К.В. Фролов - Технологии, оборудование и системы (1062200), страница 232
Текст из файла (страница 232)
Установка двухлучевага ионного ааикдвния распылением .ЩЕА-б; Установка лазерного напыления; Установка лазерно-термического напыления; Свгрхвысакавакуумный комплекс МЛЭ-200 Оборуд д щ д ИЭТВиды 33 — Состав 34 — Структурная схема 34- Критерии проектирования 34 - 37 - Техникоэкономические показатели 35 - Факторы, влияющие на производительность 36 - 38- Методы повышения производительности 38 Оборудование длв разделения полущюведпиковых пластин ва кристаллы 511, 512, 514 Оборудование длв растровой туннельной мввроскопви 407, 408 Оборудование длв ревтгеволвтографви— Схема установки 138, 139 - Выбор характеристик 139, 140 — Параметры точечных источников 141 - Источники рентгеновского излучения — см. ХХстачники рвнпгтнавскага излучвниаРенпеношабпоны 147 - 150 Оборулоаавие дяя сборни печатных узлов РЭА 584 - 587, 592 Оборудование дтг фетолвтографвв 478- 482, 484, 487 - 489 Оборудоаапве для электронно-лучевой обработки — Выбор и расчет параметров основных элементов 74 - 79 Оборулоаавве для эавтаксаи кремния 185 - 187 - арсенида гэлпня 190, 191 Оборудование лазериее - Типовая схема установки 165 - Разновидности 167, 169, 170 Оборудование технологическое специальное 14, 15, 18, 432 - 438, 444, 445 — общемашнностроигельнос 17, 18 Обработка быстрая термвчесвая - см.
Быстрая термическая обработка Оые-спектросаоввв 404, 405 Оме-элевтроа 405 Оидуляцвя 144 Осалшевае пиролитичсское 181 - плазмохимичссксе 181 - химическое тонких пленох из газовой фазы 201, 202 Оборудование - см. Рваюпоры атмосферного давления; Реакторы понигкеннаго давления Отказ техвелогвчесвой системы 44 Очвстаа мсталлпчесввх дстаяей ЭВП механическая 630, 631 — физической десорбцией з вакууме 631 - обсзжиризанием в нейтральных растворах 633 - 636 — обработкой в химически активных растасрзх 636 - 638 с использованием эпектролитичсских процессов 638 - 640 - термическими способами 640 - ионной бомбардировкой 640, 641 Очвспш ввевмовахреваа ЭВП 644 - 648 Очвспга хвмвчесвая стевлв в ЭВП 641— 644 П Параметры качества мввросхем - пленок металлов и сплавов 535, 536 - диэлектрических пленок 536 - полупроводниковых слоев 536 - 538 - интегральных 538, 539, 551 - 553 - статические 540 - 543 - диФференциальные 543 - 551 - эквивалентных 553 - 555 кощгенсаторо в, резисторов, кззушек индуктизностей 556, 557 - шумовых полупрозодникояых приборов 555, 556 Псшеага магистров 226, 227 Певпивга разряд 315 Первезис аучва 80 Печатаые платы - Понятие 557 - Назначение 559 - Конструирование 563 — Классификация 559 - Основные характеристики элементов 563, 564 - Основные материалы дпя изготозленип 564, 565 - Защитные покрыли 565— Размеры 565, 566 - Размещение элементов 566 Электрические характеристики 567, 568 Размеры отясрсткй 566 - Размеры печатных проводников 566, 567 - Изготовление - см.
Изготовление неватных плат - односторонние 557, 560 - двусторонние 557, 560 - многослойные 557, 558, 561 - многоуровневые 557, 563 - на мсттшическом основании 562 - з радиоэлектронной аппаратуре 575 — 577 Печатные узлы - Конструктивные варианты 578, 579 Парса метод 80 Пластввы полуиреводвеиеме - Использование з мнкроэлехтронике 459 - Совйстяа полупроводников $'г' группы Периодической системы 461, 462 — нз кремнии 460 Пластмассм 352 Пвевзиевхревой эффевт 644 Поаерхвость твердого тела - Основные характеристики 399 Подогревателе вакуумных приборов Тренировка 704, 705 Подогреватели ватодов - Состав 625 Характеристики 627 - Изготовление 626, 627 - оксипных и метаппопористых апундиророванных 626 ПРЕДМЕТНЫН УКАЗАТЕЛЬ 737 металлопористых высокотемпературных 626 Поламериые материавы 518 - 520 Помещеива частые щюизводстаеввые см. Чистые лроизеадствеииые лоытцеяия Приборм отобрамевия авформавви — см.
Индикаторы - Разновидности 592 - матричные 593, 594 - зкидкокристаллнческие 599, 600, 602, 603 Привалы асполввтельвых мекавазмоа оборудоааввя для производства ИЭТ - Разновидности 273, 274 - Классификация 275 - лля установок нанесения тонких пленок в вакууме 275 - для выращивания монокристаллов методом Чохральского 275 - дзя лучевой обработки 275 — для сборки з вакууме 275 для молекулярно-лучевой эпнтаксии 275 - для контроля состояния образцов 275 - вакуумные 275 - 285 - на основе управляемой упрутой деформации 292 - 296 Проводизюсть наведенная - см. Цюеодимость радиационная - радиационная 60 Гузтаолавзвй рисунок 557 Пушив электроввме - см.
Ззекироииые лучики Р Радиоаативвых изетовоа метод 136 Ралиеэлеатроааме взлелев - Состав 707- Этапы изготовлешш 708 - Структурная схема телевизионного приемника на примере телевизора БОНУ КУ-М1400К - 708 - 713 Разаеаевие полуиреведвввоаых властии аа вристаллы - Резка диском с наружной режущей кромкой 511 - Резка диском с абразивом 512 - Резка стельными полотнами 512 - Резка проволокой 512, 513 — Скрайбирозание 512, 513 - Разламывание 513 - Ультразвуковая резка 513, 514 - Технологические маршруты 514- Характеристики алмазных отрезных кругов 515, 516 - Режимы резки материалов 517, 518 Рамааоаская свеатроекопвя 165 Распылеиве физическое 90 - химическое модифицированное физическое 91 Рассеяние быстрых попов 411 Раеюровав туннельная маароскоаия 407 Реакторы атыосфс рното давления 202, 203 - пониженного давления 202 - 208 Резины 352, 353 Ревтгеволвтография - Преимущества 138 - Оборудование - см.
Оборудоеаиие дзя реитгенолитоерафии - Применение 152 Ревтгеворезвстм 151, 152 С Сборка шплреиаей арматуры ЭВП - Методы 660 - 666 - Примеры 666 - 672 Сборшз ИЭТ - Разновидности 520 - Методы механического крепления сборочных единиц 520, 521 - Крепление неоршническими материалами 521, 522 - Крепление клеями 522 Сборка стевлооболочев ЭВП - Этапы 649 - Приварка штенгеля к колбе 649 - Соединение стеклянных деталей составной колбы 648- Газовая сварка конуса ЭЛТ с прямоутольным экраном 650 - Газовая сварка деталей колб 651 - Газоэлектросварка конуса и экрана крупногабаритных ЭЛТ 652 - Спайка ситаллоцементами стеклянных депшей составной колбы 652, 653 - Сборка стеклооболочек ЭЛТ 654 - Опкиг 654 - 660 Сверхбелыиве ввтегразьвые схемы Процент выхода годных 39 - 40 - Надежность 40 - 42 Сеезшаысоко аавуумвмй комплекс МЛЭ- 200 420, 421 Системы автоматического управленим Основные целевые функции 424 - Сервисные функции 424, 425 - Функции коррекции цели 425 Свстеиш аатоиатвчесяего управления гибким автоматизированным про изводспом 432, 433 - специальные технологическим оборудованием 433, 436 - 438 - гибкими производсшенными линиями 448 дискретными автоматическими установками 444 - 448 - микропроцессорные 455, 456, 458 Светемм газовеге травлении — Разновидности 99 Свтаяам 351 Спевтросковия резерфордовсюш обратного рассеяния 32 - электронная 399, 400 - ионная 399, 401 - ренгеноэлектронная 401, 403 Салавм жаропрочные 345 - титана 346, 347 - цветные 34 Стала углеродистые 345 - легированные 345 — жаропрочные 345 -коррозионно-стойкие 345, 346 Стекла 349, 351, 605 - 607 Стевлокерамичесяве сваи - Изготовление 616 Стекляввме деталв ЭВП - Формозаиие 609 - 611 - Сборка оболочек 611 Т Термическое оквелеаие - Понятие 191 Разновидности 192, 194 ПРЕДМЕТНЫЙ УКАЗАТЕЛЬ Термоваауумваа обработав ЭВП - Понятие 682 - Этапы 682 - Откачка 683, 684- Обезпокиваиие 684 - 689 - Активнрование катода 689 - Герметизация 689, 690 - Технолопгчсское оборудование 690 - 702 Термокатоды - Основные характернсппш 620 - Зависимости плотности тока от температуры 620 - Констругщии 621 - Разновидности 621 - 625 Техвологви злевтроввого машввостроеявв — см.
Элмопронныв технологии Техвелогвческая машела - Структура 422, 423 Техвоаопемсяие источники наша - Требования 106, 107 - Отбор ионов из ллазменного зьпптера 107, 108 - Классификация 109- Характеристики 110, 112 - 114 - Конструкции 109 - 115 Техиелегичесаве ароцессм производства ИЭТ - Разновиднооти 243 - вакуумные 243, 244 Техвоефера 7 Ье Типе критерий 203 Теввие плевен - Понятие 174 - Характеристики 174 - Использование для изготовления ИС 176 - Использование для формирования транзисторной структуры 176 - Использование для формирования контактных, барьерных н проводящих слоев 176 - 180 - Использование для нанесения изииругощих, защитных н плзнаризующнх слоев 180 - 183 Травлеаве - Понятие 87 - вакуумное газо-плазменное - Основные процессы лри производите кремниевых микроприборов 88 - Классификация 88, 89 — Разновидности - см. под их нетлениями: ТРавлвние снонтанног хнмнчгсхоег Распыление фиэичвгховг Травление радиационно-стимулированное химическое; Травление радиационно-возбуэкдаемов химическое; Расныленив химически модифицированное физическое - Технологические характеристики процессов дня функциональных слоев микросхем 92 - 94 — Оборудование - см.
Оборудование длл гаэонлазивнной обработки - сухое размерное 88, 91, 92 - ионна-лучевое 104, 105 - реактивное ионна-лучевое 104 - 106 - Радиационно-возбуждаемое хнмичеокое 90 - радиационно-стимулированное химическое 90, 91 - спонтанное химичеокое 89 Тренировка 704 У Угловая труда 48 Уставовва двухнучевого ионного осюкдення распылением ЦНА-6 418, 419 - лазерного напыаения 419 - лазерно-термического напыления 420 Устройства исполнительные на основе 1-координатных механизмов 305, 306 микропроцессорного управления специальным технологическим оборудованиемсм. Котнроллеры нрограымиругмыег Михронроцегсорныв блоки улравлетт Ф Фвка заков 193 Фвтмроаальаые материалы - Основные характеристики 386 Фильтры Вина 409 - чистых производственных помещений 385, 386, 395 Фотолвз 475 Фотелвтографвм - Понятие 474 - Стадии 474, 475 — Критерии качества 476 - Нанесение слоя фоторезнста 477 - 479 - Сушка слоя фоторезнста 479, 480 - Совмещение и экспонирование 480 - 483 - Проявление слоя фоторезиста и оушка проютяемого рельефа 433, 484- Травление технологического слои 484 - 487 - проекционная 437 - 489 Фотовохвмервзацва 475 Фоторезист 475 Фетозффект 30 Фул реям 222 Ц Цввшые металлы 348, 349 Цифровые арвборы 532 - 534 Ч Чийльда - Левпцора закон 106 Чистые яро авве дствеввые вомадеввя (ЧПП) - Поняпге 48 - Опасные и вредные производственные факторы 48, 49 — Технические и санитарно-пцненические требования к микроклимату 50 - Нормативные показатели воздушной среды 50 - Классификации по уровню ионизованности воздуха 51 - Классификация объектов с низким уровнем ионнэированной воздушной среды 51 - Классификацгш основных методов и средств нормалиэапин ионного рехпгма 51 - Защита от статического электричества 52 - Вытяжные устройства 52 - Удюшемые газы дня выппкных вентиляционных систем 53 - Классы чистоты 372- Параметры среды для различного уровня интеграции микросхем 373 - Сравнительные характеристики режимов течения воздуха 374, 375 - Основные типы 376 - Схемы 377, 378- Методы снижения затрат 378, 379 — Назначение 379 - Контролируемые характеристики технслогкческой экологии 379 - Панели 381- 383 - Материалы 381 - Оборудование 381 - 386 - Системы доводки 387 - Датчики температуры н втокности 388 — Формирование вощушного потока 338, 389 - Внброизоляция 339 - Экранироваиие от злектромынитных полей 389- Контрольные испытания 390 - Подготовка и контроль чистых технологических газов 390- 395 - Очнспса труб 395 - Получение чистой воды 395 - 398 ПРЕДМЕТНЫЙ УКАЗАТЕДЬ 739 Чугуны 345 Э Эйаштейпа заков фотохимической акаааалевтаоств 72 Экологювмкая безовасвосгь а полущюаодвакоаом производстве 53 - 57 Элватроааауузеые приборы (ЭВЩ - типовой технологический маршрут изготовления 603, 604 - Виды и причины загрязнений поверхностей 629, 630 - Очиспга металлических деталей - см.
Очистка металлических деталей ЭВП - Требования к остаточному давлению 682 - Контроль и иопытания 706, 707 Электролюмавтщевтвые всточавка света 595, 596 Элекцюлюмввесцмпиые ковдюкатоуы 595 Злеатралюмивесцевтвме товкопаевочвые стРУкгУуы 596, 597 Электуогшвгавесаеагюя 594 Электроаава - Этапы развития 16, 17 Электролиза литография 70 - 73 Злектроввая техвива - Этапы развития 16 Элеатроввое мювавостроевве - Понятие 13 - Этапы автоматизации 425 — 430 - Взаимосвязь этапов развипуя технологий н систем автоматического упразления технологическим оборудованием 431, 432 Элекцювио-лучевая обуабипга - Преимущества 27 - Особенности 57, 58 - Назначение 57, 58 - Физические яююния 58 - 62- Диффузионная модель рассеянна и поглощенна элекгроноа 62 - Схема раочета попющенной энергии в мнопклойном объекте 63- Определение тсмперззурного поля в обрабатываемом изделии 63, 64 - Методы - см. под их названиями: Электронная литография; Электронно-луч гнал нлавка; Электронно-лучевой трюмав; Онснггг и закалка; Электронно-лучевое иснарвнив; Электронно-лучвван термическая размврнал обработка; Элвнтроюю-лучевое хнмичвпсая обработка; Электронно-лучевое испарение - Оборудование - см.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
