Диссертация (1024900), страница 15
Текст из файла (страница 15)
1988. V. 20, № 3. P. 87-94.26. Кристя В.И. Моделирование динамики перехода тлеющего разряда вдуговой, обусловленного нагревом катода ионной бомбардировкой // ИзвестияРАН. Серия физическая. 2008. Т. 72, № 7. С. 1021-1023.10927. Ion-induced electron emission from clean metals / R.A. Baragiola [et al.]// Surf. Sci. 1979. V. 90, № 2. P.
240-255.28. Bogaerts A., Gijbels R. The ion- and atom-induced secondary electron emission yield: numerical study for the effect of clean and dirty cathode surfaces// Plasma Sources Sci. Technol. 2001. V. 11, № 1. P. 27-36.29. Phelps A.V., Petrovic Z.Lj.
Cold-cathode discharges and breakdown in argon: surface and gas phase production of secondary electrons // Plasma Sources Sci.Technol. 1992. V. 8, № 3. P. R21-44.30. Molnar J.P. Studies of processes of electron emission employing pulsedTownsend discharges on a millisecond time scale // Phys. Rev. 1951. V.
83, № 5.P. 940-952.31. Bogaerts A., Gijbels R. Modeling of metastable argon atoms in a directcurrent glow discharge // Phys. Rev. A. 1995. V. 52, № 5. P. 3743-3751.32. Riedel M., Dusterhoft H., Nagel F. Investigation of tungsten cathodes activated with Ba2CaWO6 // Vacuum. 2001. V. 61, № 2-4. P. 169-173.33. Electrode material transport and re-deposition in high-intensity arc dischargelamps / G. G.
Bondarenko [et al.] // Vacuum. 2004. V. 73, № 2. P. 155-159.34. Бондаренко Г.Г., Коржавый А. П. Влияние оксидирования поверхностина структуру и свойства металлических холодных катодов // Изв. вузов. Физика. 2007. № 2. С. 27-34.35. Добрецов Л.Н., Гомоюнова М.В. Эмиссионная электоника. М.: Наука,1966. 564 с.36. Moon K.A., Lee J., Whang K.W.
Electron ejection from MgO thin films bylow energy noble gas ions: Energy dependence and initial instability of the secondaryelectron emission coefficient // J. Appl. Phys. 1999. V. 86, № 7. P. 4049-4051.37. Influence of different cathode surfaces on the breakdown time delay in neonDC glow discharge / S. M. Stamenkovic [et al.] // Vacuum. 2013. V. 89, № 1.P. 62-66.38. Latham R.V. The origin of prebreakdown electron emission from vacuuminsulated high voltage electrodes // Vacuum.
1982. V. 32. № 3. P. 137-140.11039. Physical properties of thin-film field emission cathodes with molybdenumcones / C.A. Spindt [et al.] // J. Appl. Phys. 1976. V. 47, № 12. P. 5248-5263.40. Forbes R.G. Field emission: New theory for the derivation of emission areafrom a Fowler-Nordheim plot // J. Vac. Sci. Technol. B. 1999. V. 17, № 2.P. 526-533.41.
Механизмы проводимости оксидного покрытия холодных катодов газоразрядных приборов / О.Н. Крютченко [и др.] // Поверхность. Физика, химия,механика 1994. № 6. С. 93-99.42. Abril I., Gras-Marti A., Valles-Abarca J. A. Energy distributions of particlesstriking the cathode in a glow discharge // Phys. Rev. A. 1983. V. 28, № 6.P. 3677-3678.43. Кристя В.И. Расчет энергетического спектра ионов тяжелой компоненты и коэффициента распыления катода в тлеющем разряде в смеси газов// ЖТФ.
1996. Т. 66, № 6. С. 8-14.44. Davis W.D., Vanderslice T.A. Ion energies at the cathode of a glowdischarge // Phys. Rev. 1963. V. 131, № 1. P. 219-228.45. Кучинский В.В., Сухомлинов В.С., Шейкин Е.Г. Расчет энергетического спектра потока ионов в темном катодном пространстве тлеющего разряда// ЖТФ.
1985. Т. 55, № 1. С. 67-72.46. Mason R.S., Allott R.M. The theory of cathodic bombardment in a glow discharge by fast neutrals // J. Phys. D: Appl. Phys. 1994. V. 27, № 11. P. 2372-2378.47. Wang D. A theoretical model for neutral velocity distributions at a planartarget in plasma source ion implantation // J. Appl. Phys. 1999. V. 85, № 8.P. 3949-3951.48.
Mukherjee S. Neutral velocity distribution at a negatively biased electrode ina collisional ion sheath // Phys. Plasmas. 2001. V. 8, № 1. P. 364-367.49. Кучинский В.В., Шейкин Е.Г. Энергетический спектр быстрых атомовв темном катодном пространстве // Изв. вузов. Физика. 1987. № 8. С. 62-67.50. Ito T., Cappelli M. A. On the production of energetic neutrals in the cathodesheath of direct-current discharges // Appl. Phys.
Lett. 2007. V. 90, № 10. 101503.11151. Ito T., Cappelli M. A. Energetic neutrals in the cathode sheath of argon direct-current discharges // J. Appl. Phys. 2009. V. 106, № 2. 023305.52. Аитов Р.Д., Бондаренко Г.Г., Кристя В.И. Энергетическая сепарацияионов у текстурированной поверхностимишенив тлеющем разряде// Поверхность. 1997. № 1. С.
11-14.53. Woodworth J.R., Aragon B.P., Hamilton T.W. Effect of bumps on the waferon ion distribution functions in high-density argon and argon-chlorine discharges //Appl. Phys. Lett. 1997. V. 70, № 15. P. 1947-1949.54. Kim D., Economou D. J. Simulation of plasma molding over a ring on a flatsurface // J. Appl.
Phys. 2003. V. 94, № 6. P. 3740-3747.55. Experimental and theoretical study of ion distributions near 300 µm tallsteps on rf-biased wafers in high density plasmas / J.R. Woodworth [et al.] // J. Vac.Sci. Technol. A. 2003. V. 21, № 1. P. 147-155.56. Kim C.K., Economou D.J. Plasma molding over surface topography: Energyand angular distribution of ions extracted out of large holes // J. Appl. Phys. 2002.V. 91, № 5.
P. 2594-2603.57. Plasma molding over surface topography: Simulation and measurement ofion fluxes, energies and angular distributions over trenches in RF high density plasmas / D. Kim [et al.] // IEEE Trans. Plasma Sci. 2003. V.
31, № 4. P. 691-702.58. Kim D., Economou D. J. Plasma molding over deep trenches and the resulting ion and energetic neutral distributions // J. Vac. Sci. Technol. B. 2003.V. 21, № 4. P. 1248-1253.59. Аитов Р.Д., Коржавый А.П., Кристя В.И. Влияние неравномерноститолщины диэлектрической пленки вдоль поверхности холодного катода на характеристики ионного потока в катодном слое тлеющего разряда // Радиотехника и электроника. 1991.
Т. 36, № 3. С. 559-563.60. Kristya V.I. Interaction of glow discharge plasma with the inhomogeneouscathode surface // Glow discharges and tokamaks / Ed. S. A. Murphy. New York:Nova Science. 2010. P. 329-368.11261. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. 1. / Под ред.Р. Бериша. М.: Мир, 1984. 336 с.62. Плешивцев Н.В., Бажин А.И.
Физика воздействия ионных пучков наматериалы. М.: Вузовская книга, 1998. 392 с.63. Matsunami N., Yamamura Y., Itikawa Y. Energy dependence of the ioninduced sputtering yields of monoatomic solids // Atomic Data and Nucl. Data Tables. 1984. V. 31, № 1. P. 1-80.64. Bohdansky J., Roth J., Bay H. L. An analytical formula and important parameters for low-energy ion sputtering // J. Appl. Phys. 1980. V. 51, № 5.
P. 28612865.65. Measurement of magnesium oxide sputtering yields by He and Ar ions witha low-energy mass-selected ion beam system / K. Hine [et al.] // Jpn. J. Appl. Phys.2007. V. 46, № 46. P. L1132-L1134.66. Experimental evaluation of CaO, SrO and BaO sputtering yields by Ne+ orXe+ ions / S. Yoshimura [et al.] // J. Phys. D: Appl. Phys. 2011. V. 44, № 25.255203.67. Sputtering yields of CaO, SrO and BaO by monochromatic noble gas ionbombardment / S. Yoshimura [et al.] // Jpn.
J. Appl. Phys. 2012. V. 51, № 8.08HB02.68. Abril I., Gras-Marti A., Valles-Abarca J. A. The contribution of fast neutralsto cathode erosion in glow discharges // J. Phys. D: Appl. Phys. 1984. V. 17, № 9.P. 1841-1849.69. Capdeville H., Pedoussat C., Pitchford L. C. Ion and neutral energy flux distributions to the cathode in glow discharges in Ar/Ne and Xe/Ne mixtures // J. Appl.Phys. 2002. V. 91, № 3. P. 1026-1030.70. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. 2. / Под ред.Р.
Бериша. М.: Мир, 1984. 336 с.71. Materials surface modification by plasma bombardment under simultaneouserosion and redeposition conditions / Y. Hirooka [et al.] // Nucl. Instr. Meth. B. 1987.V. 23, № 4. P. 458-470.11372. Mishra K.C., Garner R., Schmidt P.C.
Model of work function of tungstencathodes with barium oxide coating // J. Appl. Phys. 2004. V. 95, № 6.P. 3069-3074.73. Investigation of electron emission properties of Ba-activated tungsten cathodes / I. Beck [et al.] // J. Phys. D: Appl. Phys. 2005. V. 38, № 21. P. 3865-3869.74. Rumbach P., Go D.B. Fundamental properties of field emission-driven directcurrent microdischarges // J. Appl.
Phys. 2012. V. 112, № 10. 103302.75. Venkattraman A., Alexeenko A.A. Scaling law for direct current field emission-driven microscale gas breakdown // Phys. Plasmas. 2012. V. 19, № 12. 123515.76. The role of the field emission effect in direct-current argon discharges forthe gaps ranging from 1 to 100 µm / M. Radmilović-Radjenović [et al.] // J.
Phys. D:Appl. Phys. 2013. V. 46, № 1. 015302.77. Tirumala R., Go D.B. An analytical formulation for the modified Paschen’scurve // Appl. Phys. Lett. 2013. V. 97, № 15. 151502.78. Korgiaviy A.P., Kristya V.I. On the calculation of cold cathodes lifetimesfor helium‐neon lasers // J. Appl. Phys. 1991. V. 70, № 9. P. 5117-5118.79. Hagelaar G.J.M., Kroesen G.M.W. Energy distribution of ions and fast neutrals in microdischarges for display technology // J.
Appl. Phys. 2000. V. 88,№ 5. P. 2240-2245.80. Yoon S.J., Lee I. Theory of the lifetime of the MgO protecting layer in acplasma display panels // J. Appl. Phys. 2002. V. 91, № 4. P. 2487-2492.81. Елинсон М.И., Васильев Г.Ф. Автоэлектронная эмиссия. М.: ГИФМЛ,1958. 272 с.82. Kanter H., Feibelman W.A.
Electron emission from thin Al‐Al2O3‐Au structures // J. Appl. Phys. 1962. V. 33, № 12. P.3580-3587.83. Savoye E.D., Anderson D.E. Injection and emission of hot electrons in thinfilm tunnel emitters // J. Appl. Phys. 1967. V. 38, № 8. P. 3245-3265.84. Зыкова Е.В., Кучеренко Е.Т., Айвазов В.Я. Исследование тлеющегоразряда с холодным катодом, покрытым диэлектрическими пленками // Радиотехника и электроника. 1979. Т. 24, № 7. С. 1464-1466.11485. Коржавый А.П., Кристя В.И. О распределении потенциала в катодномслое тлеющего разряда // ЖТФ.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
