Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Физико-химические основы нанотехнологий (ФХОНТ)рк3рк3
2020-05-192020-05-19СтудИзба
Ответы: рк3
Описание
Задача 1
Используя уравнение регрессии D=123+37x1–11x2, рассчитайте значение минимально возможного латерального размера островковой наноструктуры, полученной в зависимости от параметров технологического процесса: расстояние испаритель–подложка [25;45] мм, время нанесения [35;40] с. Обратите внимание, что в уравнении регрессии факторы x1 и x2 приведены в безразмерном виде и соответствуют интервалу варьирования [–1;+1]. Укажите, какие процессы могут происходить на данном этапе формирования тонкопленочного покрытия в вакууме.
Используя уравнение регрессии D=123+37x1–11x2, рассчитайте значение минимально возможного латерального размера островковой наноструктуры, полученной в зависимости от параметров технологического процесса: расстояние испаритель–подложка [25;45] мм, время нанесения [35;40] с. Обратите внимание, что в уравнении регрессии факторы x1 и x2 приведены в безразмерном виде и соответствуют интервалу варьирования [–1;+1]. Укажите, какие процессы могут происходить на данном этапе формирования тонкопленочного покрытия в вакууме.
Характеристики ответов (шпаргалок)
Учебное заведение
Семестр
Просмотров
152
Покупок
10
Качество
Идеальное компьютерное
Размер
273,79 Kb
Список файлов
- рк3.docx 277,65 Kb