Михайлов В.П. - Учебное пособие по курсу ФОЭТ, страница 4
Описание файла
Документ из архива "Михайлов В.П. - Учебное пособие по курсу ФОЭТ", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "физико-химические основы нанотехнологий (фхонт)" из 5 семестр, которые можно найти в файловом архиве МГТУ им. Н.Э.Баумана. Не смотря на прямую связь этого архива с МГТУ им. Н.Э.Баумана, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "книги и методические указания", в предмете "физико-химические основы нанотехнологий (фхонт)" в общих файлах.
Онлайн просмотр документа "Михайлов В.П. - Учебное пособие по курсу ФОЭТ"
Текст 4 страницы из документа "Михайлов В.П. - Учебное пособие по курсу ФОЭТ"
где - градиент концентрации газа в твердом теле.
На основании 1-го закона Фика получим выражение для удельного потока проницаемости через стенку.
Распределение объемной концентрации газа в тонкой стенке
Удельный поток газопроницаемости через тонкую стенку:
где Сатм - объемная концентрация газа в материале у поверхности, соприкасающейся с атмосферой;
Свак - объемная концентрация газа в материале у поверхности, соприкасающейся с вакуумом;
Z - толщина стенки.
Перейдя от С к коэффициенту растворимости S получим:
Если pвак << pатм , то
Коэффициент диффузии D определяется как:
где QD - энергия активации диффузии.
Таким образом:
,
где П - коэффициент проницаемости
П0 - константа проницаемости
,
QП - энергия активации проницаемости,
QП = QD QS , где «+» – для химического соединения газа и материала, «-» - для истинного раствора.
Нестационарный процесс диффузии наблюдается при обезгаживании материала или, напротив, при поглощении им газа и описывается 2-м законом Фика:
или если D - не зависит от X:
При этом, обычно, рассматривают плоское полубесконечное тело.
Распределение концентрации в твердом теле для различных значений времени С=f(x,t)
Толщину обезгаженного слоя (см. схему) можно определить как:
t1 < t2 < t3
a) газопоглощение б) газовыделение
Рекомендуемые режимы обезгаживающего прогрева
Время обезгаживающего прогрева зависит от требуемого давления вакуума pвак, газосодержания вакумной арматуры (концентрации Сд), температуры обезгаживающего прогрева T, материала вакуумной арматуры. Рассмотрим режимы обезгаживающего прогрева для металла и стекла.
а) Для металла
Источник газовыделения | Температура обезгаживающего прогрева | Время обезгаживающего прогрева | Компоненты выделяющихся газов |
С поверхности (физически адсорбированные газы) | 2500...4500С | 2...3 мин. | N2, O2, H2O, CnHm |
Из приповерхностного слоя (хемосорбированные газы в виде окислов) | 3000...4500С | 1...10 час. | H2, CO, CO2 |
Из объема металла (растворенные газы) | 3000...4500С | 2...20 час. | H2, N2 |
При обезгаживающем прогреве металлов газ выделяется, в основном, из объема и приповерхностного слоя металла вследствие высокого коэффициента диффузии D. Газосодержание в металле задается в единицах [м3Па/кг].
б) Для стекла
X - щелочно-земельный металл
Источник газовыделения | Температура обезгаживающего прогрева | Время обезгаживающего прогрева | Компоненты выделяющихся газов |
С поверхности (физически адсорбированные газы) | 2000...3000С | 2...3 мин. | H2O, CO2, CnHm |
Из приповерхностного слоя (хемосорбированные газы в виде Si-O-H, Na2CO3 и др.) | 3000...4000С | 2...3 час. | H2O, CO2 |
Во внутренних слоях стекла растворено большое количество газов - преимущественно водяных паров. Однако, вследствие малого коэффициента диффузии D H2O в стекле обезгазить внутренние слои стекла практически невозможно. Таким образом, при обзгаживающем прогреве стекла, газ выделяется, в основном с поверхности и из тонкого приповерхностного слоя. Газосодержание в стекле задается в единицах [м3Па/м2].
Пример 1 (1-й закон Фика)
Дано: сильфон со следующими параметрами
D = 63мм; d = 55 мм; z = 0,2 мм; L = 88,5 мм;
Материал: 12Х18Н10Т
T1 = 293K; T2 = 693K
Найти: поток газопроницаемости Qп через сильфон для разных температур T1,T2.
Схема сильфонного герметизатора
Согласно 1-му закону Фика:
Константа проницаемости стали 12Х18Н10Т по H2 П0=1,4 ·10-4 Па1/2м2/c.
Энергия активации проницаемости по H2 Qп=8,04 ·104кДж/кмоль.
R=8.31 кДж/кмоль ·К; j=2; площадь поверхности сильфона Ac=0,062м2.
а) для Т1=293К
В случае максимально допустимого давления в вакуумной камере [рвак] = 10-2 Па требуемая скорость откачки:
Назначаем вакуумный насос НМД - 0,0063 (масса насоса 2,9 кг).
б) для T2=693K
В случае [рвак]=10-2Па требуемая скорость откачки вакуумной камеры:
. Назначаем насос НМД-1 (SH=1,2м3/с), масса 290 кг.
Пример 2 (2-й закон Фика)
Дано: пластина площадью А=100см2 и толщиной z=8мм из стали 20.
Найти: поток газовыделения N2 из пластины через 1800с при Т=1293К
-
1-й критерий применимости закона Фика.
Закон применим, если z>2, где - толщина обезгаженного слоя.
; T=1293K
Неравенство z=8мм > 2 ·2,276=0,552 – выполняется.
2-й критерий применимости 2-го закона Фика.
Для пластин
, т.е. неравенство - выполняется.
2. Удельный поток газовыделения из пластины:
где с0 - начальная концентрация N2 в пластине (с 0 = 29 ·103 м3Па/м3);
c1 - концентрация N2 на поверхности пластины, обращенной в вакуум (с1 0).
.
3. Поток газовыделения Q с поверхности пластины:
В случае [рвак]=10-2Па требуемая скорость откачки вакуумной камеры:
. Назначаем насос НМД - 0,0063 (SН = 6,3 л/с).
Формирование потоков заряженных частиц в вакууме
Электронная эмиссия
Рассмотрим явление надбарьерной эмиссии электронов на границе «металл-вакуум».
В соответствии с квантовой статистикой Ферми-Дирака электроны в металле распределены по энергетическим уровням так, как показано на рисунке. При этом максимальная энергия электронов при Т=0 К равна энергии Ферми EF. При увеличении Т электроны могут перемещаться на более высокие свободные энергетические уровни.
При некоторой температуре Т энергия электронов начинает превышать энергетический барьер Е0 на границе «металл-вакуум» (см. рисунок) и электроны начинают эмиттировать в вакуум.
Функция распределения электронов в металле по энергетическим уровням для Т=0 К и Т>0 К: Е - энергия электронов; dn/dE – количество электронов в единице объема металла, приходящееся на единичный энергетический интервал | Энергетический барьер для электронов на границе «металл-вакуум» |
Работа выхода электронов Авых – энергия, равная разности энергии Е0 бесконечно удалённого от поверхности металла покоящегося электрона и энергии Ферми ЕF (Авых = Е0-ЕF).
Физическая сущность работы выхода электронов Авых
Согласно квантовой теории даже при абсолютном нуле Т=0 К электроны с энергией Ферми ЕF могут выходить на некоторое время из кристаллической решётки металла. Они образуют возле поверхности слой электронов с отрицательным зарядом. При этом на проводящей поверхности металла наводится слой с положительным зарядом, т.е. на границе «металл – вакуум» образуется двойной электрический слой шириной r0.
После прохождения двойного электрического слоя на электрон действует сила от наведённого заряда электрического зеркального изображения q (см. рисунок).
Схема образования двойного электрического слоя 1 шириной r0 и заряда 2 электрического зеркального изображения | Энергетический барьер для электронов на границе «металл-вакуум» с учётом сил со стороны двойного электрического слоя и заряда электрического зеркального изображения |
Таким образом, энергия электрона вблизи поверхности металла с учётом электрических сил описывается следующим образом: E=E0-q2/(4x), где q – заряд, равный заряду электрона; х – расстояние от электрона до поверхности металла.
Кривая энергетического барьера для электрона с учётом действия электрических сил показана на рисунке.
Таким образом, работа выхода электрона Авых равна работе по преодолению силы со стороны двойного электрического слоя и силы со стороны заряда электрического зеркального изображения.
Значения работы выхода Авых для различных металлов
Металл | W | Mo | Ba | Cs |
Авых, эВ | 4.6 | 4.1 | 2.4 | 1.8 |
Виды электронных эмиссий
В зависимости от вида сообщаемой телу энергии различают следующие виды электронных эмиссий:
1. Термоэлектронная эмиссия
Процесс эмиссии электронов описывается законом Ричардсона:
где – плотность электронного тока с катода, А/см2;
А0 – термоэлектронная постоянная (А0=10…300 А/(см2К2));
Т – абсолютная температура тела, К;