Лекция 3 (Лекционный курс), страница 2
Описание файла
Файл "Лекция 3" внутри архива находится в папке "Лекционный курс". PDF-файл из архива "Лекционный курс", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "физико-химические основы электронных и нанотехнологий" из 4 семестр, которые можно найти в файловом архиве МГТУ им. Н.Э.Баумана. Не смотря на прямую связь этого архива с МГТУ им. Н.Э.Баумана, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "лекции и семинары", в предмете "физико-химические основы электронных и нанотехнологий" в общих файлах.
Просмотр PDF-файла онлайн
Текст 2 страницы из PDF
Типичные условия, в которых проявляетсякаждый из вариантов, приведены в табл. 3.1. Поведение плазмы в магнитных поляхрассматривается отдельным направлением физики – физикой плазмы. Плазма в магнитном поле стемпературой порядка 106 К (высокотемпературная плазма) используется в термоядерном синтезе.Частотный диапазонприложенного поляПостоянноенизкочастотноеэлектрическое полеВысокие частотыСВЧ диапазонОптический диапазонКлассификации разрядовТаблица 3.1Состояние ионизованного газаПробойНеравновесная плазмаРавновесная плазмаПоложительный столбЗажигание тлеющегоПоложительный столбдуги высокогоразряда в трубкетлеющего разрядадавленияЗажигание ВЧ разряда ВЧ емкостныеИндукционнаяв средах сразряды вплазменная горелкаразреженным газомразреженных газахПробой в волноводахСВЧ разряды вСВЧ плазмотрони резонаторахразреженных газахПробой газовЗавершающая стадияНепрерывныйлазерным излучением оптического пробояоптический разряд.