ДЗ: Моделирование технологического процесса нанесения тонких плёнок

Цели эксперимента:

• Доказать линейную зависимость толщины плёнки от времени нанесения (времени работы магнетрона).
• Определить скорость нанесения медной плёнки на ситалловую подложку (в нм/с).

Установка эксперимента:
Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических нанослоёв "МАГНА ТМ-200-01".

Назначение:
Нанесение нескольких или многокомпонентных металлических и диэлектрических слоёв, в том числе для формирования наноструктурированных каталитических слоёв (Fe, Ni, Co и других).

Сравнительный анализ входных и выходных параметров

Входные контролируемые и управляемые факторы:

• мощность магнетрона (варьируемый);
• содержание примесей в магнетроне (варьируемый);
• время напыления (стабилизируемый);
• шероховатость подложки (стабилизируемый);
• вакуум (стабилизируемый);
• диаметр подложки (стабилизируемый);
• количество распыляемого материала (стабилизируемый).

Входные контролируемые, но неуправляемые факторы:

• температура подложки;
• температура магнетрона.

Входные неконтролируемые и неуправляемые факторы:

• выход из строя оборудования.

---

Выбор выходного параметра

• Толщина слоя меди.

Наиболее существенные входные факторы

• Мощность магнетрона.
• Время процесса (напыления).