Book3 (560669), страница 12
Текст из файла (страница 12)
2 — логические ИС; 5 — УВВ; 4 — микропроцессор; 5 — буферные КМДП;
б — счетчик; 7 — интерфейс
привести и для аналоговой МЭА высокой интеграции. Так, фирма Micro
Linear Corp. США разработала и выпустила новую линейную матрицу
FB300 [9], в которой схемные компоненты расположены в виде блоков
(«плиток»), соединяемых на завершающей стадии нанесения рисунка
металлизацией.
4. МЕХАНИЧЕСКИЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ И ЗАЩИТА
КОНСТРУКЦИЙ РЭС
4.1. Классификация механических воздействий
В процессе эксплуатации РЭС подвергаются механическим воздей-
ствиям. Характер и интенсивность воздействий зависят от вида источ-
ников воздействия и их расположения относительно конструкций РЭС.
Наиболее часто источниками механических воздействий являются: ок-
ружающая среда, силовые установки объекта, электромеханические ус-
тройства с возвратно-поступательно движущимися массами или неу-
равновешенными вращающимися роторами и т.д.
115