Главная » Просмотр файлов » Плазменно и термически стимулированное осаждение алмазных пленок многомерные модели химических реакторов

Плазменно и термически стимулированное осаждение алмазных пленок многомерные модели химических реакторов (1097823), страница 70

Файл №1097823 Плазменно и термически стимулированное осаждение алмазных пленок многомерные модели химических реакторов (Плазменно и термически стимулированное осаждение алмазных пленок многомерные модели химических реакторов) 70 страницаПлазменно и термически стимулированное осаждение алмазных пленок многомерные модели химических реакторов (1097823) страница 702019-03-13СтудИзба
Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла (страница 70)

Transport ofground-state hydrogen atoms in a plasma expansion // Phys. Rev. E. 2001. v.64. 016411.67. Benedikt J. Plasma-chemical reactions: low pressure acetylene plasmas // J. Phys. D: Appl. Phys.2010. v.43. 043001.68. Yamaguchi H., Ishii M., Uematsu K., Morimoto S. Characterization of a DC Arcjet Plasma forDiamond Growth by Measurement of Spatial Distributions of Optical Emission // Jap. J. Appl.

Phys.1996. v.35. p.2306-2313.69. Sakiyama S., Fukumasa O., Murakami T., Kobayashi T. Spectroscopic Measurement of DCPlasma Jet in Diamond Synthesis // Jap. J. Appl. Phys. 1997. v.36. p.5003-5006.70. Zhao M., Owano T.G., Kruger C.H. Optical diagnostics of an atmospheric pressure diamonddepositing DC plasma reactor // Diamond Relat. Mater. 2001. v.10. p.1565-68.71. Baldwin S.K.J., Zhao M., Owano T.G., Kruger C.H. Enhanced deposition rate of diamond inatmospheric pressure plasma CVD: Effects of a secondary discharge // Diamond Relat. Mater.

1997.v.6. p.202-206.72. Pereverzev V.G., Pozharov A.S., Konov V.I., Ralchenko V.G, Metev S., Sepold G. Improved DCarc-jet diamond deposition with a secondary downstream discharge // Diamond Relat. Mater. 2000.v.9. p.373-377.73. Luque J., Juchmann W., Jeffries J.B. Spatial density distributions of C2, C3, and CH radicals bylaser-induced fluorescence in a diamond depositing dc-arcjet // J. Appl. Phys. 1997. v.82. p.2072-2081.74. Juchmann W., Luque J., Wolfrum J., Jeffries J.B. Absolute concentrations, temperature, andvelocity measurements in a diamond depositing dc-arcjet reactor // Diamond Relat. Mater. 1998. v.7.p.165-169.75.

Juchmann W., Luque J., Jeffries J.B. Flow characterization of a diamond-depositing dc arcjet bylaser-induced fluorescence // Appl. Opt. 2000. v.39. p.3704-3711.76. Juchmann W., Luque J., Wolfrum J., Jeffries J.B. Atomic hydrogen concentration in a diamonddepositing dc arcjet determined by calorimetry // J. Appl. Phys. 1997.

v.81. p.8052-8056.30177. Luque J., Juchmann W., Jeffries J.B. Excited state density distributions of H, C, C2, and CH byspatially resolved optical emission in a diamond depositing dc-arcjet reactor // J. Vac. Sci. Technol. A.1998. v.16. p.397-408.78. Juchmann W., Luque J., Jeffries J.B. Two-photon laser-induced fluorescence of atomic hydrogenin a diamond-depositing dc arcjet // Appl. Opt. 2005. v.44. p.6644-6652.79. Mankelevich Yu.A., Ashfold M.N.R., Orr-Ewing A.J. Measurement and modelling of Ar/H2/CH4arc jet discharge CVD reactors II: modelling of the spatial dependence of expanded plasma parametersand species number densities // J. Appl. Phys.

2007. v.102. 063310.80. Rennick C.J., Ma J., Henney J.J., Wills J.B., Ashfold M.N.R., Orr-Ewing A.J., Mankelevich Yu.A.Measurement and modelling of Ar/H2/CH4 arc jet discharge CVD reactors I: inter-comparison ofderived spatial variations of H atom, C2 and CH radical densities // J. Appl. Phys.

2007. v.102. 063309.81. Mankelevich Yu.A., Suetin N.V., Ashfold M.N.R., Boxford W.E., Orr-Ewing A.J., Smith J.A.,Wills J.B.. Chemical kinetics in carbon depositing dc-arc jet CVD reactors // Diamond and RelatedMaterials. 2003. v.12. p.383-390.82. Rennick C.J., Smith A.G., Smith J.A., Wills J.B., Orr-Ewing A.J., Ashfold M.N.R., MankelevichYu.A., Suetin N.V. Improved characterisation of C2 and CH radical number density distributions in aDC arc jet used for diamond CVD // Diam. Relat. Mater.

2004. v.13. p.561-568.83. Rennick C.J., Engeln R., Smith J.A., Orr-Ewing A.J., Ashfold M.N.R., Mankelevich Yu.A.Measurement and modeling of a diamond deposition reactor: Hydrogen atom and electron numberdensities in an Ar/H2 arc jet discharge // J. Appl. Phys. 2005. v.97. p.113306-113320.84.

Rennick C.J., Ma J., Ashfold M.N.R., Orr-Ewing A.J., Mankelevich Yu.A. Spatial profiling ofH(n=2) atom number densities in a DC arc jet reactor // Plasma Sources Sci. Technology. 2006. v.15.p.432-440.85. Lee J.-K., Eun K.Y., Baik Y-J., Cheon H.J., Rhyu J.W., Shin T.J., Park J-W. The large areadeposition of diamond by the multi-cathode direct current plasma assisted chemical vapor deposition(DC PACVD) method // Diamond and Related Materials. 2002. v.11. р.463-466.86.

Menningen K.L., Childs M.A., Toyoda H., Ueda Y., Anderson L.W., Lawler J.E. Absolute radicaldensity measurements in a CH4-H2 d.c. discharge // Diamond and Relat. Mater. 1994. v.3. p.422-425.87. Lee H-J., Jeon H., Lee W-S. Ultrananocrystalline diamond film deposition by direct-currentplasma assisted chemical vapor deposition using hydrogen-rich precursor gas in the absence of thepositive column // J.

Appl. Phys. 2011. v.109. 023303.88. Манкелевич Ю. А., Рахимов А. Т., Суетин Н. В. Моделирование процессов осажденияалмазных пленок в реакторе с активацией смеси разрядом постоянного тока. // Физика плазмы.1995. т. 21. с. 921-927.89. Filippov A.V., Mankelevich Yu.A., Pal A.F., Rakhimov A.T., Serov A.O., Suetin N.V..Spectroscopy, actinometry and simulation of a DC discharge in CO/H2 gas mixtures // Proc. of SPIE,Select. Res.

Papers on Spectroscopy of Nonequilibrium Plasma at Elevated Pressures, Ed. V.N.Ochkin. 2002. v.4460. p.285-295.90. Mankelevich Yu.A., Rakhimov A.T., Suetin N.V. Two-dimensional model of a reactive gas flowin a diamond film CVD reactor // Diam. Relat.

Mater. 1995. v.4. p.1065-1068.91. Mankelevich Yu.A., Rakhimov A.T., Suetin N.V., Kostyuk S.V. Diamond growth enhancement indc discharge CVD reactors. Effects of noble gas addition and pulsed mode application // DiamondRelat. Materials. 1996. v.5. p.964-967.92. Mankelevich Yu.A., Rakhimov A.T., Suetin N.V., Коstyuk S.V. Diamond deposition in plasmaactivated CVD reactors. Two-dimensional modeling // Journ. of Chemical Vapor Deposition.Technomic Publishing Co. Inc. 1996. v.5. p.74-8293. Mankelevich Yu.A., Rakhimov A.T., Suetin N.V., Aparin Y.J. 2D model DC discharge reactor fordiamond deposition // Ceramics International.

1998. v.24. p.255-25794. Коstiuk S.V., Mankelevich Yu.A., Rakhimov A.T., Suetin N.V. Reactive mixture activation by dcand mw discharges. Two-dimensional simulation // Proc. of Physics and Technology Institute. 2000.v.16. pp. 38-47.95. Gicquel A., Hassouni K., Farhat S., Breton Y., Scott C.D., Lefebvre M., Pealat M. Spectroscopic302analysis and chemical kinetics modeling of a diamond deposition plasma reactor // Diam. Rel.

Mater.1994. v.3. p.581-586.96. Hassouni K., Gicquel A., Capitelli M., Loureiro J. Chemical kinetics and energy transfer inmoderate pressure H2 plasmas used in diamond MPACVD processes // Plasma Sources Sci. Technol.1999. v.8. p.494-512.97. Лебедев Ю.А., Эпштейн И.Л. Ионный состав неравновесной плазмы в смеси водорода сметаном // Теплофизика высоких температур. 1998. т.36.

c.534-540.98. Lombardi G., Hassouni K., Stancu G.-D., Mechold L., Ropcke J., Gicquel A. Study of an H2/CH4moderate pressure microwave plasma used for diamond deposition: modelling and IR tuneable diodelaser diagnostic // Plasma Sources Sci. Technol.

2005. v.14. p.440–450.99. McMaster M.C., Hsu W.L., Coltrin M.E., Dandy D.S., Fox C. Dependence of the gas compositionin a microwave plasma-assisted diamond CVD reactor on the inlet carbon source: CH4 versus C2H2 //Diam. Relat. Materials. 1995. v.4. p.1000–1008.100. Lombardi G., Hassouni K., Benedic F., Mohasseb F., Ropcke J., Gicquel A. Spectroscopicdiagnostics and modeling of Ar/H2/CH4 microwave discharges used for nanocrystalline diamonddeposition // J. Appl. Phys.

2004. v.96. p.6739-6751.101. Lombardi G., Hassouni K., Stancu G.-D., Mechold L., Ropcke J., Gicquel A. Modeling ofmicrowave discharges of H2 admixed with CH4 for diamond deposition // J. Appl. Phys. 2005. v.98.053303.102. Celii F.G., White D., Purdes A.J. Effect of residence time on microwave plasma chemical vapordeposition of diamond // J. Appl. Phys. 1991. v.70. p.5636-5646.103. Hyman E., Tsang K., Lottati I., Drobot A., Lane B., Post R., Sawin H. Plasma enhanced chemicalvapor deposition modeling // Surface and Coatings Technol.

1991. v.49. p.387-393.104. Kostiuk S.V., Mankelevich Yu.A., Rakhimov A.T., Suetin N.V. Two-dimensional simulation ofdiamond deposition processes in microwave discharge reactors // Proc. 5th Int. Symp. on DiamondMaterials, Eds. J.L. Davidson, W.D. Brown, A. Gicquel, B.V. Spitsyn, J.C. Angus. The Electrochem.Soc., Paris, France. 1997. v. 97-32. p.152-160.105. Hassouni K., Grotjohn T.A., Gicquel A. Self-consistent microwave field and plasma dischargesimulations for a moderate pressure hydrogen discharge reactor // J.

Appl. Phys. 1999. v.86. p.134151.106. Gorbachev A.M., Koldanov V.A., Vikharev A.L. Numerical modeling of a microwave plasmaCVD reactor // Diamond Relat. Materials. 2001. v.10. p.342-346.107. Yamada H., Chayahara A., Mokuno Y. Simplified description of microwave plasma discharge forchemical vapor deposition of diamond // J. Appl. Phys. 2007. v.101.

063302.108. Yamada H., Chayahara A., Mokuno Y., Shikata S. Model of reactive microwave plasmadischarge for growth of single-crystal diamond // Jap. J. Appl. Phys. 2011. v.50. 01AB02.109. Yamada H. Numerical simulations to study growth of single-crystal diamond by using mwplasma CVD with Reactive (H, C, N) species // Jap. J. Appl. Phys.

2012. v.51. 090105.110. Лебедев Ю.А. Параметры электронной компоненты метансодержащей водородной СВЧплазмы в резонаторе // Теплофизика высоких температур.1995. т.33. с.850-854.111. Mankelevich Yu.A., Ashfold M.N.R., Ma J., Plasma-chemical processes in microwave plasmaenhanced chemical vapor deposition reactors operating with C/H/Ar gas mixtures // J. Appl. Phys.2008. v.104.

113304.112. Ma J., Richley J.C., Ashfold M.N.R, Mankelevich Yu.A. Probing the plasma chemistry in amicrowave reactor used for diamond chemical vapor deposition by cavity ring down spectroscopy // J.Appl. Phys., 2008. v.104. 103305.113. Ma J., Ashfold M.N.R., Mankelevich Yu.A. Validating optical emission spectroscopy as adiagnostic of microwave activated CH4/Ar/H2 plasmas used for diamond chemical vapor deposition //J. Appl. Phys.

Характеристики

Список файлов диссертации

Свежие статьи
Популярно сейчас
Почему делать на заказ в разы дороже, чем купить готовую учебную работу на СтудИзбе? Наши учебные работы продаются каждый год, тогда как большинство заказов выполняются с нуля. Найдите подходящий учебный материал на СтудИзбе!
Ответы на популярные вопросы
Да! Наши авторы собирают и выкладывают те работы, которые сдаются в Вашем учебном заведении ежегодно и уже проверены преподавателями.
Да! У нас любой человек может выложить любую учебную работу и зарабатывать на её продажах! Но каждый учебный материал публикуется только после тщательной проверки администрацией.
Вернём деньги! А если быть более точными, то автору даётся немного времени на исправление, а если не исправит или выйдет время, то вернём деньги в полном объёме!
Да! На равне с готовыми студенческими работами у нас продаются услуги. Цены на услуги видны сразу, то есть Вам нужно только указать параметры и сразу можно оплачивать.
Отзывы студентов
Ставлю 10/10
Все нравится, очень удобный сайт, помогает в учебе. Кроме этого, можно заработать самому, выставляя готовые учебные материалы на продажу здесь. Рейтинги и отзывы на преподавателей очень помогают сориентироваться в начале нового семестра. Спасибо за такую функцию. Ставлю максимальную оценку.
Лучшая платформа для успешной сдачи сессии
Познакомился со СтудИзбой благодаря своему другу, очень нравится интерфейс, количество доступных файлов, цена, в общем, все прекрасно. Даже сам продаю какие-то свои работы.
Студизба ван лав ❤
Очень офигенный сайт для студентов. Много полезных учебных материалов. Пользуюсь студизбой с октября 2021 года. Серьёзных нареканий нет. Хотелось бы, что бы ввели подписочную модель и сделали материалы дешевле 300 рублей в рамках подписки бесплатными.
Отличный сайт
Лично меня всё устраивает - и покупка, и продажа; и цены, и возможность предпросмотра куска файла, и обилие бесплатных файлов (в подборках по авторам, читай, ВУЗам и факультетам). Есть определённые баги, но всё решаемо, да и администраторы реагируют в течение суток.
Маленький отзыв о большом помощнике!
Студизба спасает в те моменты, когда сроки горят, а работ накопилось достаточно. Довольно удобный сайт с простой навигацией и огромным количеством материалов.
Студ. Изба как крупнейший сборник работ для студентов
Тут дофига бывает всего полезного. Печально, что бывают предметы по которым даже одного бесплатного решения нет, но это скорее вопрос к студентам. В остальном всё здорово.
Спасательный островок
Если уже не успеваешь разобраться или застрял на каком-то задание поможет тебе быстро и недорого решить твою проблему.
Всё и так отлично
Всё очень удобно. Особенно круто, что есть система бонусов и можно выводить остатки денег. Очень много качественных бесплатных файлов.
Отзыв о системе "Студизба"
Отличная платформа для распространения работ, востребованных студентами. Хорошо налаженная и качественная работа сайта, огромная база заданий и аудитория.
Отличный помощник
Отличный сайт с кучей полезных файлов, позволяющий найти много методичек / учебников / отзывов о вузах и преподователях.
Отлично помогает студентам в любой момент для решения трудных и незамедлительных задач
Хотелось бы больше конкретной информации о преподавателях. А так в принципе хороший сайт, всегда им пользуюсь и ни разу не было желания прекратить. Хороший сайт для помощи студентам, удобный и приятный интерфейс. Из недостатков можно выделить только отсутствия небольшого количества файлов.
Спасибо за шикарный сайт
Великолепный сайт на котором студент за не большие деньги может найти помощь с дз, проектами курсовыми, лабораторными, а также узнать отзывы на преподавателей и бесплатно скачать пособия.
Популярные преподаватели
Добавляйте материалы
и зарабатывайте!
Продажи идут автоматически
6451
Авторов
на СтудИзбе
305
Средний доход
с одного платного файла
Обучение Подробнее