Статья - Техническая база ЭВМ, страница 4
Описание файла
Документ из архива "Статья - Техническая база ЭВМ", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "организация эвм" из 6 семестр, которые можно найти в файловом архиве РТУ МИРЭА. Не смотря на прямую связь этого архива с РТУ МИРЭА, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "остальное", в предмете "организация эвм, микропроцессорные средства и схемотехника" в общих файлах.
Онлайн просмотр документа "Статья - Техническая база ЭВМ"
Текст 4 страницы из документа "Статья - Техническая база ЭВМ"
В качестве достоинств данного типа модулей кроме высокой плотности компоновки указывают также возможность использования при их изготовлении технологии и оборудования полупроводниковой микроэлектроники. Однако это не относится к сверхбыстродействующим схемам, для которых с увеличением размеров модуля резко усложняются требования к сопротивлениям, емкостям линий, взаимным помехам между ними, количеству необходимых слоев межсоединений. Наиболее принципиальные трудности реализации рассматриваемых модулей обусловлены их плохой ремонтопригодностью. При этом для получения приемлемого процента выхода годных модулей, содержащих требуемое большое количество кристаллов (блоков пластины), необходимо обеспечить: полный контроль кристаллов с высокой достоверностью результатов, сохранность кристаллов на всех этапах изготовления модуля, большой процент выхода годных многослойных тонкопленочных межсоединений. Для преодоления указанных трудностей наряду с совершенствованием технологии изготовления разрабатываются специальные методы функционального и конструктивного резервирования, технология и оборудование «тонкого» ремонта (с использованием лазерных и электронно-лучевых установок).
Устойчивость тенденций развития технической базы ЭВМ и возможность достаточно надежного прогнозирования обусловлены рядом факторов, основными из которых являются:
стоимость реализации и размеры линии связи для передачи сигналов между элементами ЭВМ резко возрастают при переходе от нижних уровней компоновки узлов ЭВМ к верхним (от связей на кристаллах до кабельных соединений в шкафах и между ними);
по надежности, стоимости и плотности размещения индивидуальные электрические соединения проводников (с использованием сварки, пайки, накрутки, обжимки, разъемных контактов и др.) значительно уступают интегральным соединениям (между проводниками в различных слоях печатных и пленочных плат);
к
аждый переход с более низкого уровня компоновки на более высокий вносит дополнительные потери быстродействия и рассеиваемой мощности схем;
Рис. 2. Влияние числа вентилей (N) и микросхем (n) в узлах ЭВМ на количество выводов (P), функциональных типов (М) и соединений (С), а также на общую (Т) и относительную (t=T/n) трудоемкость изготовления
Q, р0 — количество вентилей и выводов в функционально законченном устройстве; Т1, t1-характеризует неавтоматизированное изготовление; Тг, t2 — автоматизированное
всякое увеличение количества элементов, допускаемое повышением надежности и снижением стоимости элементов и связей, может быть использовано в суперЭВМ для повышения производительности, т. е. количество элементов ЭВМ ограничивается возможностями, а не потребностями. Эти факторы необходимо дополнить следующими положениями:
количество внешних соединений модуля ЭВМ увеличивается с повышением его интеграции, но это происходит медленнее, чем рост интеграции (рис. 2,а):
применяемость функциональных типов модулей в устройстве ЭВМ падает с увеличением интеграции модуля (рис. 2,6);
трудоемкость автоматизированного проектирования функционального модуля ЭВМ увеличивается медленнее, чем его интеграция (из-за структированного построения схем), следовательно, полная трудоемкость проектирования устройства определенного объема тем меньше, чем на более крупные модули оно разбивается;
трудоемкость автоматизированного изготовления модулей (рис. 2,в) увеличивается существенно медленнее, чем растет его интеграция (до уровня, обеспечиваемого технологическими возможностями и оборудованием).
Указанные факторы и положения имеют ряд следствий, которые проявлялись в прошлом и должны учитываться в настоящее время. Основными из них являются:
кардинальное направление развития технологии ЭВМ—повышение интеграции узлов, т. е. увеличение количества и плотности размещения элементов и связей на всех уровнях — кристалл микросхемы, микросборка, модуль на МПП, рама (панель, блок),
шкаф;
количество уровней компоновки для реализации устройства и особенно количество видов индивидуальных соединений должно непрерывно уменьшаться, однако в связи с одновременным ростом числа устройств в системе требуется развивать все виды компоновки (рис. 3), достижения в одном из видов не исключают другие, а, как правило, усиливают их роль (например, повышение интеграции микросхем потребовало резкого усложнения плат);
при выбранной (по быстродействию и надежности) элементной базе для каждого последующего уровня компоновки целесообразно применять наибольшую (допускаемую технологическими ограничениями) интеграцию.
С целью снижения риска повредить крупноформатные МПП при замене микросхем или внесении изменений во время наладки ЭВМ целесообразно использовать переходные разъемные соединители— колодки между МПП и корпусами микросхем [10]. После наладки первых образцов ЭВМ и устранения ошибок проекта, а также при достижении определенного уровня надежности БИС в последующих образцах ЭВМ разъемные колодки могут не
применяться.
П
ри всем сказанном выше следует подчеркнуть, что непрерывное и быстрое повышение надежности является наиболее важной тенденцией и предпосылкой развития ЭВМ, поскольку она в значительной мере определяет стоимость эксплуатации и влияет на стоимость аппаратуры.
Рис. 3. Уровни и основные узлы компоновки ЭВМ и вычислительных комплексов высокой производительности
В левом столбце указаны уровни, соответствующие центральным процессорам современных ЭВМ, и дан прогноз
Имеется ряд предпосылок внедрения в центральную часть суперЭВМ схем на полевых транзисторах:
сокращение разницы в быстродействии элементов на полевых и биполярных транзисторах при уменьшении размеров компонентов, использовании криогенного охлаждения, арсенида галлия, баллистических эффектов переноса зарядов;
проблемы, связанные с большей мощностью, потребляемой наиболее быстродействующими кремниевыми биполярными СБИС (обеспечение теплоотвода, надежности, электропитания);
преимущества БИС на полевых транзисторах в интеграции л возможность значительного сокращения потребляемой мощности для схем КМОП, в которых переключается с максимальной частотой лишь небольшая часть элементов;
сокращение внутри СБИС доли длинных связей из-за перехода к конвейерным алгоритмам выполнения операций.
Учитывая достижения в технологии биполярных СБИС и ограничения в совершенствовании параметров схем на полевых транзисторах при переходе к субмикронным размерам, указанные предпосылки нельзя считать решающими для однозначного выбора полевых микросхем в качестве основного направления элементной базы будущих суперЭВМ. Кроме того, в настоящее время развиваются и другие принципы создания сверхбыстродействующих элементов на основе комбинации биполярных и полевых транзисторов в одном кристалле, биполярных транзисторов с гетеропереходами, контактов Джозефсона и др.
Можно ожидать переход в суперЭВМ к криогенным рабочим температурам, поскольку это дает ряд дополнительных возможностей [11]: уменьшить логический перепад напряжений и за счет этого уменьшить рассеиваемую схемами мощность; повысить-надежность устройств как из-за уменьшения плотностей токов и тепловыделения, так и в связи с резким понижением скорости различных деградационных процессов; увеличить быстродействие устройств за счет роста скорости носителей тока и падения сопротивлений. Новые возможности появляются с применением явлений сверхпроводимости. Недавнее открытие высокотемпературной сверхпроводимости (при ГК~100К) и получение образцов сверхпроводящих пленок керамики с критической плотностью тока более 106 А/см2 позволяют использовать эти явления в вычислительной технике [11].
Основными компонентами «криогенных» суперЭВМ могут стать кремниевые СБИС на полевых транзисторах или арсенид-галлиевые СБИС. Бескорпусные кристаллы полупроводниковых СБИС могут устанавливаться на тонкопленочные платы со сверхпроводниковыми линиями. Применение сверхпроводимости позволяет резко уменьшить емкости связей на платах путем сокращения ширины проводников до предельного технологического уровня (на тонкопленочных платах без использования сверхпроводимости это нельзя сделать из-за большого удельного сопротивления пленок проводников). Успехи технологии позволят в дальнейшем сделать сверхпроводящими все или только длинные связи на кристаллах СБИС, а также электроды полевых транзисторов и диодов Шотки, повысив тем самым быстродействие схем.
Уже более 30 лет ведутся широкие исследования возможностей применения в ЭВМ оптоэлектронных принципов. Однако до настоящего времени практическое применение оптоэлектроника нашла лишь в периферийной части вычислительных систем: в устройствах ввода-вывода и отображения информации, в постоянной внешней памяти на дисках, в оптических каналах межмашинных или периферийных связей. Такое положение объясняется не недостатком идей по созданию оптоэлектронных логических элементов, связей, оперативной памяти, принципов многоканальной обработки информации, а тем, что оценка параметров оптоэлектронных устройств указывают на их неконкурентоспособность с подобными электронными устройствами (на момент возможного промышленного освоения).
Анализ показывает, что преимущества в совершенствовании электронных элементов логики и памяти над оптоэлектронными являются фундаментальными по следующим причинам: задержки срабатывания и энергопотребление элементов, а также длины связей сокращаются при уменьшении их размеров (оптические элементы и связи ограничены на этом пути длиной волны света); Для надежного различения состояний «1» и «О» с учетом шумов и помех необходимо, чтобы состоянию «1» соответствовало достаточно большое количество носителей энергии — кванты света имеют существенно большую энергию, чем носители тока (~ в 100 раз); логическое срабатывание любого известного оптического элемента связано с оптоэлектронными преобразованиями видов энергии, что вносит дополнительные потери быстродействия и энергопотребления. Все это указывает на очень малую вероятность внедрения оптоэлектронных принципов в качестве основы элементов центральных устройств ЭВМ.
Исследователи в области оптоэлектронной обработки информации, настроенные наиболее оптимистично, утверждают, что оптические элементы в будущем сравняются с электронными по быстродействию и рассеиваемой мощности, а простота многоканальной оптической передачи информации обеспечит возможность увеличить производительность вычислительных систем в -сотни и тысячи раз по сравнению с системами на электронных элементах. Такие прогнозы представляются неоправданными. При отсутствии у оптоэлектронных узлов преимуществ в интеграции и рассеиваемой элементами мощности количество элементов оптоэлектронной вычислительной системы не может быть существенно большим, чем у электронной. Очевидно, что при оптимальных (без дополнительных топологических или функциональных ограничений) связях между элементами можно получить более высокую производительность системы, чем при связях по большому числу параллельных каналов, которые предпочтительны для оптических систем.
Несмотря на приведенную оценку перспектив оптоэлектронной обработки информации внедрение оптических связей представляется весьма важным и эффективным направлением развития технической базы суперЭВМ. Это внедрение происходит от длинных линий (между ЭВМ с периферийными подсистемами) к более коротким (между шкафами центральной части ЭВМ и устройствами) с последующим распространением на связи между модулями и, возможно, между кристаллами микросхем (в отдаленном будущем).
Освоение новых технических рубежей приводит, как правило, к появлению новых архитектурных решений и даже классов ЭВМ: микропроцессоры явились основой рождения персональных ЭВМ, БИС сверхбыстродействующей памяти — векторно-конвейерных процессоров, маломощные быстродействующие логические СБИС вызвали появление мини-суперЭВМ. Значительное влияние на все классы ЭВМ окажут такие мощные технико-экономические стимулы, как возможность резко увеличить количество элементов и параллельных каналов обработки информации с использованием микропроцессорных комплектов СБИС, а также микросхем, в каждой из которых содержится память большой емкости вместе со схемами логической обработки информации (в том числе многоканальной). Особенностью таких СБИС является малая трудоемкость изготовления и стоимость (в расчете на элемент) при больших затратах на разработку и освоение производства каждого функционального типа СБИС.
Указанные особенности являются предпосылкой развития суперЭВМ с распределенной вычислительной мощностью, построенных из очень большого числа одинаковых модулей обработки и хранения информации на основе СБИС. Такие многоканальные ЭВМ могут иметь сверхвысокую производительность при решении некоторых классов задач и применяться наряду с универсальными суперЭВМ, состоящими из небольшого числа процессоров предельной производительности. Для размещения множества процессоров и блоков памяти в приемлемом объеме устройств ЭВМ, а также для обеспечения высокого темпа обмена информацией между ними в многоканальных суперЭВМ необходимо иметь большую плотность компоновки микросхем. Следовательно, результаты проведенного рассмотрения технической базы суперЭВМ с процессорами предельной производительности в значительной мере относятся и к многоканальным суперЭВМ.
Заключение