Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла (страница 2)

Концепция системы:

1. Протяженный ионно-лучевой источник распыления IBSS или двойной планарный магнетрон IzoMag с автоматически меняющимися мишенями из различных материалов.

2. Протяженный ионно-лучевой источник очистки IBCS, используемый для окончательной очистки поверхности подложки от микрочастиц, адсорбированных паров газов или молекул воды и подготовки ее к напылению.

Подложка загружается в рабочую камеру через шлюзовую систему и остается неподвижной в течение всего процесса напыления. Оптический контроль осуществляется непосредственно по самой подложке. Датчик кварцевого контроля также находится в плоскости подложки.

Будучи испытанной с широким перечнем распыляемых материалов (Ti, Ta, Nb, In-Sn (5%), Al, Mg, Si, Ge, Pb, Cu, Ag и т.д) и комбинацией газов (Ar, O₂, N₂, H₂, C₂H₂, C₃F₈, C₃H₈, и т.д.), установка PlsamaScan предоставляет неограниченные возможности для разработки и исследования новых процессов и тонкопленочных покрытий, что невозможно с использованием традиционного вакуумного напылительного оборудования.

Система ионно-лучевого распыления IBSS

Назначение. Система IBSS (рис.1) является высокоэффективным инструментом для качественного нанесения покрытий из металлов, сплавов, окислов, нитридов методом ионно-лучевого распыления протяженных мишеней в среде аргона, кислорода, азота, фреонов или смеси этих газов и позволяет обеспечить:

– нанесение проводников, полупроводников и диэлектриков;

– температуру подложки при распылении не выше 60°С (140°F).

– возможность последовательного распыления нескольких различных материалов в одном процессе;

– большой динамический диапазон скоростей нанесения

(1 Å/сек10 Å/сек);

– очень гладкую поверхность пленок;

– высокую плотность структуры пленок;

– однородный состав многокомпонентных пленок;

– возможность распыления мишеней длиной до 3360 мм;

– уровень неравномерности не хуже ±2% по поверхности распыления;

– надежную непрерывную работу;

– стабильные реактивные процессы распыления;

– возможность работы с инертными (Ar, He, Ne, и т.д.) и активными газами (O₂, N₂, CF_x, C_xH_y и т.д.);

– косое напыление.

Схема установки IBSS показана на рис.1.

Рис. 1 - Схема установки IBSS

Применение системы ионно-лучевого распыления IBSS наиболее эффективно в следующих областях:

– напыление на чувствительные к температуре подложки;

– высококачественные оптические пленки для дисплейной промышленности;

– высокоточная оптика;

– износоустойчивые пленки;

– сверхтонкие пленки (нанотехнологии).

Система распыления IzoMag является высокоэффективным инструментом для нанесения покрытий из металлов, сплавов, окислов и нитридов методом двойного магнетронного распыления на переменном токе с частотами 40…80 кГц и магнетронного распыления на постоянном токе.

Система двойного магнетронного распыления на постоянном/переменном токе IzoMag

Схема установки IzoMag представлена на рис. 2.

Рис. 2 - Схема установки IzoMag

Основные достоинства и преимущества IzoMag:

– возможность распыления от одного до четырех материалов мишеней в одном цикле на постоянном токе;

– возможность чередующегося нанесения слоев с низким и высоким коэффициентом преломления;

– возможность нанесения сплавов переменного состава при одновременном независимом распылении двух металлических мишеней на постоянном токе;

– возможность распыления мишеней длиной до 1646 мм;

– уровень неравномерности не хуже ±5% по поверхности распыления;

– надежная непрерывная работа.

Применение системы двойного магнетронного распыления IzoMag наиболее эффективно в следующих областях:

– высококачественные оптические пленки для дисплейной промышленности;

– износоустойчивые пленки;

– декоративные пленки;

– напыление на большие поверхности;

– оптические пленки;

– защитные пленки.

Система ионно-лучевой очистки IBCS

Описание изделия. Система ионно-лучевой очистки IBCS предназначена для финишной очистки поверхности подложки от молекулярных частиц, адсорбированных газов, полимерных фрагментов, воды, а также для активации поверхностных связей подложки в вакуумной камере непосредственно перед нанесением покрытия. Ионно-лучевая очистка гарантирует отличную адгезию между первым нанесенным слоем и подложкой. Ионно-лучевой источник очистки может поставляться с оригинальным блоком питания IPS-С5K.

Достоинства:

– возможность работы с инертными (Ar) и активными (O2, N2, CFx, CxHy ) газами и их смесями;

– очистка с равномерностью не хуже ±5% подложки с шириной до 3400 мм;

– надежная продолжительная работа;

– давление в вакуумной камере в процессе очистки

10-3…102Па;

– легкая и надежная установка в вакуумные установки поточного и периодического действия;

– возможность обработки поверхности под различными углами: 10 …90°;

– высокая скорость очистки;

– надежная адгезия без специальных подслоев;

– возможность обрабатывать различные типы подложек (металлические, полупроводники, диэлектрики, полимеры).

Применение. Система ионно-лучевой очистки (рис.3) обеспечивает эффективную атомарную очистку и подготовку поверхности подложки при использовании в следующих областях:

– нанесение покрытий на большие подложки при производстве плоскопанельных дисплеев (FPD);

– нанесение покрытий на большие подложки при производстве архитектурного стекла;

– производство кремниевых микроэлектронных чипов;

– оптика и лазеры;

– оптическая электроника и телекоммуникации.

Рис. 3 - Схема ионно-лучевого источника очистки

Автоматизированная установка "НИКОЛАЙ"

Установка предназначена для получения тонких пленок различных материалов на стекле, полиэтилене, металле, бумаге методом вакуумного дугового и магнетронного напыления. Установка позволяет получать полупрозрачные и зеркальные пленки на листовых и рулонных материалах, изделиях большого габарита.

Имеется возможность получения многокомпонентных составов (до шести элементов плюс реактивные газы).

Установка рассчитана на эксплуатацию в условиях умеренного климата. Управление установкой производится от ЭВМ, что гарантирует высокое качество и стабильность технологии.

Список литературы

1. Гибкие производственные комплексы /под.ред. П.Н.Белянина. – М.: Машиностроение, 1984. – 384с.

2. Гибкое автоматическое производство/под.ред. С.А.Майорова. – М.: Машиностроение, 1985. – 456с.

3. Иванов А.А. ГПС в приборостроении. – М.: Машиностроение,1988. – 282с.

Характеристики

Список файлов ответов (шпаргалок)