Автореферат (1105073), страница 6
Текст из файла (страница 6)
Последнее подтверждается наблюдаемымпрофилем амплитуды и фазы компоненты высокочастотногомагнитного поля Bz. Последний носит характер частично стоячей волныи указывает на наличие отраженных волн от нижнего фланца илокального минимума концентрации электронов в области сочленениягазоразрядной и технологической камер.
Показано, что увеличениерабочей частоты приводит к уменьшению Впорог. При работе на частоте4 МГц формируется волновая структура, соответствующая профилючастично стоячей волны с числом длин полуволн n=2. Увеличениерабочей частоты до 13.56 МГц приводит к тому, что изменениеиндукции магнитного поля сопровождается увеличением числа длинполуволн с 2 до 4. При использовании диэлектрическогоразделительного фланца на частоте 4 МГц возбуждения волн непроисходит.5. В двухкамерном ВЧ индуктивном источнике плазмы при условиях либонизкой рабочей частоты (2 МГц), либо давлениях, когда длина26свободного пробега электронов меньше продольного размера источникаплазмы, либо при значениях магнитного поля, когда ларморовскийрадиус больше радиуса ГРК и вне зависимости от материала фланцаконцентрация, температура электронов и потенциал пространствадостигают максимума в газоразрядной камере и монотонно спадают помере продвижения в технологическую камеру.
Уменьшение потенциалаплазмы при продвижении из газоразрядной в технологическую камерудолжно приводить к появлению быстрых ионов в технологическойкамере.Список публикаций по теме диссертации1. E A Kralkina, A A Rukhadze, V B Pavlov, K V Vavilin, P A Nekliudova, AK Petrov and A F Alexandrov, “RF power absorption by plasma of a lowpressure inductive discharge” Plasma Sources Science and Technology, 25, p.015016, 2015.2. K. Vavilin, E. Kralkina, P. Nekludova, A. Petrov, A. Nikonov, V. Pavlov,A.
Airapetov, V. Odinokov, G. Pavlov, and V. Sologub, “Hybrid plasmasystem for magnetron deposition of coatings with ion assistance” Journal ofPhysics: Conference Series, 669, 20153. А. Александров, А. Петров, К. Вавилин, Е. Кралькина, П. Неклюдова,А. Никонов, В. Павлов, А. Айрапетов, В. Одиноков, В. Сологуб иГ. Павлов, “Исследование параметров плазмы геликонного разряда вмакете ВЧ гибридной плазменной системы” Прикладная физика, 3,с.
25–28, 20154. А. Александров, К. Вавилин, Е. Кралькина, В. Павлов, А. Петров,В. Тараканов, “Математическое моделирование индуктивного ВЧразряда, помещенного во внешнее магнитное поле, посредствомпрограммы КАРАТ” Прикладная физика, 5, с. 44–47, 20155. А. Александров, Е. Кралькина, П. Неклюдова, В. Павлов, А. Петров,A. Рухадзе, К. Вавилин, “Поглощение ВЧ мощности плазмойиндуктивного разряда низкого давления” Инженерная физика, 11, 20156. А.
Петров, К. Вавилин, Г. Козлов, Е. Кралькина, П. Неклюдова,А. Никонов, В. Павлов, “Параметры плазмы в ВЧ индуктивномдвухкамерном источнике малой мощности при наличии внешнегомагнитного поля” Вестник Московского университета. Серия 3:Физика, астрономия, 6, 2015.7. Петров А.К. «Характеристики модели высокочастотного ионногодвигателя с ускорением ионов скачком потенциала двойного слоя»,Электронныйжурнал«ТрудыМАИ»,74,URL:http://www.mai.ru/science/trudy/published.php?ID=49282, 2014.27Список литературы:1.2.3.4.5.6.7.8.9.10.11.12.13.Charles C.
Plasmas for spacecraft propulsion // Journal of Physics D: AppliedPhysics. — 2008. — V.42. — P.163001.Попов О.А. Индукционные источники света. Учебное пособие. // М: Изд. домМЭИ. — 2010. — C.64.Strabel M., Lyons C. S., Mittal K.L. Plasma Surface Modification of Polymers:Relevance to Adhesion // VSP International Science Publishers. — 1994.
— P.290.Charles C., Boswell R.W., Kuwahara H. SiO2 deposition from oxygen/silane pulsedhelicon diffusion plasmas // Applied Physics Letters. — 1995. — V.67. — P.40.Thomson J.J. On the Illustration of the Properties of the Electric Field by Means ofTubes of Electrostatic Induction // Philosophical Magazine. — 1891. — V.31. —N.190. — P.149–171; — V.32. — P.321–336.Pippard A.B.
The Surface Impedance of Superconductors and Normal Metals at HighFrequencies. II. The Anomalous Skin Effect in Normal Metals // Proceedings ofRoyal Society A. — 1947. — V.191. — P.385.Александров А.Ф., Богданкевич Л.С., Рухадзе А.А. Основы электродинамикиплазмы // М.: Высшая школа. — 1978. — C.411.Гинзбург В.Л., Рухадзе А.А. Волны в магнитоактивной плазме // М.: Наука. —1975. — C.256.Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В.
и др. Самосогласованная модельВЧ индуктивного источника плазмы, помещенного во внешнее магнитное поле// Физика плазмы. — 2004. — Т.30. — С.434-449.Aigrain P.Les ‘helicons’ dans les semiconducteurs // Proceedings of InternationalConference of Semiconductor Physics. — 1960. — P.224.Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления ивозможности оптимизации источников плазмы на его основе // УспехиФизических Наук. — 2008. — Т.178. — №5. — С.519–540.Вавилин К.В., Рухадзе А.А., Ри М.Х. и др.
Радиочастотные индуктивныеисточники плазмы малой мощности для технологических приложений // Физикаплазмы. — 2004. — Т.74. — В.5.— C.44―49; — Т.74. — В.6. — С.25-28; — Т.74.— В.6. — С.29-34.Тараканов В.П. Теоретический и численный анализ нелинейных задач физикиплазмы посредством кода КАРАТ: диссертация на соискание ученой степенидоктора физ.-мат.
наук: 01.04.08. — М. 2011. — 267 с.28.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
