Курсовая работа: Установка двухстороннего экспонирования

Основы проектирования систем автоматического управления оборудования электронных технологий »

на тему:

«УСТАНОВКА ДВУСТОРОННЕГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ»

2010

Оглавление

1.... Реферат. 3

2.... Введение. 4

3.... Описание процессной модели. 6

4.... Выбор сервисных функций. 7

5.... Выбор функций коррекции цели. 8

6.... Описание комплексной принципиальной схемы.. 9

7.... Технические параметры управляемых элементов. 10

8.... Элементы и узлы машины.. 13

9.... Расчет сопротивления оптронной развязки. 16

10..... Расчет трансформаторов блока питания. 17

11..... Заключение. 21

• Реферат

к курсовому проекту «Установка двухстороннего экспонирования»

Записка содержит страниц, рисунков, таблиц.

Ключевые слова:УСТАНОВКА ДВУХСТОРОННЕГО экспонирования, ПЕЧАТНАЯ ПЛАТА, ФОТоШАБЛОН, СИСтЕМА АВТОМАТИЗИРОВАННОГО УПРАВЛЕНИЯ, комплексная принципиальная схема, процессная модель, электрическая схема

Графические работы в объеме 4 листов выполнены на ПК с помощью программ autoCAD 2010, КОМПАС v.12. Записка выполнена с использованием программного продукта Microsoft Word.

Целью данного курсового проекта является овладение навыками, методами и средствами комплексных разработок механических и электронных компонентов оборудования САУ, а также правилами и методами составления технического задания на программное обеспечение САУ.

Задачи проекта состоят в:

1. распределении функций машины между различными компонентами и обоснование этих функций;
2. постановке четких технических заданий перед разработчиками отдельных компонентов;
3. выполнении технической документации на электронные компоненты.

В данном курсовом проекте рассмотрена система автоматизированного управления установкой двустороннего экспонирования ― оборудование для формирования скрытого изображения элементов печатных плат в слое фоторезиста при его контактном экспонировании.

Рассмотрены основные узлы САУ и проведен расчет и проектирование частей системы управления.

Проект выполнен в объеме 4 листов и расчетно-пояснительной записки. На первом листе приведена блок схема алгоритмов работы установки. На 2 листе показана принципиальная схема установки и таблица сигналов. На третьем листе проекта приведена комплексная принципиальная схема установки. На четвертом листе показан блок питания и плата управления лампами высокого напряжения.

1. Введение

Экспонирование фоторезиста для формирования топологии печатных плат занимает особое место в комплексе операций микролитографии, она является одной из важнейших и наиболее сложных операций. Микро- и нанометровые размеры элементов, десятки и сотни тысяч элементов в каждом модуле, десятки и сотни модулей на каждой подложке, размеры которой превышают размеры отдельных элементов в десятки тысяч раз, - все это ставит задачу формирования таких изображений в ряд наиболее сложных проблем современной науки и техники. Эта задача еще более усложняется при второй и последующих литографиях, когда появляется необходимость совмещения топологических слоев, а неплоскостность подложек резко возрастает из-за их коробления во время многократных высокотемпературных обработок.

В производстве ПП проблема формирования скрытого изображения топологии в настоящее время стоит так же остро, как и в микротехнике. Соотношение размера элемента с рабочим полем платы примерно соответствует порядку ИС, а критические размеры топологии составляют единицы микрометров. К тому же печатные платы так же относятся к многослойным структурам, т.е. присутствует проблема совмещения ранее изготовленных слоев. Оборудование для формирования микроизображений является самостоятельным классом сложного оптико-механического оборудования. В него входят установки для изготовления различного вида шаблонов, а также установки для переноса изображений шаблонов на подложки. В данном проекте рассмотрена установка двустороннего контактного экспонирования ПП.

При контактной фотолитографии экспонирование ведется при непосредственном контакте подложки и фотошаблона. При таком методе экспонирования возникает ряд проблем, которые влияют на качество полученного изображения. Данные проблемы можно классифицировать как дефекты изображения, которые могут привести к браку всего изделия, и погрешность изображения топологического рисунка, возникающая в результате оптических явлений.

В настоящее время к установкам экспонирования предъявляются высокие требования. Они должны быть автоматическими, обладать высокой точностью и производительностью, обладать универсальностью.

В соответствии с этим проектируемая установка должна обладать следующими характеристиками:

- высокое разрешение

- высокая производительность

- низкая стоимость процесса

- универсальность

- возможность выпуска плат с большим рабочим полем

- высокое быстродействие

- удобство переналадки

- возможность получения элементов размерами 20…50 мкм

- возможность встраивания в автоматическую линию