Сведения об оппоненте (Методы формирования объемных микроструктур устройств микроэлектроники и микросистемной техники космического назначения)
Описание файла
Файл "Сведения об оппоненте" внутри архива находится в папке "Методы формирования объемных микроструктур устройств микроэлектроники и микросистемной техники космического назначения". Документ из архива "Методы формирования объемных микроструктур устройств микроэлектроники и микросистемной техники космического назначения", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "технические науки" из Аспирантура и докторантура, которые можно найти в файловом архиве НИУ «МЭИ» . Не смотря на прямую связь этого архива с НИУ «МЭИ» , его также можно найти и в других разделах. , а ещё этот архив представляет собой кандидатскую диссертацию, поэтому ещё представлен в разделе всех диссертаций на соискание учёной степени кандидата технических наук.
Онлайн просмотр документа "Сведения об оппоненте"
Текст из документа "Сведения об оппоненте"
| Пункт | Сведения об официальном оппоненте |
| ФИО | Одиноков Вадим Васильевич |
| Ученая степень | Доктор технических наук, профессор |
| Наименование отрасли науки | Технических |
| Научная специальность | 05.13.07, 05.27.07 Автоматизированные комплексы микроэлектроники |
| Полное наименование организации | Открытое акционерное общество «Научно-исследовательский институт точного машиностроения» - ОАО НИИТМ |
| Место нахождения | РФ, г. Москва, Зеленоград, Панфиловский пр-т, д.10 |
| Почтовый адрес | РФ, 124460, г. Москва, Зеленоград, Панфиловский пр-т, д.10 |
| Телефон организации | (495) 229-75-01 |
| Адрес электронной почты; адрес официального сайта организации | vodinokov@niitm.ru |
| Должность | Заместитель генерального директора по науке |
| Список основных публикаций в реферируемых журналах (за последние 5 лет) | 1. Одиноков, В.В. Установка магнетронного распыления "Магна ТМ 7" в технологии создания тонкопленочных ГИС СВЧ [Текст] / Р. Каракулов, В. Одиноков, В. Панин, А. Шубников, Д. Владимиров, С. Владимиров, А. Голубцов; научно-технический журнал «Наноиндустрия», № 2 /72, 2017. – с. 80-86. 2. Одиноков, В.В. Установка с гибридным плазменным реактором [Текст] / А. Айрапетов, Е. Кралькина, П. Неклюдова, В. Одиноков, В. Павлов, Г. Павлов, В. Сологуб; научно-технический журнал «Наноиндустрия» № 8 /70, 2016. – с. 104-108. 3. Одиноков, В.В. Разработка оборудования и исследование технологии глубокого травления кремния [Текст] / В.В. Одиноков, О.П. Гущин, А.С. Валеев, А.А. Чамов, Н.Г. Мицын, В.М. Долгополов, В.Э. Немировский, П.А. Иракин; журнал «Электронная техника» серия Микроэлектроника, вып.3, 2015. – с. 50-54. 4. Одиноков, В.В. Исследование технологии глубокого реактивно-ионного травления на установке МВУ ТМ Плазма 06 [Текст] / О.П. Гущин, А.С. Валеев, А.А. Чамов, Н.Г. Мицын, В.М. Долгополов, В.В. Одиноков, В.Э. Немировский, П.А. Иракин; научно-технический журнал «Наноиндустрия», № 10 2015. – 10 стр. 5. Одиноков, В.В. Исследование влияния термостабилизации пластины на равномерность процессов глубокого травления кремния для модернизации установки «МВУ ТМ Плазма 06» [Текст] / Данила А.В., Долгополов В.М., Иракин П.А., Немировский В.Э., Одиноков В.В., Павлов Г.Я.; Электронная техника, серия 2: полупроводниковые приборы, 5(239), 2015. – с. 42-48. 6. Одиноков, В.В. Влияние внешних условий на физические процессы и параметры плазмы в макете ВЧ гибридной плазменной системы [Текст] / Александров А.Ф., Петров А.К., Вавилин К.В., Кралькина Е.А., Неклюдова П.А., Никонов А.М., Павлов В.Б., Айрапетов А.А., Одиноков В.В., Павлов Г.Я., Сологуб В.А.; Микроэлектроника – М.: ФГУП "Академический научно-издательский, производственно-полиграфический и книгораспространительский центр "Наука", № 6, 2016. – с. 471-479. |
