Диссертация (1137142), страница 11
Текст из файла (страница 11)
При удалении от границы разделавоздух-диэлектрик компоненты поля поверхностной волны убываютэкспоненциально, т.е. эта волна не дает вклад в поле излучения вволновой зоне.При вычислении поля в волновой зоне от пространственнойволны можно использовать метод перевала, суть которого состоит вприближенной оценке интегралов вида:I ( ) ( )e f ( ) dCпри больших значениях параметра ρ – объемной плотности зарядов.При условии, что функции φ(ξ) и f(ξ) являются аналитическимина контуре интегрирования С, получим:I ( ) e f ( 0 )2 (0 ) ( 3 2 ) f "(0 ),где 0 - корень уравнения f '(0 ) 0 .Переходя в выражениях для пространственной части поля кполярной системе координатx sin ,z cos и используяполученную формулу для тока, получим:H yr 1 j k 4 1 tg 1kde1 Г 2 (k sin ) 2 1kd, где 1 1 ' cos 2 .Отсюда находим диаграмму направленности открытого концаплоскопараллельноговолноводаиликромкиоднослойноймикрополосковой структуры в виде F1 ( ) 1 Г 2 (k sin ) tg ( 1kd ).
С 1kdучетом условия kd<<1 формула упрощается:82kd (1 ' cos 2 ) F1 ( ) 1 j1 'sin 1(3.1)Влияние обрыва однослойной диэлектрической подложки нахарактеристики излучения исследуется на основе второй модели,содержащейкромкуструктурыиограниченныйучастокдиэлектрической подложки.Обрыв слоя диэлектрика приводит к тому, что электрическиетоки на экране, индуцированные компонентой поля H yS , существуютна ограниченном участке экрана длиной L.
Такая площадка с токомявляется излучающей, т.е. происходит частичная трансформацияповерхностнойнеизлучающейволнывпространственнуюизлучающую волну.Другим источником дополнительного вторичного излученияявляется скачок компонент поля ExS и H yS в сечении по всей высотеструктурыd x .Определим вклад в поле излучения волновой зоны обоихдополнительных источников.Поверхностная плотность электрического тока на экранеJ 2n H S 2ax a y H yS 2az H yS ( x d ) 2 1 tgr1 11e j z az I ' e j z az .2 kA1 r1 cos r1 1 ' (r1 kd )211Интегрируя последнюю формулу с компонентой функции ГринаГ21,yz , получим следующую компоненту напряженности магнитногополя в виде:Lsin( 1 )I ' L j ( 1 ) L22 e j ( x z ) d , где k 2 2 .H 'y eL 4 ( 1 )2Применяя далее метод перевала, получим для дальней зоны:83kL sin j k 4 1 tgr1 11H 'y e22 kA1 r1 cos r1 1 ' (r1 kd ) 2sin( kL / 2) j kL /2e kL / 2где 1 ' (r1 / kd )2 cos .Для тонких диэлектрических слоев получим более простуюформулу:H 'y где F2 ( ) kL sin e j kL /2Выражение1e j k 4F2 ( ) ,sin( kL / 2), kL / 2(3.2)21 ' 1kd , 1 cos .21 'F2(θ)представляетсобойдиаграммунаправленности линейного электрического тока, бегущего вдольоси oz с замедленной фазовой скоростью.
Фазовый центр излучателянаходится в точкеz L/2.Определим далее вклад скачка поля поверхностной волны приzLна поле излучения в дальней зоне. Эквивалентными токами вэтом случае являются:J Э n H S az a y H yS ax H yS ( z L)J M n E S az ax ExS a y ExS ( z L)Отсюда для компонент токов и поля получим:J ЭхE011 ' (r1 kd )2J yM E0eE0 tdxet1 xd 1 tgr1 j Le. kA12 r1184Интегрируя выражения для компонент эквивалентных токов скомпонентой функции Грина Г21,ух и с компонентой Г21,уу , получим:Hy " t1 / dcos x 0 (t1 / d ) 2 2E011 e j1L j z d 2 1 ' (r1 / kd ) Интеграл по ξ вычисляется с помощью метода перевала:(t1 / kd )1 j k 4 1 1 tgr1Hy " e2222 k kA1 r1 (t1 / kd ) sin cos 1 1 ' (r1 / kd ) 2 e j ( k cos 1 ) LДля тонких диэлектрических слоев последнее выражение можноупростить:Hy " 1e j k 4(1 cos )2 2 sin 2 e jkL (1cos ) .Отсюда следует:F3 ( ) (1 cos )2 sin 22e jkL (1cos ) ,(3.3)где F3(θ) является диаграммой линейного распределения синфазновозбуждаемыхэлементовГюйгенса(множитель(1+cosθ))субыванием амплитуды по экспоненциальному закону при удалении отэкрана.Таким образом, аналитическое выражение для диаграммынаправленностикромкитонкойоднослойноймикрополосковойструктуры с учетом обрыва диэлектрической подложки определяетсятремя составляющими или суммой (3.1), (3.2) и (3.3):1kd (1 ' cos 2 ) j kL /2 sin( kL / 2)F ( ) 1 j kL sin e1 'sin kL / 2(1 cos )2 sin 22e jkL (1cos ) .85В случае многослойной подложки печатной платы необходимосуммировать полученные слагаемые для каждого из слоев.На рисунке 3.1 представлены полученные с помощью MathCADсоставляющие диаграммы направленности для однослойной (ɛ1=9,8),трехслойной (ɛ1=9,8; ɛ2=6,0; ɛ3=2,8) и пятислойной (ɛ1=16,0; ɛ2=9,8;ɛ3=6,0;ɛ4=3,8;ɛ5=2,8)подложекпечатныхплат,которыесоответствуют излучению кромок структур F1(), тока на подложкахF2() и распределению элементов Гюйгенса в плоскости обрываподложек F3() [72, 74].Рисунок 3.2демонстрируетсуммарныедиаграммынаправленности F(θ) для однослойной, трехслойной и пятислойнойпечатных плат при различных размерах подложек L/λ [75].Кривые F(θ) носят колебательный характер, число осцилляций иих амплитуда возрастают с увеличением числа слоев, а также размераподложки L/λ, т.к.
возможности интерференции волн, излученныхотдельными токами, при этом увеличиваются. Отклонение отпервоначальной диаграммы направленности кромки F1(θ) становитсяменее заметным с уменьшением относительной диэлектрическойпроницаемости материала слоев и относительной толщины подложкиd/λ.Результатывыводоаналитическогонеобходимостимоделированиячастотногоподтверждаютограничения,котороенакладывается на выбор толщины многослойной диэлектрическойподложки печатной платы для СВЧ устройств - ее суммарная толщинадолжна быть равна четверти рабочей длины волны. Так в диапазонедлин волн в 1 - 10 мм допустимая толщина платы составляет 0,25 2,5 мм.86Рисунок 3.1 - Составляющие диаграммы направленности для однослойной,трехслойной и пятислойной подложек печатных плат, соответствующиеизлучению кромок структур F1(), тока на подложках F2() ираспределению элементов Гюйгенса в плоскости обрыва подложек F3()87Рисунок 3.2 - Суммарные диаграммы направленности F(и) для однослойной,трехслойной и пятислойной подложек печатных плат и различныхразмеров подложек L/л88При дальнейшем увеличении рабочей частоты многослойнаяподложка печатной платы начинает сильнее проявлять резонансныесвойства, и при совпадении частоты сигнала и паразитных колебанийкромок на основной или кратных частотах СВЧ устройство не сможетобеспечить требуемых электрических параметров и характеристик.Анализ полученных кривых позволяет сделать вывод о том, чтозадачаобизлучениикромкимногослойнойдиэлектрическойподложки печатной платы во многом сходна с решением задачи одифракцииволннасинусоидальнойфазовойрешетке[76],представляющей собой в простейшем случае слой диэлектрика спериодически меняющейся толщиной.
При этом дифракционнаякартина содержит большое число максимумов, а энергиявзависимости от глубины фазового рельефа перераспределяется междусоставляющей нулевого и более высокого порядков. В случаеисчезновения нулевого порядка дифракции вся падающая надифракционнуюрешеткуэнергияраспределяетсяпобоковымлепесткам.3.2 Энергетические характеристики паразитногоизлучения кромокИнтенсивность паразитного излучения кромок печатных плат смногослойнымидиэлектрическимиподложкамихарактеризуетсяпроводимостями излучения для пространственных и поверхностныхволн, которые пропорциональны долям излученной или перенесенноймощности.В работе [73] показано, что для бесконечной структуры КПДизлучения по поверхностным волнам определяется как s GrGr Gs,89гдеGrиGs -нормированные проводимости излучения дляпространственной и поверхностной волн соответственно.Рисунок 3.3 – Зависимости КПД излучающей кромки для однослойной,трехслойной и пятислойной подложек печатных плат от относительнойтолщины на различных частотах90Приближенные выражения для расчета Gr и G s могут бытьзаписаны в виде Gr (1 / 4) , Gs 2 .
Тогда:s 4 4 7(3.4)Следует, однако, заметить, что формула для проводимостиизлучения должна учитывать также слагаемые для вторичных полейза счет дополнительного тока Gr1 и скачка поля на обрыве Gr 2 ,которыетакжевычисляютсяприближенно:Gr1 (1 2 2 ) , cos kL 1Gr 2 4 2 kL Si(kL) , где Si(kL) – интегральный синус. kLС учетом соотношений для вторичных полей приближенноевыражение для КПД паразитного излучения кромки на конечнойструктуре имеет вид: s' Gr Gr1 Gr 2Gr Gs(3.5)На рисунке 3.3 (а - в) показаны рассчитанные с помощьюMathCADоднослойнойзависимости(ɛ1=9,8),КПДизлучающейтрехслойной(ɛ1=9,8;кромкиɛ2=6,0;ɛ3=2,8)дляипятислойной (ɛ1=16,0; ɛ2=9,8; ɛ3=6,0; ɛ4=3,8; ɛ5=2,8) подложекпечатных плат от относительной толщины d / на частотах 1, 10 и20 ГГц. Из анализа данных графиков следует, что с увеличениемчисла слоев подложки и ростом частоты паразитное излучение кромоквозрастает. Поэтому при разработке микрополосковых СВЧ устройствна печатных платах с многослойными подложками в диапазоне свыше10 ГГц требуется экранирование пассивных конструкций, а такжеучет искажений, вносимых паразитным излучением кромок, надиаграммы направленности антенн и излучателей.91Таким образом, проведен анализ паразитного излучения двухмоделей многослойных подложек печатных плат СВЧ диапазона –первой в виде открытого конца плоскопараллельного волновода,имитирующего кромку микрополосковой бесконечной структуры, ивторой – содержащей кромку структуры и ограниченный участокдиэлектрической подложки.
Полученные результаты аналитическогомоделирования являются приближенными, они не учитывают,например, отражения и излучения части энергии поверхностнойволны, которая распространяется от обрыва в сторону кромки.3.3 Выводы по главе 31. Проведен анализ паразитного излучения двух моделеймногослойных подложек печатных плат СВЧ диапазона – первой ввидеоткрытогоконцаплоскопараллельноговолновода,имитирующего кромку микрополосковой бесконечной структуры, ивторой – содержащей кромку структуры и ограниченный участокдиэлектрической подложки.