Курсовая работа: Установка нанесения тонких пленок ВЧ-магнетронным методом
Описание
Оглавление.
Оглавление. 3
1. Введение. 4
2. Описание процессной модели. 5
2.1 Деление технологии на процессы 6
2.2 Выбор сервисных процессов 7
2.3 Выбор процессов коррекции цели 7
3. Комплексная принципиальная схема. 7
4. Техническое задание на элементы и узлы машины. 8
4.1 Блок усиления сигнала с термопары 8
4.2 Блок термостабилизации 10
4.3 Усилитель сигналов от датчиков напряжения, давления и термопары. 12
4.4 Блок питания . 12
4.5 Блок управления двигателем привода держателя. 13
4.6 Промышленный ЭВМ. 13
4.7 Блок питания на 15В. 13
4.8 Блок питания на 24В. 14
5. Расчёт и описание схемы работы приводами. 14
5.1 Описание схемы работы приводами. 14
5.2 Расчет схемы. 17
6. Список литературы. 20
Приложение 1. 21
Приложение 2. 24
1. Введение.
В настоящее время все больше производств переходят на автоматизированное оборудование. Без компьютера уже не может обойтись ни одна отрасль промышленности, особенно электронное машиностроение.
Целью проекта является разработка системы автоматического управления для исследовательской установки нанесения твёрдосмазочных покрытий с использованием ик нагрева и подвода потенциала смещения.
Исходя из требуемых технических характеристик установки, были подробно рассмотрены процессы ее наладки, калибровки и эксплуатации с точки зрения систем автоматического управления.
Для упрощения работы оператора и повышения производительности предложен вариант полностью автоматизированной установки вместо имеющейся с ручным управлением.
2. Описание процессной модели.
В данном курсовом проекте разрабатывается процессная модель исследовательской магнетронной установки для нанесёния твёрдосмазочных покрытий.
Перед нанесением твёрдосмазочного покрытия образцы закрепляются на держателе и помещаются внутрь камеры установки. Затем производится откачка камеры, ионная очистка с одновременной активацией поверхности образца и дальнейшее распыление мишени с ик нагревом. В момент начала распыления проводятся замеры температуры, давления в камере и потенциала смещения .
Измерения температуры проводятся с помощью термопары (помещенной внутрь камеры), сигнал с которой через усилитель поступает на микроконтроллер и в последствии обрабатывается. Фиксируется потенциал смещения, снимая заряд с поверхности изолированного от камеры вакуумного ввода вращения. Давление в камере определяется усилением и обработкой сигнала, преобразованного от ВИТ2 с датчика низкого (высокого) вакуума.
После извлечения образца с покрытием из вакуумной камеры измеряется толщина нанесенного слоя, его микроструктура.
Далее результаты этих измерений заносятся в ЭВМ, после чего обрабатываются, систематизируются и представляются в виде, удобном для восприятия оператором (графики, диаграммы и т.д.).
Характеристики курсовой работы
Список файлов
- Установка нанесения тонких пленок ВЧ-магнетронным методом
- 1.DOC 22,5 Kb
- l.dwg 2,8 Mb
- zap.doc 724 Kb
- Прочти меня.txt 141 b
Начать зарабатывать