Информационная система поддержки принятия решений при проектировании процесса ультрафиолетовой литографии (1090501), страница 25
Текст из файла (страница 25)
Чембольше расчетная величина Gí отличается от оптимального значения, тем выше177вероятность принятия гипотезы H 0 , когда она неверна, поэтому ошибка второгорода определяется по зависимости iэф G нi G нопт .(5.4.5)Выбор, варианта определения стоимостных показателей технологическогопроцессаультрафиолетовойлитографииссамымвысокимзначениемобобщенного показателя качества осуществлялся с помощью неравенств,формирующих кортеж предпочтительности в виде простого отношения порядка:a1эф a 2эф aiэф a nэф , эф1 2эф iэф nэф .Вариантуустановлениястоимостных(5.4.6)показателейтехнологическогопроцесса ультрафиолетовой литографии, обладающему более высоким значениемобобщенного показателя качества, соответствуют элементы первой пары ( A1эф 1эф )из системы неравенств (5.4.6). Описываемые до сих пор цели были простыми,поскольку их можно было охарактеризовать одной величиной, пригодной дляоценки уровнякачества значения стоимостногопоказателя. Рассмотриммножество целей, для которого каждое возможное решение оцениваетсясовокупностью критериевf1 ( x1 ), f 2 ( x2 ), ..., f n ( xn ) , различающихся не толькофизическим смыслом аргументов и их количеством, но и своими коэффициентамиотносительной важностиЛ1 , Л 2 , ..., Л n .
В этом случае комитетом оценкиэффективности принимаемых решений названо такое конечное множествовекторов классаR n : k f1 ( x1 ), f 2 ( x2 ), ..., f n ( xn ) R n ,(5.4.7)для которого принятое оптимальное решение удовлетворяет соотношениюFопт opt[ f ( x), ( )] ,(5.4.8)где Fопт – оптимальное значение интегрального критерия; opt – оператор,определяющий выбранный принцип оптимизации.Значение Fопт при информационном подходе к решению многоцелевойзадачи принятия решения искалось в области, образованной в результате178декартовогопроизведениямножествакритериевf i (x )имножестваинформационных показателей, характеризующих альтернативу (табл.
5.3.1). Полетаблицы представляет собой множество частных показателей, формирующихнекоторый векторный многоцелевой оценочный потенциалR iэф , iэф , H i ( p ), I nI , GнI .Следовательно, рассматриваетсястолько(5.4.9)векторов,сколько имеетсяальтернатив [86] реализации технологического процесса ультрафиолетовойлитографии.Смысловаянагрузкавесовыхкоэффициентовkприинформационных параметрах (табл. 5.3.1) заключается в том, чтобы привести всоответствие размерности информационных полей, формируемых в ходе оценкиальтернативпокаждомуотдельномукритериюfi ,иучестьвлияниекоэффициентов относительной важности ( ) .
Значение коэффициента kопределялось по следующей зависимости:ii 1ii 1.k H max: H maxH max H max(5.4.10)После того как для всех альтернатив технологических процессовультрафиолетовой литографии определены векторы многоцелевого оценочногопотенциала, выбирается оптимальное значение интегрального критерия путемпопарного сравнения векторов.179Выводы по главе 51.Синтезирован метод поиска проектных решений в ультрафиолетовойлитографическойтехнологииизряданедоминируемыхальтернативучитывающий не только неопределенность в оценках эксперта, но и егоинтуитивные склонности относительно реальных характеристик атрибутов(критериев) и их специфики.
В результате, данный подход комбинирует оценкикаждого значения атрибута при отсутствии полной информации о предпочтенияхи субъективные оценки относительно важности всех атрибутов.2.Разработан подход использования экспертного метода Дельфи прирешении задачи подбора методик повышения разрешающей способности, вультрафиолетовойлитографическойтехнологии,учитывающиймножествовозможных правил подбора способствующих применению экстремальногохарактеристического излучения в оборудовании с нанометровыми проектныминормами.3.Полученыэффективностипрактическиеиспользованияданныеотносительносинтезированныхпоказателейэлементовсквознойинформационной системы поддержки приятия решений при проектированиипроцессовультрафиолетовойлитографииипроблемно-ориентированныхмодулей, свидетельствующие о существенном снижении временных затрат напроектирование, а также повышении качества проектных работ для устройствмикро и наноэлектроники в современных вычислительных комплексах.4.Выполненадетализированнаяоценкаэкономическогоитехнологического эффекта от применения разработанной системы поддержкипринятия решений при проектировании процессов ультрафиолетовой литографиина этапе аванпроектирования.180ЗАКЛЮЧЕНИЕОсновные результаты диссертационной работы заключаются в следующем:1.Разработаны элементы автоматизированной и структурированной системыподдержки принятия решений при проектировании технологических процессовультрафиолетовойлитографии,котораябазируетсянапредложенныхимитационных моделях, проблемно-ориентированных алгоритмах и комплексноинтегрированных программных модулях и позволяет существенно повыситьпотребительские свойства производимых микро- и наноэлектронных изделий, атакже снизить трудозатраты на их производство.2.Разработана математическая модель формирования фотолитографическогоизображения, которая в отличие от существующих моделей позволяет вычислятьраспределение интенсивности изображения произвольного фазосдвигающегошаблона при заданных условиях освещения с заданными характеристикамисистемы формирования изображения.3.Предложен метод исследования характеристик качества функционированияультрафиолетовыхлитографическихустановок,позволяющийопределитькоэффициент готовности при заданной вероятности выполнения поставленнойзадачи в процессе формирования объектов ультрафиолетовой литографическойтехнологии с заданными свойствами.4.Синтезированы патентоспособные и адаптированные для промышленногоприменения технические решения по созданию устройств формированияизображения на подложке и устройств формирования нанообъектов, отвечающиетребованиям,предъявляемымкпрецизионномуоборудованиюиоборудованию точного приборостроения.5.Разработано специализированное программное приложение для расчетаосновныххарактеристикпозволяющееопределятьультрафиолетовойминимальныйлитографическойразрешаемыйразмерсистемы,элемента181формируемой топологии, глубину сфокусированного изображения фотошаблона,атакжевремяэкспонированиязаданногоколичествапластинипроизводительность литографической системы.6.Осуществлено построение и последующая формализация концептуальноймодели ультрафиолетовой литографической системы, положенной в основупредложенных методов снижения минимального характеристического размераприавтоматизированномпроектированииобъектовультрафиолетовойлитографии.7.Осуществлена верификации полученных в работе теоретических положенийи созданных алгоритмов, свидетельствующая о высокой степени достоверности иадекватностиуправлениясинтезированныхпроцессамиматематическихультрафиолетовоймоделейлитографиииоптимальногообоснованностирекомендаций по эффективному практическому использованию разработаннойсистемы поддержки принятия решений.8.Получены практические данные относительно показателей эффективностииспользования синтезированных элементов сквозной информационной системыподдержки приятия решений при проектировании процессов ультрафиолетовойлитографии и проблемно-ориентированных модулей, свидетельствующие осущественном снижении временных затрат на проектирование, а такжеповышении качества проектных работ для устройств микро и наноэлектроники всовременных вычислительных комплексах9.Выполнена детализированная оценка экономического и технологическогоэффекта от применения разработанной системы поддержки принятия решенийприпроектированииаванпроектированияпроцессовпоультрафиолетовойсовокупностилитографиифункциональных,наэтапеструктурных,технологических, экологических и экономических критериев качества.182СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ1.Валиев К.
А. Физика субмикронной литографии. М.: Наука, 1990. 527с.2.Баканов Г. Ф., Петрова Г. Ф. Фотолитография / СПб.: Изд-во СПбГЭТУ«ЛЭТИ», 2002. 35 с.3.Сейсян Р., Нанолитография СБИС в экстремально дальнем вакуумномультрафиолете // Журнал технической физики. – 2005. - Т. 75, В. 5. – С.1-13.4.Зеленцов С.В., Зеленцова Н.В., Современная фотолитография. Федеральноеагентство по образованию Нижегородский государственный университет им. Н.И.Лобачевского, 2006, 56 с.5.Kim D. E. Optimized Structures of Multilayer Soft X-Ray Reflectors in theSpectral Range of 30 to 300 A / D.
E. Kim, D. H. Cha, S. W. Lee // Japanese Journal ofApplied Physics. 1998. Vol. 37, P. 2728-2733.6.Ham Y. Why EAPSM? // Photronics Technology Review. 2003. Vol. 1,Is. 4. January. 14 p.7.Салащенко H.H., Исследования в области многослойной рентгеновскойоптики в ИФМ РАН / Н.Н. Салащенко // Материалы всероссийского совещания"Рентгеновская оптика". Нижний Новгород. 1998. – С. 53-57. .8.ЧулковВ.П.Комплексныеавтоматизированныепроизводства.Методические указания по проведению курсовых и дипломных работ. – М.:МГИЭМ, 2006.
– 77 с.9.Беллман Р., Калаба Р. Динамическое программирование и современнаятеория управления. – М.: Наука, 1969. – 118 с.10.Половинкина А.И., Автоматизация поискового конструирования – М.:Радио и связь, 1981. – 344 с.11.Гмошинский В.Г., Флиоренг Г.И. Теоретические основы инженерногопрогнозирования.
– М.: Наука. Главная редакция физико-математическойлитературы, 1973. – 304 с.12.Михалевич В.С., Волкович В.Л. Вычислительные методы исследования ипроектирования сложных систем. – М.: Наука, 1982. – 286 с.18313.Компьютерные технологии обработки информации / С.В. Назаров, В.И.Першиков, В.А. Тафинцев и др.; Под ред. С.В. Назарова. – М.: Финансы истатистика, 1995. – 248 с.14.Багаев Д.В. Информационная технология проектирования гидромашин настадиях предварительной разработки. Дисс. на соиск. уч. ст. к.т.н.
– Ковровскаягосударственная технологическая академия, 2003. – 21415.ЛазаревЛ. П.,КолючкинВ. Я.,МетелкинА. Н.Автоматизацияпроектирования оптико-электронных приборов: учеб. пособие для вузов / ЛазаревЛ. П., Колючкин В. Я., Метелкин А. Н. ; общ. ред. Лазарева Л. П.