Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Термовакуумные процессы и оборудование (МТ-11)Технологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. ТТехнологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Т
4,745276
2022-05-082022-05-08СтудИзба
Технологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Температурные режимы
Описание
Технологические режимы при формировании наноструктур методом физического газофазного осаждения (PVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Температурные режимы
Характеристики реферата
Тип
Учебное заведение
Семестр
Теги
Просмотров
11
Качество
Идеальное компьютерное
Размер
693,56 Kb
Список файлов
Технологические реж при формир наноструктур методом PVD.pdf
Комментарии
Нет комментариев
Стань первым, кто что-нибудь напишет!
МГТУ им. Н.Э.Баумана














