Отзыв ведущей организации (Зарядовые явления в диэлектрических пленках МДП-структур и элементов энергонезависимой памяти при сильнополевой инжекции электронов)
Описание файла
Файл "Отзыв ведущей организации" внутри архива находится в следующих папках: Зарядовые явления в диэлектрических пленках МДП-структур и элементов энергонезависимой памяти при сильнополевой инжекции электронов, Документы. PDF-файл из архива "Зарядовые явления в диэлектрических пленках МДП-структур и элементов энергонезависимой памяти при сильнополевой инжекции электронов", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "технические науки" из Аспирантура и докторантура, которые можно найти в файловом архиве МГТУ им. Н.Э.Баумана. Не смотря на прямую связь этого архива с МГТУ им. Н.Э.Баумана, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "остальное", в предмете "диссертации и авторефераты" в общих файлах, а ещё этот архив представляет собой кандидатскую диссертацию, поэтому ещё представлен в разделе всех диссертаций на соискание учёной степени кандидата технических наук.
Просмотр PDF-файла онлайн
Текст из PDF
»–««-»-»,.-.« 30 ».2016 .»,01.04.07 –...).,,-,65,.,,,---(high-k),,-.(-)(SiO2).SiO2,-.,,,-,.high-k,,-,,65.,-.--.,,.-.-..-,.high-kSiO2/HfO2,high-k-.high-k,high-kNAND.,NAND20--.,(V-Ramp),,-(J-Ramp),J-Ramp),(Bounded,,(IPE),C-V-,..-,;-,20;.,,,,,.-..,,,,-.,,,.SiO2,,,SiO2..,-.SiO2.-...-HfO2, Hf0.8Al0.2Ox,.HfO2,Hf0.8Al0.2Ox,,,-.HfO2,,,.SiO2-Hf0.8Al0.2Ox,.-,,.Si/TiNxSi/Ru.-,.,,,-:,,;,,,;-SiO2-;SiO2-Hf0.8Al0.2Ox;-Si/RuTiNx;high-k-..(,).-,,,-,«»–«-».-20.-,,,-.,,-..,:--;,SiO2,,-,,;;.,.-....9.,..,-«-»,,-II «»,24.09.201321.04.2016 N 335),842 (.-01.04.07 – «-»..,–«19»«2016 .».7-16.,.-.(01.04.10),.: 248640, .,., 8.: +7 (4842) 76-26-67.: kmikran@spark-mail.ru.–:–««».»-.