Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Основы изобретательстваФотошаблон для фотолитографииФотошаблон для фотолитографии
2017-12-222017-12-22СтудИзба
ДЗ: Фотошаблон для фотолитографии
Описание
Фотошаблон для фотолитографии
Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем.
МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34
Формула изобретения
![]()
![]()
Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем.
МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34
Формула изобретения
Характеристики домашнего задания
Предмет
Учебное заведение
МГТУ им. Н.Э.БауманаПросмотров
136
Качество
Идеальное компьютерное
Размер
67,08 Kb
Список файлов
Фотошаблон для фотолитографии.docx
![Картинка-подпись](https://s.studizba.com/z.php?f=/uploads/fotos/podpt_2_43798.png&w=1632&h=400&t=1")
Зарабатывай на студизбе! Просто выкладывай то, что так и так делаешь для своей учёбы: ДЗ, шпаргалки, решённые задачи и всё, что тебе пригодилось.
Начать зарабатывать
Начать зарабатывать
zzyxel
22 декабря 2017 в 16:19
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
