отзыв на автореф от Киреева (Физические процессы в двухкамерном высокочастотном индуктивном источнике плазмы, помещенном во внешнее магнитное поле)

ОТЗЫВ авзорсферат диссертаипи Петрова А.К., иредсгайлепйой йа соискание ученоЙ степени кандндаззз физико-математических йаук, йа тему: "Фйзйческпе проиессь~ В дйу яка мерйом ВысокОчастОтнОм индуктивном нстОчнике плазмьз~ помешеииом во внешнее магнитное поле" по снецпальиости 01.04АŠ— физика илазмь$ Плазма индуктивного ВЧ ~высокочастотно~ О) разряда низкого давления, начиная с последней трети 20-го века, превратилйсь из предмета исследования физиков в технологическую среду для проведения преиизионных операиий травления, нйнесенйя, окисления и модификййий в пропсссе производства изделйй микро- и нйнозлектроники.

Кроме того, Такая плазма начинает все шире использоваться при СОздании знсрГОэффсктивных ионных двигателей для космических аппаратов и газоразрядных технологических источников света с максимальным выходом требуемого ИЗЛУЧСНИЯ. Такое широкое применение плазмы индуктивных ВЧ разрядов связано с ее уникальными физико-химическими свойствймй, сочетающими Высокие хймйческую ак~~~ность и конпснтрапию возбужд~нных зарязкснных и незйря~кснных части и с низкой ГЙЗОВОЙ температурой. Од~а~~ микрозлсктронном технологическом Оборудовании ПЛЙ~М~ индуктивйых ВЧ разрядОВ дОлжна зажигаться и испОльзОВаться В двухкамерных конструктивных системах, отличающихся от кварцевых труб, в которых пр~~~дятс~ физические ис~лед~~ания ТЙКОЙ плазмы.

Позтому работа, посвященная фундаментальным теоретическим н экспериментальным исследованиям влияния Внешних парамстрОВ фода и давлсния инсртнОГО Газа, чйстОты и мОщнОсти ВЧ генератора, величины мЙГнитнОГО пОля) на механизмы физических процессов н парамстры плазмы индуктиВИОГО ВЧ разряда В двухкамернОм истОчнике, предназначенном для технологическОЙ Обработки пластин, Является важйой и актуальной в научном и практическом планах. В Качестве ййиболее ййжйых результатов работы следует ОТМСТНТЬ: 1. ВперВые проведены комплексныс систематические экспериментальные и теоретические исследОвания пространственного распределения параметров разряда: концентрации и температуры электронов, потенциала плазмы, продольных кОмпонент ВЧ маГнитнОГО пОля и тОка, а Также эффективности поглощения ВЧ мощности плазмоЙ, В Двухкамерном индуктивном ВЧ источнике пла~мы.

Обнаружен Эффект аксиального перераспределения плОтности плазмы с ростом индукции маГнитнОГО пОля. Доказано, что этот эффект вызван самосогласованным действием следующих факторов: изменением аксиального распределения ВЧ полей, связаннОГО с Возб~ждением Волн В плазме; изменением Величин кВазистзциОнарных скачкОВ пОтенцнала В разряде вблизи Металлически~ элементов конструкции источника плазмы; - действием силы Миллера, вьггалкивающей электроны и ионы из области больших ВЧ полей. 2. Пров~денн~е сис~ематические экспериментальные и Теоретические исследования позволили оптимизировать операционные параметры 1частоту и мощность ВЧ Генератора, Давление и расход рабочего газа„величину внешнего магнитного поля) для получения максимальных значений концентрации ионов и их равномерности по диаметру в области расположения подложек в технологической камере.

3. Проведенные систематические экспериментальньге и теоретические исследоВания показали эффективность испОльзоВания диэлектрическОГО фл~~ца между разрядноЙ н ~ехнологическоЙ камерами ВЧ индукционного источника. Новизна работы подтвержда~тся полученными результатами исследований и моделирования, а, достоверн~сть, их повторениями намерениями, а также сОвпадением результатоВ моделирОВания с экспериментальными данными„пОлученными с испОльзОВанием СОВРЕМЕННЫХ МЕТОДИК И КОНТРОЛЬНО-ИЗМЕРИТЕЛЬНЫХ СРЕДСТВ. Практическая ценность результатов работы заключается в возможности их использования при моделировании, разработке, оптимизации и контроле йовых йонно-плазменных технологйческйх процессов ооработкй матерйалов иа оазе дВухкамерных ВЧ индуктивных истОчников плазмы.

ПО содержанию и Оформлению автореферата мОжнО сделать следующие замечания: 1. Основное замечание по содер>канию работы связано с отсутствием эксперйментов по йоййому травленйю пластйй какого-лйбо тесто~о~о матерйала, напрймер кремнйя, В йсследуемом двухкамерном ВЧ ййдуктйвйом йсточнйке плазмы. Действйтельйо, Основное уравйенйе для скорости иОннОго травления, используемое В технолОгическнх п1юцессах„ имеет следующий Вид: Ъ'й = 6,25*19~~" Ъ',(Кьа) )> Сова/п, 1нм/с), где Ъ',(Еьа) - коэффициент распыления материала, зависящий от энергии Е~ и угла падения ионов на поверхность материалов а, атом/ион; Й - плотность йоййого тока йа поверхйостй материала, мА/см; п~ - атомйая плотйость материала В атом/см', Важно экспериментально пОдтВердить, что проведенная на ОснОВе результатов дйссертацйойнОЙ работы оптймйзацйя операцйойных й конструктивных параметров двухкамерного БЧ индуктивного источника плазмы пОзВОлила увеличить скОрость и/или равномерность травления материалов, 2.

На стр. 3„последнйй абзац, 2-ая строчка сверху, ~впечатано «моделирование методом крупных частиц (Р1С)» более корректно надо печатать «моделирование методом частиц в ячейках (рагг(С1е-1п-се11 — Р1С) или методом макрочастиц». 3. На стр. 8» Верхний абзац, 2-ая и 3-ья строчки сВе1>ху, напечатано «Индуктор был выполйей йз полоЙ медноЙ проволоки диаметром 3 мм с Водяным охлаждеййем» надо печатать «Индуктор был Выполйей йз медноЙ трубкй с Внещнйм диамет1:>ом 3 мм с водяйым охлаждением», влияния Внешних параметров 1рода и даВления инертнОго Газа.„частОты и мощности ВЧ генератора, величины магнитного поля) на механизмы физических процессов и параметры плазмы двухкамерного индуктивного ВЧ разряда, а так~~ по ~птимизации распределения параметров плазмы по длин~ и влечению Технологической камеры.

Содержание авто1зеферата отра~кает научную новизну и практическую значим~~~~ диссертации, а результаты иссл~дОваний опубликованы В 7 статьях в рецензируемых научных курналов из перечня ВАК РФ и 16 тезисах в сборниках трудов конференций, Исходи из вышеизложенного, работа Петрова А.К. удовлетвориет требоваипим, иредзпвдмеязы~ ВАМ к кандидатским диееертапимм, а автор заслуживает нрпевоенми искомой степени кандидата физикоматемзтииеских наук но енепмадьиоетп Я*64.03 — физика плазмы.

Ведущий инженер НТЦ ИНЗНО- и микросистемная техникаа, НИУ МИЭТ, доктор технических наук .4н,с; .' '.,"-'Зъ „", ~"" ВЛО. Киреев -М ':... $ '1: Подпись Киреева В.Ю. удостоверяю ~,, начальник отдела кадров НИУ МИЭТ ~~~:.. ' ф: С.В. Заболотнов Т~тцьон, 8-~499 ~731-36-72 А ес злект онной почты: ~а1епЫгее~фпи11.гп .