Учебное пособие ФОЭП (1076389), страница 15
Текст из файла (страница 15)
Как следует из зонной модели (см. рис.), различие электрической проводимости проводников и диэлектриков определяется шириной запрещенной зоны , где
- минимальная энергия электрона в зоне проводимости;
- максимальная энергия электрона в валентной зоне.
Различие механизмов электрической проводимости металлов и полупроводников проявляется в температурной зависимости. Для металлов характерно повышение ρ при повышении T за счет рассеяния энергии электронов на тепловых колебаниях кристаллической решетки: , где
- удельное сопротивление при комнатной температуре (
).
Для полупроводников при повышении температуры удельное сопротивление снижается за счет возникновения подвижных носителей заряда (электронов и дырок) в результате теплового возбуждения, т. е. электроны из валентной зоны могут переходить в зону проводимости. Так, для чистых полупроводников: , где β – постоянная положительная величина.
Собственные и примесные полупроводники
Проводимость в полупроводниках создается не только электронами в зоне проводимости. После перехода электронов в зону проводимости в валентной зоне остаются вакантные состояния, называемые «дырками», которые ведут себя как положительно заряженные частицы. Таким образом, в валентной зоне проводимость осуществляется дырками.
Собственный полупроводник – полупроводник в котором подвижные носители заряда образуются только в результате переноса электронов из валентной зоны в зону проводимости. В этом случае концентрация электронов равна концентрации дырок (схема а).
Примесной полупроводник – полупроводник, содержащий примесные атомы, имеющие свои энергетические уровни (примесные уровни).
Если такой уровень располагается вблизи дна зоны проводимости, то электроны с него могут легко переходить в эту зону. Полупроводник n-типа – полупроводник, у которого подвижные электроны возникают вследствие их перехода с примесных уровней в зону проводимости (схема б). Уровни, поставляющие электроны в зону проводимости, называют донорными.
Если примесный уровень, не занятый электронами, расположен вблизи потолка валентной зоны, то электроны из этой зоны могут легко перейти на этот уровень, образуя в валентной зоне подвижные дырки. Полупроводник p-типа – полупроводник, у которого подвижные носители заряда – дырки образуются за счет захвата электронов примесными уровнями (схема в). Уровни, захватывающие электроны и генерирующие дырки в валентной зоне называют акцепторными.
Кристаллические структуры типа алмаза и типа цинковой обманки
Монокристаллические полупроводниковые материалы, используемые при изготовлении интегральных микросхем (ИМС), имеют кристаллическую решетку типа алмаза или цинковой обманки. В такой решетке каждый атом окружен четырьмя соседними атомами, расположенными в вершинах тетраэдра. Валентную связь между парой соседних атомов образуют два электрона с двумя противоположно ориентированными спинами.
Для германия Ge и кремния Si (IV группы таблицы Менделеева) характерны решетки типа алмаза, т. е. в этих материалах все валентные связи существуют только между атомами одного элемента.
Арсенид галлия GaAs (A III B V) обладает решеткой типа цинковой обманки, т. е. кристаллическая решетка образована атомами галлия – элемента III группы (A III), и мышьяка – элемента V группы (B V).
Кристаллы полупроводниковых материалов обладают анизотропией, т. е. неоднородностью механических и электрофизических свойств в различных направлениях. В технологии производства ИМС для обозначения кристаллографических плоскостей используют индексы Миллера.
Индексы Миллера
Для кубических кристаллов индексы Миллера представляют собой три цифры, относящиеся к прямоугольной системе координат.
Кристаллографические оси, определяемые индексами Миллера, перпендикулярны соответствующим кристаллографическим плоскостям.
Важнейшим параметром кристаллической решетки полупроводников является ее постоянная «а» – расстояние между двумя атомами, расположенными в соседних вершинах куба.
Основные кристаллографические плоскости кубической решетки
Статистика подвижных носителей заряда
Для определения важнейших параметров полупроводниковых материалов (например, электрической проводимости) необходимо знать концентрацию подвижных носителей заряда: электронов - в зоне проводимости и дырок в валентной зоне.
Концентрация подвижных электронов с энергией от до
определяется как:
где N(E) – плотность квантовых состояний электронов (энергетических уровней), т. е. количество квантовых состояний электронов, приходящихся на единицу объема полупроводника и единицу энергетического интервала dE;
f(E,T) – функция распределения, определяющая вероятность того, что энергетический уровень с энергией E при некоторой температуре Т является занятым электронами.
Функция распределения f(E,T) описывается квантово-механической функцией Ферми-Дирака:
где - уровень (энергия) Ферми; Е – энергия энергетического уровня.
Функция распределения Ферми-Дирака
EMBED KompasFRWFile
При Т=0К электроны находятся на самых низких энергетических уровнях. Если , то вероятность заполнения этих уровней f(E) равна 1. Если
, то f(E)=0.5 (при
). При
функция Ферми-Дирака размывается, но остается симметричной относительно уровня Ферми. При этом электроны в результате теплового возбуждения переходят на более высокие энергетические уровни (
).
В некоторых частных случаях функция Ферми-Дирака преобразуется в классическую функцию распределения Максвелла-Больцмана:
где С – постоянная величина для определенного полупроводника и фиксированной Т. Эта функция применяется для определения вероятности заполнения электронами квантовых состояний с энергией .
В этом случае функция Ферми-Дирака: принимает вид:
.
Проводник с энергией квантовых состояний , называется невырожденным и описывается функцией Максвелла-Больцмана. Полупроводник, для которого не выполняется условие
, называется вырожденным и описывается функцией Ферми-Дирака.
Функция распределения Максвелла-Больцмана
EMBED KompasFRWFile
Для нахождения концентрации подвижных носителей заряда - электронов:
необходимо определить плотность квантовых состояний N(E) для зоны проводимости и валентной зоны.
Для зоны проводимости: , где
- энергия дна зоны проводимости,
- постоянная величина.
Для валентной зоны: , где
- энергия потолка валентной зоны,
- постоянная величина.
Зависимости для невырожденного полупроводника n-типа
Определим концентрацию электронов для всей зоны проводимости невырожденного полупроводника n-типа ( ):
где - энергия дна зоны проводимости, тогда
- концентрация электронов в элементарном интервале энергии dE. Интегралом произведения N(E) f(E,T) будет площадь заштрихованной области, ограниченной кривой dn/dE.
Зависимости для вырожденного полупроводника n-типа
Пользуясь статистикой Ферми-Дирака, можно определить концентрацию электронов в зоне проводимости вырожденного полупроводника n-типа (условие не выполняется). При этом уровень Ферми
располагается выше дна зоны проводимости
(при низких
).
Концентрация электронов равна: , т. е. определяется площадью заштрихованной области, ограниченной кривой
.
В общем случае, для собственного полупроводника концентрацию электронов в зоне проводимости можно определить следующим образом: , где
- эффективная плотность квантовых состояний в зоне проводимости (постоянная величина для данного полупроводника).
Концентрация подвижных дырок в валентной зоне:
, где
- эффективная плотность квантовых состояний в валентной зоне полупроводника.
Для собственного (беспримесного) полупроводника: , где
- собственная концентрация электронов, равная собственной концентрации дырок
.
Таким образом, для собственного полупроводника: , где
- ширина запрещенной зоны (
). Отсюда следует, что концентрация подвижных носителей заряда: электронов (
) и дырок (
) в собственном полупроводнике зависит от температуры Т и ширины запрещенной зоны
. При этом подвижные электроны и дырки возникают в результате теплового возбуждения и переноса валентных электронов в зону проводимости через запрещенную зону
.