074f-2-freview (Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением)

ФедеРАльное Гтк;удАественное АВТОПОмное нлучное учеюкиение еЦЕНТРАЛЬНЫЙ НАУЧНО-ИЕСЛЕДОВАТГ!$ЬСИ4Й й ОНЕЧНО-НОНЕ;ТР~~ГТОРОЕНЙ ННЕ.ТНТ",ГТ РОБОТОТКХНИКЙ П Тк.ХННЧРСКОЙ КЙЬЕРНРТНКПэ (ПНИН РТК) Иа ссГолпяшний лснь олной нз ннновзпионнык тскнолоГИЙ язлястся техиатали микрозлектромсканических сйстем — МЕМЗ ~М~сго-ИзахоМЕС1тан~са1 Буьтсше). Мноовой Рмнок МЕМ$ являстся очвнь лннамичнмм и СОГласно йослеиппм ИРОГноззм Рзстдт с нрпрзшснисм 13,""% ка®ЛАЙ Гол. Фтплзмснтзльнмс, йоисковмс и прпклзлнмс псслсловзния йроволпммс В большпнствс Рззвптых стран мира успзшпо сочстзются с РЗЗрзботкамй и иронлволством МЕЧЬ вЂ” стрчкткр. Издслпя, солланныс по мпкроспстсмньР4 тсхнолОГпям — ЯЯО мном~сство )~стройств самон Разнообрззноп конс ГРРкиип н наапачснпя.

Это - мпкросснсор~, мпкоо~й~волз (акт~аторм), мпкромоторь~ (ЛВПГатслп), йрсобразовзтслй энсРГНП, мпкронасосы и фильтры. Малая масса, ннзкос ~нзр~ Онотрсблснпс на оял~: с Вмсокой НЗЛЬкностьйт и Ралпаипонпоп стойкостью явля~отся ик нсоспорпмь~м ирспм~~йсстзом, что Расшпряст. Ик областн йРнмснсн па з слГлкнмк тскппчсскик сйстсмш, такйк кзк Роботь~ и Роботскнпчсскнс ьомнлсксм, авпакосмнчсскзя н зоснная тскннкз, Вст болылсс ИРЙмспсннс онй наколят В пзислняк обшсГраясланскоГО нзлначснйя. Дпссертзцноннал работа Е:пешиловоп Л.Ь. Татрагнваат проблемы тскполоГПЙ созиання прпннпнпально новык МЕМБ - стрткт~"Р и В атом смысле йктувльность предстввляемой к звщите диссертвциоиной рйботы НЕ ВЫЗЫВВЕТ СОМНЕНИЙ.

В диссертвпии Ввтор стввит своей иелыо получение новмх знвний О ЗВКОНОМЕРНОСТЯХ ПРОПЕССОВ ПЛВЗМОХНМИЧЕСКОГО ТРВВЛЕНИЙ фоТОРЕЗНСТНВН1ЛХ, ТВК НВЗЫВВЕМЫХ «ЖЕРТВЕНИЫХЯ СЛОЕВ ЗВДВННОИ 'ГОЛП1ИНЫ И низкой П1ероховйтости, что пОЭВОлит Оптимизировйть тех11ологическйй пропесс создвиия микромост11ковых структур В изделиях микрос»1стем11ой ТЕХНИКИ. ДЛЯ ДОСТН»КЕНИЯ ПОСТАВЛЕННОЙ ЦЕЛИ АВТОР ЭКСПЕРИМЕНТВЙЬНЫМ 11УТЕМ нзучилв Влилние конструкпин ревкпионных квмер, способВ Возбу»кденил ВЧ рлзрядв, В твк»ке техноло1-нческих пврвметров пр1»нессов трввления НВ СКОРОСТЬ ТРВВЛЕНИЯ и И1ЕРОХОВВТОСТЬ ПОВЕРХНО~ТИ ТРЯВЛЕ11И Я фоторезистивных слоев.

Результтсгы Выполненных нсследовбний покезлли, ПРОИЕСС 11»1ВЗМОХНМИЧЕСКОГО ТРВВЛЕННЯ РЕВЛНЗОВВНН1ЯЙ В экспернментвльной ус*вновке с удвленной плвзмой пОЗВ~ЛЯ~~ Обеспечить нлнлуч1пий контроль скорости трлвления слоя фоторезистй, сохрдняя при ЭТОМ ЗНВЧЕННЕ П»ЕРОХОВВТОСГИ ПОВЕРХНОСТИ Ий УРОВНЕ, НЕООХОДНМОМ ДЛЯ нвде»кной рйботы подвн»кного электродв мостнковьгх МГйтэ - струкгур, Иесомненным достоннстввм предостввленной рвбОть1 ЯВлЯетсЯ МЕТОДИЧЕСКИ 1 РВМОТИО ПОСТРОЕННВЯ ПРО РВММВ ЭКСПЕРНМЕНТВЛЬНЫХ исследований, а применение современньгх методов исследований (АСМ, СЭМ, зллнпсометр11я и другие) позволяе.г с доверием Отнестись К ПОЛУЧЕННЫМ ЙВТОРОМ РЕЗУЛЬТВТЙМ. 1:ледует Отметить что применение методВ Оптической эмиссионной спектроскопии для днвгиостики 11ронессВ трлвления пОЗВОЛН~ ли*ору глуб»ке рлзобрвтьсл В ~еобен~~~~ЯХ физико-химических и мвссообмеинь1х про11ессвх.

ЩЮНСХОДЯП1НХ и НИЗКОТЕЫПЕРВТУРНОЙ ПЛЙЗМЕ. Нй зввершенность исследОВВния укВЗь1ВВет и тот фВ1г1', чтО результвты были Впробироввны при изготовлении О11ытной пир гни приборов иа предприлтии АО «Светлвнв-Электронпрнбор» ~СВнкт-Петербур1 ), .