Методы осаждения металлических пленок
Методы осаждения металлических пленок
Осаждение металлических пленок проводят, как правило, путем осаждения металлосодержащих компонент на поверхности подложек в вакуумных камерах. Осаждение осуществляется различными способами.
Принципиальная схема реактора для осаждения металлов
Основными частями вакуумной системы являются:
- рабочая камера (1), в которой располагаются подложкодержатель (2) и источник распыляемого материала (3),
- система предварительной откачки, состоящая из насоса предварительной откачки (10), форвакуумного насоса (7) и цеолитовых молекулярных ловушек,
- система высокого вакуума, состоящая из охлаждаемой жидким азотом ловушки (5) и паромасляного диффузионного, турбомолекулярного или криогенного насосов (6),
- система клапанов (4),
- измерительные датчики,
- система напуска распыляющего газа (9) для случая ионного распыления в атмосфере аргона.
Предварительные операции:
1. Для устранения возможных источников захвата атмосферных газов удаляют любые пленочные образования на внутренних поверхностях камеры.
2. Затем в камере создается предварительный вакуум до 20 Па, а с использованием молекулярных ловушек до 0.5 Па.
3. Далее с помощью системы создания высокого вакуума давление понижается до рабочей величины, составляющей 60 мкПа.
В лекции "8 Понятие и структура правового статуса" также много полезной информации.
Загрузка пластин:
Пластины, предварительно обработанные в растворах HF (для уменьшения содержания ионов натрия), вводятся в рабочую камеру через загрузочный шлюз, в котором поддерживается пониженное давление.
В системах с ионным распылением в рабочей камере перед распылением поддерживается давление аргона порядка 1 Па. При этом содержание воды и кислорода не превышает 10 мПа.
После металлизации пластины через шлюз выводятся из рабочей камеры.
Тонкие металлические пленки получают различными способами. К основным из них относятся испарение металлов, магнетронный метод и химическое осаждение из газовой фазы.
Установка для магнетронного напыления
