Формирование углеродных пленок из газовой фазы (1105140), страница 5

Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла (страница 5)

Определены концентрации газовых компонент (метан иводород), оптимальные для получения углеродных пленок различного состава(алмаз, графит).3) Определены корреляции характеристик осаждаемых углеродных пленокс параметрами плазмохимического процесса и свойствами используемыхподложек.4) Предложен механизм безкаталитического формирования углеродныхнанотрубок и нанографитных пленок из газовой фазы. Получена оценкатолщины прианодного слоя в плазме у поверхности подложки. Показанавозможность влияния электрического поля на пространственную ориентациюнаноуглеродных структур.5)Впервыеметодомплазмохимическогоосажденияполученымонокристаллические пленки графита нанометровой толщины. Предложенмеханизмобразованиятакихпленок,включающийстадиюгетероэпитаксиального роста графита на никеле.6) Показано, что комбинационное рассеяние света в нанографитныхпленкахсоответствуетмеханизмудвойногорезонанса.Определеныхарактеристики комбинационного рассеяния света для графитных пленок сразличным уровнем структурного совершенства.24Список публикаций по результатам, представленным в настоящей работе1.A.N.

Obraztsov, A.A. Zolotukhin, A.O. Ustinov, A.P. Volkov, Yu. Svirko, K. Jefimovs //DC discharge plasma studies for nanostructured carbon CVD // Diamond and RelatedMaterials 12 (2003), 917-920.2.A.N. Obraztsov, A.A. Zolotukhin, A.O. Ustinov, A.P. Volkov, Yu.P. Svirko // Chemicalvapor deposition of carbon films: in-situ plasma diagnostics // Carbon 41 (2003), 836-839.3.Золотухин А.А., Образцов А.Н., Волков А.П., Устинов А.О. // Формированиенаноразмерных углеродных материалов в газоразрядной плазме // Письма в ЖТФ, 2003,том 29, вып.

9.4.A.N. Obraztsov, A.A. Zolotukhin, A.O. Ustinov, A.P. Volkov, Yu. Svirko, K. Jefimovs // Insitu plasma diagnostics for chemical vapor deposition of nanocarbon thin film materials //Microelectronic Engineering 69 (2003), 446-451.5.Золотухин А.А., Образцов А.Н., Волков А.П., Устинов А.О. // Образованиенаноуглеродных пленочных материалов в газоразрядной плазме // ЖЭТФ, Т. 124, No6,2003, стр. 1291-1297.6.A. Ustinov, A. Zolotukhin, A. Volkov, A.

Obraztsov // Nano-carbon thin film deposition inplasma activated by DC discharge // WDS’03 Proceedings of Contributed Papers, Part II,347-351, 2003.7.A.N. Obraztsov, A.A. Zolotukhin, A.O. Ustinov and A.P. Volkov // Plasma CVDcharacterization of nanocarbon film growth // Surface and Interface Analisys 36 (2004), 481484.8.А.В. Тюрнина, А.А. Золотухин, А.Н. Образцов // Влияние материала подложки наосаждение углеродных пленок из газовой фазы// Письма в ЖТФ, 2006, том 32, вып.17стр.1-5.9.Obraztsov A.N., Groening O., Zolotukhin A.A., Zakhidov Al.A., Volkov A.P., // of fieldemission properties with morphology and surface composition of CVD nanocarbon films//Diamond and Related Materials, vol.

15, 2006, pp.1044-1049.10.Ал. А. Захидов, О.А. Клименко, И.А. Попов, А.А. Золотухин, А.Н. Образцов //Влияние электрического поля на рост нано-углеродных структур из газовой фазы //Письма в ЖТФ, 2007, том 33, вып. 14. стр. 1-9.25.

Характеристики

Список файлов диссертации