Двуокись кремния
Двуокись кремния
Пленки двуокиси кремния могут осаждаться как с легирующими добавками, так и без них. Важнейший параметр при осаждении SiO2 - воспроизводимость рельефа.
|
|
|
Нелегированная двуокись кремния используется:
- в качестве изолирующей пленки между многоуровневой металлизацией,
- в качестве маскирующей пленки в процессах диффузии и ионной имплантации,
- как защитная пленка,
- для увеличения толщины подзатворного диэлектрика.
Легированные фосфором пленки окисла используются:
- в качестве изолятора между металлическими слоями,
- как пассивирующие покрытия на поверхности прибора,
- в качестве геттерирующих слоев.
Методы осаждения
Для формирования пленок двуокиси кремния используется несколько методов осаждения. Они характеризуются различными химическими реакциями, видом и используемого реактора и температурой процесса осаждения.
Пленки, осаждаемые при низких температурах (ниже 500 °С), формируются за счет реакции между силаном, легирующими добавками и кислородом:
Рекомендуемые материалы
SiH4 + O2
SiO2 +2H2
| Cпособ | Плазмохи- | SiN4 + O2 | ТЭОС | SiCl2H2 + |
| Т, oC | 200 | 450 | 700 | 900 |
| Состав | SiO1.9 (H) | SiO2 (H) | SiO2 (H) | SiO2 (Cl) |
| Воспроизведен. | неконформн. | неконформн. | конформн. | конформн. |
| Термостабильн. | выделение | уплотнение | термостаб. | выделение |
| Плотность, | 2.3 | 2.1 | 2.2 | 2.2 |
| Коэффициент | 1.47 | 1.44 | 1.46 | 1.46 |
| Эл. прочность, | 3 - 6 | 8 | 10 | Обратите внимание на лекцию "Структуризация проектов". 10 |
| Скорость | 40 | 6 | 3 | 3 |
