Cryofox600LT-RUS (Раздаточные материалы)
Описание файла
Файл "Cryofox600LT-RUS" внутри архива находится в следующих папках: Раздаточные материалы, Вакуумные покрытия и оборудование. PDF-файл из архива "Раздаточные материалы", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "физико-химические основы нанотехнологий (фхонт)" из 4 семестр, которые можно найти в файловом архиве МГТУ им. Н.Э.Баумана. Не смотря на прямую связь этого архива с МГТУ им. Н.Э.Баумана, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "остальное", в предмете "физико-химические основы микро- и нанотехнологий" в общих файлах.
Просмотр PDF-файла онлайн
Текст из PDF
СгуоКо Ехр!огег 600 ЕТ идеально подходит для «Ит ОТЕ» технологии. В процессах кОЙ ОТ1» технологии важно очень равномерное осаждение материала. Благодаря большому расстоянию между подложкой и источником в Ехр~огег 600 ЕТ обеспечивается высокая равномерность осаждаемого слоя. Ехр!огег 600 ЕТ вЂ” это очень универсальная установка, специально разработанная для производства и исследований. Установка основана на технологии электроннолучевого испарения.
Благодаря компактным размерам установка легко транспортируется и ее можно разместить в условиях действующих лабораторий и производств. Требуется дверной проем шириной всего 850 мм и высотой 1900 мм. Все установки Егуо1ох разработаны с учетом возможности установки в чистых комнатах. Все установки Ступах рассчитываются проектируются и производятся на за во де Ро~утеЕпйА5 (Дания).
СВУОГОН ЕНРЕОВЕВ 600 ЕТ "='"'=:::--"-;:."::;-"'.';'.-:'.",:::;-::;:::;,:::-";;:;::=::.,::::--:::,::::::-''"::-;:-":,':.-''-.-.:,:-:".::::-=-:-,::::::::.:::: КОМПАКТНАЯ ""' ... ""'::::-:::..:::-:-'..-:::::::-':- ВЫСОКОВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА для асдждения тонким пленок ,='-;.а1-'тзату)~.,-;.
и Чиллер (опционально) и Водяное охлаждение '-~'- Ра~ с; гч Ю 624 816 а Расстояние между источником и подложкодержателем около 750 мм и Камера из высококачественной нержавеющей стали (электрохимическая полировка опционально) Максимальный размер подложки 200 мм а Электронно-лучевой источник (одно- или многотиглевый) и Один или несколько резистивных испарителей (опционально) и Плазменная очистка(травление) в шлюзовой камере ж Ионноеассистирование(опционально) а Пластинчато-роторный или спиральный форвакуумный насос и Турбомолекулярный или криогенный высоковакуумный насос Один или несколько цифровых регуляторов потока газов РО~ УТЕКЙИК вЂ” + НООЗЕ ОЕ СОАТ)йО ТЕСНМО) ООтзг РоьутБКМКЛ5 ( Моеиеяа4е 21 ) 0К-9750 Оезтегзгаа Рпопе:+45 9689 2800 ) Еах: е45 9689 2801 ) Е-маж за!евро!утехой.ак и Охлаждение/нагревподложки(опционально) а Габаритные размеры в Вакуумныйблок:1047х816х1848мм и Блокуправления:1044х624х1848мм а Полностью автоматический контроль технологического процесса для идеального резуль- тата М Полностью автоматическое или ручное управление системой а Очень удобная операторская панель с продуманным меню а Возможность полного удаленно управления через)птегпет(опция) 'а Система протоколирования(опция) и Кварцевый измеритель толщины пленки, интегрированный в систему управления уста- новкой и Квадрупольный масс-спектрометр(опция) .