Курсовая работа: Вакуумная система установки обработки катодов импульсной плазмой
Описание
Содержание
3.3. Выбор сервисных процессов. 6
4. Комплексная принципиальная схема. 7
5. Технические параметры управляемых элементов. 9
6. Технические параметры датчиков. 13
6.1. Вакуумметр термопарный. 13
6.1. Вакуумметр ионизационный. 13
8. Цифроаналоговый преобразователь AD7233. 17
9. Операционный усилитель КР140УД18. 19
10. 8-разрядный флэш-микроконтроллер с полноскоростным USB-портом AT89C5131. 20
13. Расчет параметров ОУ и оптопары.. 25
15. Список использованных источников. 27
В данном курсовом проекте рассмотрена система автоматизированного управления вакуумной системой откачки рабочей камеры установки для обработки катодов импульсной плазмой (ОКИП).
Рассмотрены узлы САУ, отвечающие за управление внешними устройствами, и проведено проектирование принципиальной электрической схемы.
Графическую часть проекта составляют 4 листа, выполненных в среде Компас-3D V9.
Расчетно – пояснительная записка составляет 36 листов, выполненных в среде Microsoft Word 2007.
Графическая часть курсового проекта содержит:
- Комплексную принципиальную схему установки.
- Процессную модель установки. Блок схему алгоритмов работы.
- Таблицы сигналов, элементов и процессов.
- Электрическую принципиальную схему.
Импульсное воздействие разряда в вакууме или какой-либо среде предоставляет совершенно новые возможности модификации поверхностных слоев материалов. Именно импульсное воздействие позволяет изменить поверхность, не затрагивая объем материала. Для обработки поверхностей МП катодов лучше всего может подойти именно такой тип импульсной обработки, так как разряд протекает в вакууме и дает возможность контролировать примеси, которые перераспределятся в поверхностном слое. Кроме того, импульсный разряд в вакууме позволяет формировать поверхностный слой из материала катода. На рис. 1 представлена экспериментальная установка для обработки катодов импульсной плазмой (ОКИП).
Рис.1. Установка для обработки катодов импульсной плазмой (ОКИП).
3. Процессная модель
Табл.1. Таблица процессов
№ | Наименование процесса | Обозначение процесса | Критерий начала | Режим | Критерий окончания | Ресурсы |
1 | Включение установки | Start | | Ручной | | Оператор |
2 | Закрытие клапана VE3 | Op_VE3 | Установка включена | Автомат. | Клапан VE3 закрыт | БУ |
| Включение форвакуумного насоса NI | U_NI | Клапан VE3 закрыт | Автомат. | Насос NI включен | БУ |
| Открытие клапана VE4 | Op_VE4 | PPT2<1 Па | Автомат. | Клапан VE4 открыт | БУ |
| Включение диффузионного насоса ND | U_ND | Клапан VE4 открыт | Автомат. | Насос ND включен | БУ |
| Закрытие клапана VE2 | Op_VE2 | t=40 мин | Автомат. | Клапан VE2 закрыт | БУ |
| Открытие клапана VE1 | Op_VE1 | Клапан VE2 закрыт | Автомат. | Клапан VE1 открыт | БУ |
| Закрытие клапана VE1 | Op_VE1 | PPT1<1 Па | Автомат. | Клапан VE1 закрыт | БУ |
| Открытие клапана VE2 | Op_VE2 | Клапан VE1 закрыт | Автомат. | Клапан VE2 открыт | БУ |
| Открытие затвора VT | Op_VT | t=3 мин | Автомат. | Затвор VT открыт | БУ |
| Закрытие затвора VT | Op_VT | PPA<10-2 Па | Автомат. | Затвор VT закрыт | БУ |
| Открытие натекателя VF | Op_VF | Затвор VT закрыт | Автомат. | P>10 Па | БУ |
| Закрытие натекателя VF | Op_VF | P>10 Па | Автомат. | Натекатель VF закрыт | БУ |
| Выключения диффузионного насоса ND | U_ND | Натекатель VF закрыт | Автомат. | Насос ND выключен | БУ |
| Закрытие клапана VE4 | Op_VE4 | Насос ND выключен | Автомат. | Клапан VE4 закрыт | БУ |
| Выключения форвакуумного насоса NI | U_NI | Клапан VE4 закрыт | Автомат. | Насос NI выключен | БУ |
| Открытие клапана VE3 | Op_VE3 | Насос NI выключен | Автомат. | Клапан VE3 открыт | БУ |
Характеристики курсовой работы
Список файлов
- Вакуумная система установки обработки катодов импульсной плазмой
- Лист (1).cdw 125,87 Kb
- Лист (2).cdw 133,89 Kb
- Лист (3).cdw 142,28 Kb
- Лист (4).cdw 66,18 Kb
- Презентация.ppt 1,83 Mb
- Прочти меня.txt 141 b
- САУ.doc 2,61 Mb
- Спецификация.SPW 44,61 Kb
Начать зарабатывать
zzyxel
