150907 (732846), страница 6
Текст из файла (страница 6)
, (14)
тут Ev – модуль Юнга VO2, t – деформація кристалітів VO2 при ФПМН, lc – середній розмір кристалітів VO2, xv – об’ємна доля VO2 у склокераміці, c – поверхневий натяг склокераміки, xc – поріг протікання.
Ліва частина (14) визначає об’ємну долю x кристалітів VO2, крізь які зберігається протікання після термоциклювання, а отже деградація склокераміки на основі VO2 при термоциклюванні буде відсутня, коли x xv, тобто при умові:
. (15)
Згідно (14), зменшення деградації склокераміки (80-)VO215ВФС5Cu SnO2 при термоциклюванні із зростанням вмісту SnO2 обумовлено зменшенням об’ємної долі діоксиду ванадію xv. Фізична причина цього полягає в тому, що при зменшенні xv в склокераміці зменшується питома енергія пружної деформації, викликаної ФПМН в кристалітах VO2, що обмежує утворення мікротріщин. Надійне виконання умови (15), а отже повне подолання деградації склокерамічних матеріалів на основі VO2 забезпечується при значному зменшенні розмірів lc кристалітів VO2. Це один з найбільш ефективних шляхів подолання деградації, що підтверджує стабільна поведінка при термоциклюванні плівок VO2, розміри кристалітів в яких не перевищують 1 мкм.
З урахуванням викладеного визначені наступні шляхи боротьби з деградацією об’ємних склокерамічних матеріалів на основі VO2 при термоциклюванні через температуру фазового переходу метал-напівпровідник:
зменшення об’ємної долі xv VO2 в матеріалі шляхом введення добавок оксидів, які при синтезі не взаємодіють з VO2 і рідкою фазою. Слід зазначити, що значення xv обмежене знизу порогом протікання xс = 0,25;
використання добавок металів, зокрема міді, для створення розвиненої сітки провідникових електричних зв’язків між кристалітами VO2 в склокераміці;
зменшення розмірів кристалітів VO2, для чого перспективними є нанотехнології отримання VO2 і шихти для синтезу склокераміки.
Встановлено, що деградацію склокераміки (45-)VO215ВФСCu40SnO2 при термоциклюванні можна практично подолати першими з двох шляхів, якщо вміст міді обрано в інтервалі 67 ваг. %, коли провідникова фаза V5O9 починає утворюватись, але протікання крізь неї відсутнє. Такі склади склокераміки після 104 термоциклів зберігають величину стрибка при ФПМН, а їх електропровідність нижче Tt змінюється не більше, ніж у два рази.
Встановлено, що деградація ВАХ склокераміки на основі VO2 при циклічному перемиканні між станами „вимкнено” і „увімкнено” виявляється як незворотне зростання порогової напруженості ES і опору зразка RS у стані „вимкнено”. Причиною збільшення ES є збільшення RS. Із зростанням кількості перемикань ВАХ у стані „увімкнено”, зсувається до більших напруженостей і на ній при менших струмах з’являється область з ПДО. При збільшенні кількості перемикань відношення опорів RS/RS0 спочатку зростає, а потім зменшується. Зменшення RS/RS0 супроводжується зменшенням стрибка при ФПМН у VO2. Причиною такої поведінки є провідниковий канал, що утворюється в зразку склокераміки внаслідок теплового електричного пробою. Пробій виникає за рахунок неоднорідного розподілу локальних електричних струмів, який створюють мікротріщини. Це призводить до значного перегріву областей матеріалу з високою густиною струму і, як наслідок, розвитку теплового електричного пробою. Із збільшенням струму пробій виникає при меншій кількості перемикань. Вольт-амперні характеристики склокераміки (80-)VO215ВФС5CuSnO2 (35 45) при циклічному перемиканні між станами „вимкнено” і „увімкнено” практично не деградують і в зразках такої склокераміки не виникає тепловий електричний пробій, якщо середня густина струму у стані „увімкнено” не перевищує 2 А/см2.
Восьмий розділ присвячено питанням практичного застосування досліджуваних матеріалів.
Склокерамічні матеріали (85--)VO215ВФСCuSnO2 (35 45, 5 7), що практично не деградують при термоциклюванні, стрибком в 102 раз змінюють електропровідність в межах температури 341 К і здатні працювати при електричних струмах до десятка ампер, мають практичний інтерес як матеріал для створення терморезисторів, порогових перемикачів і термічних реле.
Зокрема, критичні терморезистори на основі таких матеріалів можуть бути використані для захисту освітлювальних ламп розжарювання від струму увімкнення, який в десять разів перевищує робочий струм ламп і є основною причиною виходу їх з ладу. Для захисту від струму увімкнення послідовно з лампою вмикають терморезистор з негативним температурним коефіцієнтом опору. Після подачі мережевої напруги терморезистор через теплову інерційність деякий час зберігає досить високий опір, що обмежує амплітуду струму увімкнення. Різка зміна опору склокерамічних терморезисторів на основі VO2 при Tt 343 К вигідно відрізняє їх від звичайних напівпровідникових терморезисторів, тому що при значно меншій температурі розігріву вони забезпечують ефективне обмеження струму увімкнення і в стані з низьким опором не впливають на робочий струм освітлювальної лампи розжарювання.
Для практичної мети слід визначити, при яких параметрах склокерамічного терморезистора на основі VO2 відносна амплітуда струму увімкнення = Im/Ip буде мінімальною (Im і Ip – амплітуда струму увімкнення і робочий струм освітлювальної лампи розжарювання). При відсутності терморезистора в колі лампи = 0 = U02/(RQPp) (U0 – мережева напруга, RQ – холодний опір спіралі лампи при температурі навколишнього середовища Q, Pp – потужність лампи), а при його наявності 1=0/(1 + RSQ/RQ), де RSQ – холодний опір терморезистора при температурі Q. Після подачі мережевої напруги терморезистор розігрівається і при температурі ФПМН Tt перемикається у стан з низьким опором. Це викликає в колі вторинний стрибок струму з відносною амплітудою 2. Розрахункові залежності 1 і 2 від відношення опорів RSQ/RQ наведені на рис. 20. З них випливає, що обмеження первинного 1 і вторинного 2 стрибків струму на рівні 1, 2 1,3 забезпечується при виборі відношення опорів в інтервалі 8 RSQ/RQ 14. Розрахунковий результат підтверджують експериментальні дані, наведені на рис. 21 для освітлювальної лампи розжарювання з робочою напругою U0 = 26 В і струмом Ip = 0,12 А. З них випливає, що при обранні величини RSQ/RQ в наведеному вище інтервалі можна практично повністю побороти стрибок електричного струму увімкнення і тим самим значно збільшити термін безвідмовної роботи освітлювальних ламп розжарювання.
Іншою можливістю практичного використання склокерамічних матеріалів на основі VO2 є захист процесору комп’ютера від перегріву. Відомо, що у штатному режимі роботи процесор нагрівається до 30–40 оС, а при температурі вище 180 оС відбувається незворотна зміна параметрів його НВІС. Згідно вимогам виробників процесорів апаратні і програмні засоби захисту від перегріву залучаються до дії при температурах 80–90 оС. Для цієї мети процесори обладнують датчиками на термісторах і термодіодах, а також схемами контролю температури, які при досягненні граничної температури виробляють сигнали, що вмикають засоби захисту від перегріву. Склокераміка на основі VO2 з різкою зміною електропровідності при температурі 70 оС, яка є близькою до вказаних вище граничних температур, перспективна для використання в системі захисту процесора від перегріву. Показана можливість реалізації на її основі сенсора, який поєднує властивості датчика температури і термічного реле з температурою спрацьовування, яку можна цілеспрямовано змінювати в межах 4570 оС шляхом пропускання крізь сенсор електричного струму. На основі такого сенсора запропоновані схеми захисту процесора від перегріву шляхом управління кулером, модуляції тактової частоти процесора і вироблення сигналів для запуску програмних засобів захисту від перегріву, передбачених в BIOS. Запропоновані схеми відрізняються від відомих схем простотою. Показана можливість створення на їх основі багаторівневої системи захисту процесора від перегріву шляхом обладнання його декількома сенсорами з різною температурою спрацювання.
ВИСНОВКИ
В дисертації розроблені наукові засади синтезу та модифікування нового класу склокерамічних матеріалів, основою яких є компонент з фазовим переходом метал-напівпровідник – VO2, з’ясовані механізми фізичних процесів в таких матеріалах, зв’язані з електропровідністю, відхиленням від закону Ома і термоциклюванням через температуру фазового переходу, вирішена проблема подолання деградації об’ємних матеріалів з ФПМН при термоциклюванні, що має принципове значення для їх цілеспрямованого застосування в елементах електронної техніки.
До основних результатів та висновків дисертаційної роботи можна віднести:
1. Розроблено високопродуктивний метод одержання VO2, що забезпечує у кінцевому продукті не менш 98 ваг. % VO2 зі стрибком електропровідності близько 103 в межах температури ФПМН 341 К. Встановлено, що розплави V2O5 і ванадієво-фосфатних стекол (ВФС) хімічно нейтральні до VO2 (взаємодія з ними полягає в незначному розчиненні твердого VO2 в рідкій фазі). Побудовано модель, яка розглядає розчинення VO2 і дифузію комплексів V2O4 в розплавах, що містять V2O5 як естафетний обмін киснем між комплексами V2O4 і V2O5. На основі одержаних результатів обгрунтовано технологію синтезу кераміки на базі VO2 і ВФС. Визначені оптимальні режими синтезу такої склокераміки та її складів, модифікованих добавками металів та оксидів.
2. На основі рентгенофазових досліджень встановлено, що коли вміст міді не перевищує 5 ваг. %, фазовими компонентами склокераміки в системах VO2ВФС, VO2ВФСCu є VO2 та ВФС, в системах VO2ВФСSnO2, VO2ВФСCuSnO2 VO2, SnO2 та ВФС. За даними рентгенівського мікроаналізу мідь входить до складу ВФС, що свідчить про її розчинення в рідкій фазі при синтезі склокераміки. На підставі даних ДТА доведено, що вміст VO2 не змінюється в процесі синтезу склокераміки, якщо вміст міді не перевищує 5 ваг. %. Встановлено, що коли вміст міді більше 5 ваг. %, кристалізується фаза Магнелі V5O9. Вона утворюється внаслідок взаємодії між складовими рідкої фази V2O4, і Cu як наслідок поновлення V2O4 за рахунок окислення міді. При зростанні вмісту міді вміст VO2 зменшується, а V5O9 зростає. При вмісті міді більше 12 ваг. % у складах склокераміки системи VO2ВФСCu переважає фаза V5O9. Оскільки V5O9 має ФПМН при температурі 125 К в дослідженому інтервалі температури 293403 К вона перебуває у металевому стані. Встановлено, що модифікування склокераміки добавками TiO2, ZnO і Zn веде до зменшення вмісту VO2 за рахунок утворення сполук, які не мають ФПМН.
3. За даними СЕМ при вмісті міді не більше 5 ваг. % мікроструктура склокераміки систем VO2ВФС, VO2ВФСCu складається з кристалітів VO2, переважно розділених прошарками ВФС (товщина 12 мкм) і пор. Між кристалітами VO2 мають місце окремі прямі зв’язки, що формуються за рахунок зростання кристалітів в процесі синтезу. Пористість склокераміки складає 2932 %. Встановлено, що при модифікуванні складу склокераміки добавкою SnO2 його частки (середній розмір близько 1 мкм) утворюють з ВФС склокераміку системи SnO2ВФС. Мікроструктура склокераміки з добавкою SnO2 складається з кристалітів VO2, переважно розділених прошарками склокераміки SnO2ВФС, областей такої склокераміки і пор. В склокераміці (80-)VO215ВФС5CuSnO2 (0 ≤≤ 70) пористість зменшується від 30% до 20 % із зростанням вмісту SnO2. Середній розмір кристалітів VO2 35 мкм не залежить від вмісту Cu і SnO2. При вмісті міді близько 6 ваг. % в мікроструктурі з’являються кристаліти фази V5O9 ( 15 мкм), які локалізовані на поверхні кристалітів VO2 і у ВФС. Кристаліти VO2 не спостерігаються в мікроструктурі, коли вміст міді перевищує 12 ваг. %.
4. Встановлено, що питому електропровідність кераміки на базі VO2 і ВФС можна цілеспрямовано змінювати в межах п’яти декад шляхом варіації вмісту добавки міді в інтервалі 015 ваг. %. Зміну склокераміки (80-)VO2 15ВФС5CuSnO2 в межах п’яти декад забезпечує варіація вмісту SnO2 в інтервалі 0≤≤70. Для склокераміки систем VO2ВФС, VO2ВФСSnO2, VO2 ВФСCu і VO2ВФСCuSnO2 стрибок в межах температури Tt 341 К складає не менше 102 при вмісті міді не більше 5 ваг. % і SnO2 55 ваг. %. Стрибок має місце, якщо в склокераміці при синтезі сформовано нескінченний кластер з протіканням крізь кристаліти компонента з ФПМН. Показано, що провідну роль в формуванні такого кластеру відіграють провідникові містки між кристалітами VO2, що утворюються в процесі синтезу за рахунок зростання кристалітів та розчинення міді в рідкій фазі. Розчинення міді сприяє формуванню провідникових містків, як наслідок легування ВФС міддю і кристалізації V5O9. Розроблено модель електропровідності склокераміки, в межах якої знайдено, що середня площа електричного контакту між кристалітами VO2 складає 0,1 % від повної контактної площі кристалітів в склокераміці систем VO2ВФС, VO2ВФС SnO2 і зростає до 8 % при додаванні до її складу 4-5 ваг. % міді. Мала площа контакту між кристалітами VO2 обумовлена ізолюючою дією прошарків ВФС. Встановлено, що стрибок склокераміки в межах Tt 341 К зникає при вмісті міді більше 10 ваг. %, як наслідок домінуючого внеску V5O9 до провідності або при використанні добавок TiO2, ZnO і Zn, як наслідок утворення сполук, що не мають ФПМН.