС-3001 (Сr =37,9%; Ni=9,4%; Si =52,7%) | Золото с подслоем хрома | 3000 | 5 | 1 ·10-4 |
Материал, используемый для изготовления резистивных пленок. Такой материал должен обеспечивать возможность получения стабильных по времени резисторов с низким температурным коэффициентом сопротивления (ТКС), обладать хорошей адгезией, высокой коррозионной стойкостью и устойчивостью к длительному воздействию высоких температур. При осаждении материала на подложку должны образовываться четкие линии с хорошей повторяемостью рисунка от образца к образцу.
Материалом для резистивных пленок могут быть различные металлы, металлические сплавы, оксиды металлов и металлокера-мические соединения (табл. 15.1). Из чистых металлов наиболее часто используют хром, тантал, вольфрам и рений.
Хром удовлетворяет большинству требований, предъявляемых к материалу резистивной пленки. Он хорошо совместим с любыми проводящими материалами, имеет достаточно высокое удельное сопротивление, может служить в качестве адгезионного слоя, образует стабильную и плотную пленку.
Тантал используют для создания резисторов с высоким удельным сопротивлением. На основе тантала можно изготовить законченные интегральные микросхемы, включая сопротивления, резисторы и конденсаторы. Универсальность тантала объясняется возможностью изменения электрических параметров путем легирования и оксидирования. Термически обработанные и анодированные пленки тантала характеризуются высокой стабильностью электрических свойств с малым значением ТКС.
Вольфрам и рений используют для изготовления резисторов с высоким удельным сопротивлением при малом ТКС. Основные преимущества пленок рения - устойчивость и стабильность при высоких температурах. Тугоплавкость рения позволяет использовать его при очень малых толщинах пленки. Пленки рения получают чаще всего путем электронно-лучевого разогрева гранул рения в вакууме (10-4 Па). Осаждение осуществляется при температуре подложки ~350°С.