Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Термовакуумные процессы и оборудование (МТ-11)Технологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. ТТехнологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Т
2022-05-082022-05-08СтудИзба
Технологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Температурные режимы
Описание
Технологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Температурные режимы
![]()
Характеристики реферата
Тип
Учебное заведение
МГТУ им. Н.Э.БауманаСеместр
Теги
Просмотров
10
Качество
Идеальное компьютерное
Размер
693,56 Kb
Список файлов
Технологические реж при формир наноструктур методом PVD.pdf
abobus.gastrit
08 мая 2022 в 17:15
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
