ОРГАНИЗАЦИЯ КОНТРОЛЯ И МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ОСТРОВКОВЫХ ТОНКИХ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ МЕТОДОМ ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ

Назначение процесса

Последовательность образования пленки укрупненно состоит из этапов зародышеобразования, образования островков, каналов, сплошной пленки. Для современных областей науки (микро- и наноэлектроника) и техники большой интерес вызывают островковые тонкие пленки (ОТП), представляющие собой пленки, формирование которых завершили на стадии образования островков. Для исследования режимов формирования островковых тонкопленочных наноструктур была выбрана серия образцов из ситалла с нанесенными тонкими пленками из меди. Осаждение меди проводили методом термического испарения.

Используемое оборудование

Эксперименты проводились в рамках НИР в лаборатории кафедры «Электронные технологии в машиностроении». Процесс нанесения покрытия был реализован на установке термического испарения.

Сущность процесса

Формирование тонкопленочных покрытий методом термического испарения осуществляется при сообщении материалу вещества энергии, которая затрачивается на его нагрев. С увеличением температуры колебательная энергия частиц возрастает и становится больше энергии связи с другими частицами, в результате чего происходит их испускание (испарение) и дальнейшая конденсация на поверхности изделия.

В нашем эксперименте используем резистивное испарение. Материал помещается в испарителе (проводнике с высоким электрическим сопротивлением). При протекании через испаритель электрического тока происходит его нагрев и передача тепла испаряемому материалу.