Технологическое обеспечение равномерности покрытий для деталей гироскопических приборов на установках магнетронного напыления (1026305), страница 24
Текст из файла (страница 24)
1970. №2. С.78-83.29. Kelly P.J., Arnell R.D. Magnetron sputtering: a review of recent developments andapplications // Vacuum. 2000. №56. P. 159-172.30. Низкотемпературноемагнетронноеосаждениепрозрачныхпроводящихпленок легированного алюминием оксида цинка / А.Н. Захаров [и др.] // Физика ихимия обработки материалов. 2006. №3. С. 35-41.31. Тимаков С.В. Формирование хромоникелевых гетероструктур с заданнымсоставом и свойствами // Аналитические и численные методы моделированияестественно-научных и социальных проблем: Сборник статей V Междунар. науч.техн.
конф., Пенза. 2010. С. 261-263.32. Characterization of inductively amplified devices implanted in an industrial PVDsystem / Ducros C. [et al.] // Surf. and Coat. Technol. 2003. V. 163/164. P. 641-648.33. ФедотовА.В.,АгабековЮ.А.,МачкинВ.П.Многофункциональныенанокомпозитные покрытия // Наноиндустрия. 2008. № 1.
С. 24-26.34. АгабековЮ.В.,СутыринА.М.Несбалансированныемагнетронныераспылительные системы с усиленной ионизацией плазмы // Электровакуумнаятехника и технология (за 1997/98 г.г.). М., 1999. С. 102-108.18835. ТимаковС.В.Системыуправлениятехнологическимирежимамимагнетронного нанесения тензорезистивных пленок: автореферат дис.
… канд.техн. наук. Пенза. 2011. 20 с.36. Sproul W.D., Christie D.J., Carter D.C. Control of reactive sputtering processes// Thin Solid Films. 2005. V. 491. Р. 1-17.37. Зоркальцев А.А., Кривобоков В.П., Юдаков С.В. Система управленияпромышленной плазменной установкой // Известия Томского политехническогоуниверситета. 2005. Т. 308, № 4. С. 59-63.38. ДухопельниковД.В.Магнетронныераспылительныесистемысэлектромагнитами: автореферат дис. … канд. техн. наук. Москва. 2007. 16 с.39.
Сергеев А.Е. Моделирование технологического процесса магнетронногораспыления,обеспечивающегозаданныефизико-механическиесвойствананокомпозитных покрытий металлорежущего инструмента: автореферат дис. …канд. техн. наук. Рыбинск. 2012. 16 с.40. Васин В.А., Ивашов Е.Н., Степанчиков С.В. Повышение равномерностинанесения тонких пленок в вакууме // Технология Машиностроения. 2011.№6. С. 27-30.41. Савалык Н.А. Повышение равномерности нанесения покрытий на пленочныематериалы в электронно-лучевых установках: автореферат дис.
… канд. техн.наук. Москва. 2002. 16 с.42. Равномерность толщины плёнок, осаждённых на вращающиеся подложки/ Е.Н. Котликов [и др.] // Оптический журнал. 2009. Т. 76. №2. С. 58-62.43. Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А. Вакуумная технология иоборудование для нанесения и травления тонких плёнок. М.: Техносфера, 2007.176 с.: ил. ISBN 978-5-94836-134-5.44. Вакуумная дуга с монокристаллическим кремниевым катодом для получениянаноструктурированных материалов / М.К.
Марахтанов [и др.] // Справочник.Инженерный журнал. 2008. № 9. С. 22-27.45. Anders A. Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition. NewYork: John Wiley & Sons, 2000. 435 р.18946. Pulsed DC magnetron discharge for high-rate sputtering of thin films / J. Musil [etal.] // J. Vac. Sci.
Technol. 2001. V. 19. № 2. P. 420-424.47. Musil J., Baroch P. Discharge in dual magnetron sputtering system // IEEE Tarns.Plasma Sci. 2005. V. 33. № 2. P. 338-339.48. Musil J., Kadlec S., Münz W.D. Unbalanced magnetrons and new sputtering systemwith enhanced plasma ionization // J. Vac. Sci.
Technol. 1991. V. 9. № 3. P. 1171-1177.49. Design, plasma studies, and ion assisted thin film growth in an unbalanced dualtarget magnetron sputtering system with a solenoid coil / C. Engstrom [et al.] // Vacuum.2000. V. 56. P. 107-113.50. Исследование характеристик плазмы несбалансированной магнетроннойраспылительной системы / А.А. Соловьев [и др.]. // Физика плазмы. 2009. Т. 35.№5. C. 443-452.51. Васильев В.А., Хошев А.В.
Условие получения однородных наноразмерныхрезистивных плёнок NiTi методом магнетронного распыления из двух источников// Известия Томского политех. ун-та. Математика и механика. Физика. 2014. Т. 325.№2. С. 173-179.52. Тимаков С.В. Работа магнетронного распылителя при питании импульснымнапряжением // Надежность и качество: Труды междунар. симп.: в 2 т.
Пенза:Информационно-издательский центр ПензГУ. 2010. Т. 2. С. 194-197.53. СерияUnicoat//Элан-Практик.URLhttp://www.elanpraktik.ru/production/ipc900.html (дата обращения 23.09.2013).54. СагателянГ.Р.,ШишловА.В.Анализраспределениятолщинытонкопленочного покрытия при магнетронном напылении на установках спланетарным перемещением подложки // Наука и Образование. МГТУ им.Н.Э.
Баумана. 2014. № 11. URL http://technomag.bmstu.ru/doc/733662.html.DOI 10.7463/1114.0733662.55. Sputtering apparatus and sputter film deposition method: пат. US6863785 США/ Eiji Shidoji [at al.]; 2005-03-08.56. Carrousel type sputtering device and sputtering method: пат. JPH03253568 Япония/ Nakajima Koji, Yamamoto Kimisumi; 1991-11-12.19057. Method and apparatus for the high rate automated manufacture of thin films: пат.CA2214546 Канада / Takayuki Akiyama [at al.]; 2005-07-12.58. Magnetronsputteringdevicehavingrotatablesubstrateholder:пат.US20100294658 США / Shao-Kai Pei; 2010-11-25.59.
Magnetron type sputtering device: пат. JPH04173971 Япония / Shiraishi Yasushi;1992-06-22.60. Способ нанесения нанокомпозитного покрытия на плоские поверхностидетали и устройство для его реализации (варианты): пат. RU2450086 РФ/ Г.В. Качалин [и др.]; заявл. 08.06.10; опубл. 10.05.12. Бюлл. №13.61. Установкадлянанесениямногослойныхпокрытийспериодическойструктурой методом магнетронного напыления: пат. 2308538 РФ / Федотов А.В.,Агабеков Ю.А., Сутырин А.М.; заявл. 19.06.06; опубл. 20.10.07. Бюлл.
№3.62. УстановкаЛуч-013//ФГУПНИИНПОЛУЧ.ГКДреезЖ..цццюдгсрюзщвщдылюкг. зщлкшеюреь№ (дата обращения 18ю09ю2015)ю63. Одиноков В.В., Павлов Г.Я. Вакуумная установка магнетронного нанесенияметаллическихидиэлектрическихнанопленокМагнаТМ-200-01// Наноиндустрия. 2008. №4. С. 10-12.64. Установка Carolina D12A1 // ООО ЭСТО-Вакуум.
URL http://www.estovacuum.ru/oborudovanie/carolina/caroline-d12a1/ (дата обращения 18.09.2015).65. LEYBOLD OPTICS: оборудование для нанесения сложных многослойныхоптических покрытий // Фотоника. 2014. №1/43. C. 114-116.66. Совершенствованиетехнологическогопроцессаизготовленияпластинымаятникового акселерометра / А.В.
Шишлов [и др.] // Естественные и техническиенауки. 2012. №6 (62). М.: Спутник+. С. 369-376.67. Шишлов А.В., Сагателян Г. Р. Расчет скорости напыления в точках подложкипри ее планетарном перемещении на установках со сдвоенными магнетронами// Техника машиностроения. 2014. Т. 21. Вып. 4 (92). С. 11-16: ил. 3.68. ШишловА.В.,СагателянГ.Р.Оценканеравномерностискоростимагнетронного напыления на установках с планетарным перемещением заготовки// Научное обозрение. 2014. №4. С.
54-59.19169. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме/ А.И. Костржицкий [и др.]. М.: Машиностроение, 1991. 176 с.70. ШишловА.В.,тонкопленочныхСагателянпокрытийГ.Р.приОбеспечениеизготовленииравномернойпластинытолщинымаятниковогоакселерометра // Научное обозрение. 2013. № 2. С. 71-75.71. Шишлов А.В., Сагателян Г.Р. Методика расчета толщин покрытия в различныхточках поверхности заготовки при напылении на магнетронных установках спланетарным механизмом // Приборы. 2015.
№3. С. 37-45.72. Шишлов А.В., Сагателян Г.Р. Расчет неравномерности толщины слоя примагнетронномнапылении//Естественныеитехническиенауки.2014.№8 (76). С. 83-85.73. Шишлов А.В. Нанесение антикоррозионных нанокристаллитных покрытийсистемы TiAl на детали, выполненные из алюминиевых сплавов, углеродистыхсталей и сплавов на вакуумной установке UniCOAT600+: Технологическаяинструкция КИНД.400008.003. Филиал ФГУП ЦЭНКИ - НИИ ПМ им. акад.В.И.Кузнецова. М., 2010. 154 с.74.
Реактивное ионно-плазменное травление и осаждение: установка Каролина 15/ Е. Берлин [и др.] // Электроника: НТБ. 2005. №8. С. 78-80.75. Серия Форм Талисурф // Тейлор Хобсон. URL http://taylor-hobson.ru/katalogproduktcii/seriya-form-talisurf.html (дата обращения 08.09.2015).76. Поршнев С.В. Компьютерное моделирование физических процессов в пакетеMATLAB. М.: Горячая линия-Телеком, 2003. 592 с.77.
Никоненко В.А. Математическое моделирование технологических процессов:Моделирование в среде MathCAD. Практикум / под ред. Г.Д. Кузнецова.М.: МИСиС, 2001. 48 с.78. MATLAB 7 / И.Е. Ануфриев [и др.]. СПб.: БХВ-Петербург, 2005. 1104 с.79. Модификация конструкционных материалов для деталей и узлов приборовориентации, стабилизации и навигации: Учеб. пособие / А.Р. Бахратов,А.В. Шишлов.
М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2013. 43 с.80. Панфилов Ю.В. Нанесение тонких плёнок в вакууме // Технологии в192электронной промышленности. 2007. №3. С. 76-80.81. Акселерометр: пат. 2046345 РФ / Г.М. Очеретнер [и др.]; заявл. 10.01.83; опубл.20.10.95. Бюлл. №1.82. Чувствительная катушка для волоконно-оптического гироскопа: пат.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
