Нанотехнологии (Статья)

АНО «Аналитика и высокие технологии»СодержаниеВведение ............................................................................................................................... 2Технологическое оборудование для нанотехнологий ...................................................... 3«Наномагна» вакуумная установка магнетронного напыления............................... 3«Наноалмаз» вакуумная установка плазмохимического осаждения.......................

5«Наноплазма» вакуумная установка ионно-плазменного травления ...................... 6«Отжиг» электропечь для обработки в водороде...................................................... 8Растровые электронные микроскопы ................................................................................. 9JEOL JSM–7700F.......................................................................................................... 9JEOL JSM–7401F.......................................................................................................... 9JEOL JSM–7000F........................................................................................................ 10JEOL JSM–6700F........................................................................................................

10Серия JEOL JSM–6490/JSM–6490LV ....................................................................... 12Серия JEOL JSM–6390/JSM–6390LV ....................................................................... 13Сканирующие зондовые микроскопы .............................................................................. 15Серия JEOL JSPM–5200 ............................................................................................ 15JEOL JSPM–4610........................................................................................................ 15JSPM–4500 .................................................................................................................. 16Нанотехнологический комплекс «Умка».................................................................

18Вспомогательное оборудование ....................................................................................... 21Тестовые ячейки для калибровки сканирующего туннельного микроскопа........ 21Установка для заточки зондов туннельных микроскопов...................................... 21Фотометрический спектроэллипсометр........................................................................... 24ВведениеНанотехнологииявляютсябыстроразвивающимсянаправлениемпромышленности и науки с выходом в самые разнообразные области, например,доставка лекарств в поражённый орган, создание высокоэффективных твёрдотельныхлазеров, производство сверхбыстродействующих компьютеров на принципиальноновой элементной базе, получение материалов с уникальными, не имеющими аналоговсвойствами.

Для осуществления таких нанотехнологических проектов необходимо, вопозволяющеепервых,соответствующеетехнологическоеоборудование,воспроизводимо создавать объекты с характерными размерами менее 100 нм, вовторых, измерительные приборы, позволяющие проводить эффективный контроль,осуществляемыйнеразрушающимиметодами,инаучныеисследования,предоставляющие достоверную информацию о структуре наноформирований иструктурированности квизиоднородных областей, и, в-третьих, системы дляреализации технологических требований по чистоте воздуха в рабочих помещениях итехнической воды.Автономная некоммерческая организация «Аналитика и Высокие Технологии»(АНО АВТех, ANO AWTech) поставляет и технологические установки, применяемыев наноразмерной электронике, включая квантовую, и аппаратуру, позволяющуюосуществлять неразрушающий контроль, и приборы для проведения научныхисследований, и системы очистки воздуха и воды до требуемых кондиций.

Мыпредлагаем комплексные инжиниринговые решения по подбору оборудования иобустройству технологических помещений.Последнее выходит за рамки этой брошюры. Коротко, предлагаютсяоборудование для создания чистых помещений и чистых зон, боксы и ламинарныестанции, предназначенные для электронного и другого нанопроизводства, установкиводоподготовки, станции для производства жидкого азота.Для получения дополнительной информации обращаться на сайт АНО АВТехwww.awt.ru, по электронной почте info@awt.ru, info@awtec.ru, или по телефонам+7(495)937–34–41, +7(495)937–34–18.–2–Оборудование для нанотехнологийТехнологическое оборудование для нанотехнологий«Наномагна»вакуумная установка магнетронного напыленияНазначение и применение:Нанесение металлических (магнитных инемагнитных) пленок для формированиякаталитических слоев наноструктур (Fe, Ni,Co и др.)Оснащение:● Рабочаякамерасмагнетроннымраспылительнымустройствомдляосаждения пленок на подложки диаметромдо 150 мм.● Шлюзовая система поштучной загрузкивыгрузки подложек.● Планарное магнетронное распылительное устройство (МРУ) с источником питанияна постоянном токе или ВЧ–питания с дисковой мишенью 280 мм илимультикатодное МРУ стремя мишенями диаметром 100 мм для нанесениямногослойных или многокомпонентных пленок заданного состава.● Безмаслянная система откачки.● Микропроцессорная системауправления.● Встраиваетсяв«чистую»комнату.Технологическиехарактеристики:● Скорость нанесения:– металлических пленок – до0,5 мкм/мин– диэлектрических пленок –до 0,2 мкм/мин● Неравномерность пленок потолщине ±1,5%–3–АНО «Аналитика и высокие технологии»Планарный магнетрон:Назначение и применение:● Предназначенодлянанесенияпленокнаполупроводниковые пластины методом магнетронногораспыления дисковой мишени из вращающейсяразрядной зоны.Особенности:● Катод с дисковой мишенью.● Комбинированный магнитный блок с электроприводомвращения центральной секции.● Нанесение пленок проводящих материалов в режиме постоянного тока и пленокдиэлектрических материалов в ВЧ–режиме.Мультикатодный магнетрон:Назначение и применение:● Предназначенодлянанесенияпленокнаполупроводниковые пластины методом магнетронногораспыления вращающихся мишеней.Особенности:● Три автономных магнетронных узла с дисковымимишенями малого диаметра.● Вращение магнетронных узлов относительно центральной оси.● Нанесение многокомпонентных пленок заданного состава, достигаемогорегулированием мощности магнетронных узлов; нанесение пленок проводящихматериалов, включая тугоплавкие и драгоценные металлы; нанесение пленок,обладающих свойствами высокотемпературной сверхпроводимости.–4–Оборудование для нанотехнологий«Наноалмаз»вакуумная установка плазмохимического осажденияАНО «Аналитика и высокие технологии»Микрофотография нанотрубокНазначение и применение:Осаждение материалов в вакуумномреакторе из газовой фазы с плазменнойактивацией (PECVD) для формированияпленочных структур и нанотрубок.Оснащение:● Рабочая камера с реактором ВЧ и/или СВЧплазмы (ICP и ECR) для осаждения пленокна подложки диаметром до 150 мм.● Шлюзовая система поштучной загрузкивыгрузки подложек.● Рабочий стол с нагревателем до 1000°C иподачейнапряжениясмещениянаподложку.● Многоканальная (2-6 каналов)газовая система.● Безмаслянная система откачки.● Микропроцессорнаясистемауправления.● Встраиваетсяв«чистую»комнату.Технологическиехарактеристики:● Неравномерностьосажденияпленок ±4%.● Осаждение пленок SiO2, Si3N4,Si*,SiC,алмазоподобныхпленок,углеродныхнанотрубок и др.–5–«Наноплазма»вакуумная установка ионно-плазменного травленияНазначение и применение:Реактивно-ионное травление проводящихидиэлектрическихматериаловдляформированиянаноструктуримикроэлектронных механических систем(МЭМС).Оснащение:● Рабочая камера с ВЧ–реактором реактивноионного травления подложек диаметром до150 мм.● Шлюзовая система поштучной загрузкивыгрузки подложек.● Химически стойкие средства откачки и измерения вакуума: турбомолекулярный ифорвакуумные насосы, вакуумметры, баротроны.● Гелиевое охлаждение подложек на рабочем столе.● Многоканальная (2–6) газовая система.● Микропроцессорная система управления.● Встраивается в «чистую» комнату.–6–Оборудование для нанотехнологийТехнологическиехарактеристики:● Неравномерностьтравления±2%● Скоростьанизотропноготравления Si – (1÷3) мкм/мин.● Скоростьанизотропноготравления SiO2, кварца, стекла«пирекс» – (0,5÷1) мкм/мин.● Аспектное соотношение – 1/10÷ 1/30.Острие кантиливераЩели кремнияСквозное травление кремнияКонтактные окна–7–АНО «Аналитика и высокие технологии»«Отжиг»электропечь для обработки в водородеНазначение и применение:Газотермическая обработка нанопорошков в средерабочего газа при нормальном (атмосферном)давлении.Оснащение:● Однореакторнаятрехсекционнаяэлектропечьгоризонтального типа● Двухканальная газовая система с электроннымирегуляторами расхода газа, регуляторами давления ифильтрами тонкой очистки.● Микропроцессорная система управления.● Встраивается в чистую комнату.Технические характеристики:● Режим работы● Внутренний диаметр реактора● Диапазон рабочих температур● Длина рабочей зоны с погрешностью распределениятемпературы не хуже (±2)°C● Нестабильность поддержания температуры по опорнойточке (среднеквадратичное отклонение) в рабочей тепловойзоне● Время разогрева до максимальной рабочей температуры– полуавтоматический– 80 мм– (300 ÷ 1000)°C– не менее 180 мм– не менее 1,5°C– не более 20 минОсобенности:● Управление скоростью разогрева и охлаждения реактора.● Свободное программирование параметров термообработки (с возможностью запретаперепрограммирования параметров)–8–Оборудование для нанотехнологийРастровые электронные микроскопыJEOL JSM–7700FНовыйРЭМJSM–7700Fсавтоэмиссионнымкатодом–единственныйкоммерческийРЭМ,электронная оптическая система которогообеспечиваеткоррекциюихроматической и сферической абберации.Кроме того, этот прибор имеетразрешение 0,6 нм на ускоряющемнапряжении 5 кВ, что открывает новыевозможности для исследования веществана наноуровне.

JSM–7700F специальнооптимизирован для работы на низкихускоряющих напряжениях, что особеннодляполупроводниковойактуальнопромышленности.● Ускоряющее напряжение: от 0,1 до 4,9 кВ (с шагом 10 В), от 5 до 30 кВ (с шагом100 В)JEOL JSM–7401FАНО «Аналитика и высокие технологии»JEOL JSM–7000FНовейший РЭМ JEOL JSM–7000F с автоэмиссионным катодомпозволяет получать изображения сочень высоким разрешением. Оноснащенмногоцелевойкамеройобразцов со шлюзом для быстройсмены образцов, автоматическиммоторизованнымстоликомифункциональнонаполненнымпрограммным обеспечением.