ОНЭиНТ_Сидорова_Л7(10,5) (1040998)
Текст из файла
Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана Факультет: Машиностроительные технологии (МТ) Кафедра: Электронные технологии в машиностроении (МТ 11) Основы наноэлектроники и нанотехнологий Сидорова Светлана Владимировна 2015 Лекция 7 Технологическое оборудование Углеродные нанотрубки Кремниевые провода При 650о С на Co затравках 150 нм/мин При 390о С на Ga затравках 40 нм/мин Nanofab 800 Agile Позволяют выращивать нанотрубки и нанопровода с высокой скоростью роста и прецизионным контролем условий роста. Системы серии Nanofab позволяют проводить процессы формирования островов роста и плазменной активации катализаторов роста нанотрубок.
http://www.plasmasystem.ru Технологическое оборудование STE75 Универсальная компактная система молекулярно-‐лучевой эпитаксии Разработана для выращивания широкого спектра полупроводниковых соединений А3В5 и широкозонных соединений А2В6, а также в специальном исполнении — А3N, выполнена с учетом последних достижений в области молекулярно-‐лучевой эпитаксии полупроводников в данных системах материалов.
STE35 Система молекулярно-‐лучевой эпитаксии для роста материалов A3B5 http://www.semiteq.ru Отличительной чертой конструкции является возможность корректировки ростовой геометрии в заметных пределах за счет значительного вертикального перемещения ростового манипулятора. Это позволяет совместить в одной камере два рабочих ростовых положения: исследовательское, в котором может проводиться рост без вращения держателя подложки, с активным использованием дифракции быстрых электронов, и обеспечением приемлемой однородности эпитаксиальной пленки, а также «производственное», при котором рост осуществляется с вращением и обеспечивается высокая однородность на больших диаметрах подложки.
Технологическое оборудование МВУ ТМ Магна Т Нанесение плёнок металлов (Cu, Cr, Al, др.) и диэлектриков (SiO2 ,Si3N4, др.) методом магнетронного распыления. • • • • • Последовательная обработка подложек в одном технологическом цикле от 6 до 12 шт.
Откачка реактора до предельного разряжения 5*10-‐4Па Малогабаритная безмасляная вакуумная система откачки. Потребляемая мощность не более 5,5 кВт. Площадь, занимаемая одной установкой ~1,5 м2. http://niitm.ru Технологическое оборудование • • • • МВУ ТМ ТИС Нанесение плёнок методом термического испарения металлов в вакууме.
Последовательная обработка подложек в одном технологическом цикле от 2, 4, 8 шт. Малогабаритная безмасляная вакуумная система откачки. Потребляемая мощность не более 3 кВт. Площадь, занимаемая одной установкой ~1,5 м2. http://niitm.ru Технологическое оборудование МВУ ТМ ИЗОФАЗ CVD Осаждение диэлектрических слоёв (SiO2, Si3N4) из газовой фазы с плазменной активацией в ВЧ разряде.
• • • • • • Индивидуальная обработка пластин. Откачка реактора до предельного разряжения 0,5 Па. Поддержание стабильности ВЧ разряда в диапазоне рабочих давлений 2-‐30 Па. Регулирование и автоматическое поддержание уровня ВЧ мощности в диапазоне 30-‐200 Вт. Нагрев подложкодержателя до 350°С.Потребляемая мощность не более 3 кВт. Площадь, занимаемая одной установкой ~1,5 м2. http://niitm.ru Технологическое оборудование ЭПИ ЕТМ -‐ М Осаждение эпитаксиальных слоёв на монокристаллические пластины кремния и сапфира при научных исследованиях, учебных процессах, отработке технологических процессов и мелкосерийном производстве в областях микроэлектроники и нанотехнологий. А также, высокочувствительный косвенный анализ чистоты реагентов, содержащих кремний, посредством функционального контроля осаждаемых эпитаксиальных слоёв.
http://niitm.ru Технологическое оборудование Caroline D12A Caroline D12B Автоматизированная шлюзовая установка плазмохимического и ионнохимического травления. Автоматизированная установка магнетронного, термического и ионно-‐лучевого напыления. Установка может быть укомплектована любым набором технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон, источник ионов, термический испаритель и устройство ионного распыления. http://www.esto-‐vacuum.ru Caroline PE15 Технологическое оборудование Univex 300 Область применения систем UNIVEX главным образом сосредоточена на проведении процессов напыления. Универсальные экспериментальные системы Oerlikon Leybold Vacuum базируются на удобной модульной концепции. Методы нанесения покрытий – термическое и электронно-‐лучевое испарение. http://www.leybold.ru Проектирование специализированного ВТО 3D-‐модель модернизированной установки УВН-‐1М УВН-‐1 УВН-‐1М Проектирование специализированного ВТО Модули для методов нанесения: А) – термическое испарение Б) – магнетронное распыление В) – дуговой разряд Г) – газофазное осаждение Контрольные вопросы 1. Варианты типов оборудования и реализованных методов для возможности получения островковых наноструктур.
2. Варианты типов оборудования и реализованных методов для получения углеродных нанотрубок, нанонитей. 3. Достоинства и недостатки модульного оборудования (на примере любого типа технологического оборудования). 4. Сравнение двух технологических установок разных производителей (варианты задаются индивидуально). .
Характеристики
Тип файла PDF
PDF-формат наиболее широко используется для просмотра любого типа файлов на любом устройстве. В него можно сохранить документ, таблицы, презентацию, текст, чертежи, вычисления, графики и всё остальное, что можно показать на экране любого устройства. Именно его лучше всего использовать для печати.
Например, если Вам нужно распечатать чертёж из автокада, Вы сохраните чертёж на флешку, но будет ли автокад в пункте печати? А если будет, то нужная версия с нужными библиотеками? Именно для этого и нужен формат PDF - в нём точно будет показано верно вне зависимости от того, в какой программе создали PDF-файл и есть ли нужная программа для его просмотра.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
