Курсовая работа: Установка вакуумного нанесения тонких пленок
Описание

Аннотация…………………………………………………………………………2
1.Введение. Описание интерфейсов установки……………………………..…..3
2.Описание комплексной принципиальной схемы………………………..……5
3.Описание процессной модели…………………….……………………………6
4.Описание программы управления установкой………………………………..9
5.ТЗ и ТП на САУ установкой…………………………………………………10
6.Документы сопровождающие комплексную принципиальную схему…….13
7.Информационный поиск элементов САУ……………………………………18
8. Расчет и описание принципиальной электрической схемы…………….….38
9.Заключение……………………………………………………………….....…39
10.Список литературы…………………………………………………….…….40
Аннотация
Курсовой проект содержит 5 графических листов, выполненных в пакете АСКОН КОМПАС V12. Расчетно-пояснительная записка выполнена в Microsoft Word 2010, содержит 40 листов. В проекте разработана система автоматического управления установкой нанесения тонких пленок металла.
1-ый лист (САУ К6-1-1.00.00.000 ПМ) содержит процессную модель работы САУ. На нем же содержатся 4 алгоритма работы отдельных процессов. Алгоритмы максимально облегчены для более понятного чтения, в РПЗ содержится подробное описание работы САУ.
2-ой и 3-ий листы (САУ К6-1-1.00.00.000 ФС) содержат комбинированную функциональную схему установки с указанием всех энергетических и управляющих сигналов, а также схема блочного соединения САУ.
На 4-ом листе (САУ К6-1-1.00.00.000 Э3) представлена принципиальная электрическая схема соединений САУ.
На 5-ом дополнительном листе представлен предполагаемый экран оператора с перечнем отображаемой информации на нем.
1.Введение. Описание интерфейсов установки
Основной целью курсового проектирования является закрепление знаний, полученных при изучении дисциплины САУ, применение их на практике в процессе разработки документации на САУ установки нанесения тонких пленок металла. Данная установка является установкой лабораторного типа на основе напылительной системы фирмы Balzers. Поставлена задача разработки максимально эффективной САУ с учетом особенностей установки и протекающих процессов.
Общий вид установки представлен ниже:
Рис.1 Общий вид установки
Основными элементами являются:
- Вакуумная система (диффузионный и механический насосы, система клапанов, вакуумные датчики)
- Камера (нержавеющая сталь, цилиндр: ø330 мм, высота 420 мм)
- Газовая система (2 баллона с азотом и кислородом, система клапанов)
- Система приводов (на образец, на заслонки)
Технические требования:
1.Напряжение питания 3 50 Гц, 380 В/ 220 В
2.Давление охлаждающей воды 1,5 атм, расход не менее 0,5 м /ч, температура от 5 до 20 С
3.Сопротивление системы заземления не более 4 Ом
Технические характеристики:
1. Предельное давление в камере - 10 Торр
2. Время достижения в камере давления 10 Торр без прогрева
рабочего объема камеры - порядка 30 мин
3. Ток разряда каждого магнетрона - 0,6..2,2 А
4. Подача рабочих газов (аргон, кислород) с точностью поддержания
заданного расхода - не более 1%
5 Внутренний диаметр камеры - 450 мм
6. Расстояние от оси вращения вакуумного ввода до каждого
из магнетронов и АИИ - 180 мм
Напыляемые образцы крепятся на оснастку внутри камеры, перемещения образцов осуществляется над магнетроном, процесс напыления прекращаетсяХарактеристики курсовой работы
Список файлов

Начать зарабатывать