1_2_Основные этапы микролитографии (Лекции от Цветкова), страница 5
Описание файла
Файл "1_2_Основные этапы микролитографии" внутри архива находится в папке "Лекции от Цветкова". Документ из архива "Лекции от Цветкова", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "технология и оборудование микро и наноэлектроники" из 6 семестр, которые можно найти в файловом архиве МГТУ им. Н.Э.Баумана. Не смотря на прямую связь этого архива с МГТУ им. Н.Э.Баумана, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "лекции и семинары", в предмете "технология и оборудование микро и наноэлектроники" в общих файлах.
Онлайн просмотр документа "1_2_Основные этапы микролитографии"
Текст 5 страницы из документа "1_2_Основные этапы микролитографии"
2) Координатная измерительная система, контролирующая положение координатного стола с подложкой относительно проекционного объектива. Для этого производится преобразование механических перемещений стола в электрические сигналы, которые используются для управления приводом стола.
3) Система совмещения установки выполнена на базе фотоэлектрического микроскопа (ФЭМ), контролирующего положение знаков совмещения полупроводниковой подложки относительно оптической оси проекционного объектива.
4) Система автофокусировки. Необходимость применения такой системы и требования к ней определяются оптическими свойствами объективов. Связано это с тем, что глубина резкости высокоразрешающих проекционных объективов значительно меньше неплоскостности полупроводниковых подложек, особенно прошедших термическую обработку и на каждом шаге мультипликации необходимо производить точное размещение экспонируемой зоны подложки в пределах глубины резкости объектива.
Важнейшим элементом проекционной системы является объектив. Он должен сочетать высокую разрешающую способность и большое рабочее поле, иметь минимальные аберрации и обеспечивать по всему рабочему полю постоянный масштаб увеличения и разрешение. Создание объективов, удовлетворяющих этому комплексу требований, является технически сложной, дорогостоящей и трудоемкой задачей. Кроме того, высокоразрешающие объективы имеют весьма малую глубину резкости, лежащую в диапазоне 3...10 мкм, что соизмеримо с неплоскостностью подложек.
В связи с этим в установках с масштабом проецирования 1 : 1 применяют высокоразреша-ющие объективы с небольшим рабочим полем, в пределах которого погрешности репродуцирования минимальны. Экспонирование всей поверхности подложки в таких установках проводят методом мультиплицирования. Созданы также установки с масштабом изображения 1 : 1, в которых используется часть рабочего поля объектива, а полное изображение фотошаблона репродуцируется на подложку при их совместном сканировании относительно этой рабочей зоны объектива.
В установках с переносом на подложку уменьшенного изображения топологии шаблона (М 5:1, 10:1) применяется только метод шаговой мультипликации изображения.
Необходимость применения системы автофокусировки и требования к ней также определяются оптическими свойствами объективов. Глубина резкости высокоразрешающих проекционных объективов определяется длиной волны ультрафиолетового излучения и числовой апертурой объектива А:
Для типовых значений =0,436 мкм и А=0,25...0,28 глубина резкости составляет =2,8...3,5 мкм, а неплоскостность полупроводниковых подложек, особенно прошедших высокотемпературную обработку, значительно превышает эти значения. В связи с этим на каждом шаге мультипликации производится точное размещение экспонируемой зоны подложки в пределах глубины резкости объектива. Для этого обычно используется оптический датчик фокусировки.